JP2012126958A - 蒸着装置及び蒸着方法 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 162
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims abstract description 69
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 51
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 40
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 38
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 12
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 abstract description 14
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 3
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を簡素な構成の装置で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置1は、真空槽の外部に設けられたホスト材料用蒸気発生源3h、ドーパント材料用蒸気発生源3dと、互いの雰囲気が隔離され、ホスト材料用蒸気発生源3h、ドーパント材料用蒸気発生源3dから供給される有機材料の蒸気をそれぞれ基板15に向って面状に放出するホスト材料用蒸気放出器5h、ドーパント材料用蒸気放出器5dを有する蒸気放出器ユニット2とを備える。ホスト材料用蒸気放出器5h、ドーパント材料用蒸気放出器5dは、蒸気放出基準点Oを中心として放射状に配列され当該蒸気放出基準点Oからの距離に応じて当該蒸発材料の蒸気の放出量が増加するように構成された複数の蒸気放出口7h,7dを有する。
【選択図】 図1
Description
特許文献1に係る従来技術は、インラインの基板を移動させながら成膜を行うものであり、このようなインライン方式の蒸着装置では基板を移動させる機構が必須であるため、装置構成が複雑でコストアップを招くという問題がある。
また、この従来技術では、膜厚分布を均一にすることが困難であり、大面積の基板に対して膜厚が均一の成膜を行うことができない。
加えて、この従来技術では、ホスト材料の蒸発装置とドーパント材料の蒸発装置が相互に汚染され、基板上における膜質分布を均一にすることが困難である。
また、本発明の他の目的は、異なる蒸発材料を用いて蒸着を行う場合に複数の蒸気放出器が相互に汚染されるおそれがない技術を提供することにある。
本発明では、前記蒸気放出器ユニットが、前記蒸気放出基準点を中心として円周方向に関して交互に配置された第1及び第2の蒸気放出器を有する場合にも効果的である。
本発明では、前記複数の蒸気放出器の蒸気放出口が、前記蒸気放出基準点を中心として同心円上に配置されている場合にも効果的である。
本発明では、前記複数の蒸気発生源、当該複数の蒸気発生源から前記複数の蒸気放出器に蒸発材料の蒸気を導入する蒸気導入手段、及び当該前記複数の蒸気放出器が、それぞれ独自に温度を制御するように構成されるとともに、互いに熱伝達を防止する断熱構造を有している場合にも効果的である。
本発明では、前記複数の蒸気放出器の蒸気放出口が、円弧形状に形成されている場合にも効果的である。
本発明では、前記複数の蒸気放出器の蒸気放出口が、前記蒸気放出基準点を中心とする複数の同心円上に設けられている場合にも効果的である。
本発明では、前記蒸気放出器ユニットが、前記蒸気放出基準点を中心とする複数の同心円上に設けられた複数の蒸気放出部を有し、当該蒸気放出部には、それぞれ複数の蒸気放出口が設けられている場合にも効果的である。
一方、本発明は、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で基板表面に有機膜を形成する方法であって、蒸発材料として、有機EL装置の有機薄膜層を形成するためのホスト材料とドーパント材料を用いる蒸着方法である。
また、本発明は、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で基板表面に膜を形成する方法であって、蒸発材料として、フッ化リチウム又は三酸化モリブデンを用いる蒸着方法である。
また、本発明によれば、複数の蒸気放出器は互いの雰囲気が隔離されていることから、異なる蒸発材料(例えば、ドーパント材料とホスト材料、光の三原色の蒸気を発生させるための蒸発材料)を用いて同時に成膜を行う場合であっても、各蒸気放出器が相互に汚染されるおそれがない。
また、本発明によれば、成膜対象物を移動させる必要がない(固定成膜)ので、構成が簡素な蒸着装置を提供することができる。
本発明において、蒸気放出器ユニットが、蒸気放出基準点を中心として円周方向に関して交互に配置された第1及び第2の蒸気放出器を有する場合には、蒸気放出器と成膜対象物との間において、異なる蒸発材料の蒸気を十分に混合することができるため、共蒸着した膜の膜厚及び膜質の均一性をより高めることができる。
本発明において、複数の蒸気放出器の蒸気放出口が、蒸気放出基準点を中心として同心円上に配置されている場合には、成膜対象物上における膜厚及び膜質の均一性をより高めることができる。
本発明において、複数の蒸気発生源、複数の蒸気発生源から複数の蒸気放出器に蒸発材料の蒸気を導入する蒸気導入手段、及び複数の蒸気放出器が、それぞれ独自に温度を制御するように構成されるとともに、互いに熱伝達を防止する断熱構造を有している場合には、蒸発温度差の大きい異なる蒸発材料(例えばホスト材料とドーパント材料)を用いる場合に、蒸気発生源、蒸気導入手段及び蒸気放出器内において、蒸発温度が低い蒸発材料の分解を防止することができ、また、蒸着重合の場合には、蒸気発生源、蒸気導入手段及び蒸気放出器内において、蒸発材料の反応を防止することができる。
本発明において、蒸気放出器の蒸気放出口が、円弧形状に形成されている場合、また、蒸気放出器の蒸気放出口が、蒸気放出基準点を中心とする複数の同心円上に設けられている場合、また、蒸気放出器が、蒸気放出基準点を中心とする複数の同心円上に設けられた蒸気放出部を有し、当該蒸気導入部には、それぞれ複数の蒸気放出口が設けられている場合には、大型の成膜対象物、特に円形やリング形状の成膜対象物上における膜厚及び膜質の均一性をより高めることができ、これにより例えば均一な面内分布で発光する有機EL照明平面ランプを提供することができる。
一方、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で基板表面に有機膜を形成する際に、蒸発材料として、有機EL装置の有機薄膜層を形成するためのホスト材料とドーパント材料を用いる場合には、大型基板を用いる有機EL装置の有機薄膜層を均一且つ高速で形成することができる。
また、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で基板表面に膜を形成する際に、蒸発材料として、フッ化リチウムを用いる場合には、大型基板を用いる有機EL装置の電子注入層を均一且つ高速で形成することができる。
さらに、上述したいずれかの蒸着装置を用い、真空中で基板表面に膜を形成する際に、蒸発材料として、三酸化モリブデンを用いる場合には、大型基板を用いる有機EL装置の陽極バッファ層を均一且つ高速で形成することができる。
図1(a)は、本発明に係る蒸着装置の実施の形態の蒸気放出器の概略平面図、図1(b)は、図1(a)の蒸気放出器のA−A線断面図である。
また、図2は、同蒸気放出器の蒸気放出口の配置を説明するための平面図である。
以下、蒸着装置の上下関係については図1(b)に示す構成に基づいて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
この蒸気放出器ユニット2は、真空槽の外部に設けられたホスト材料用蒸気発生源3h、ドーパント材料用蒸気発生源3dに接続されている。
本実施の形態の場合、ホスト材料用蒸気放出器5h、ドーパント材料用蒸気放出器5dは、同一形状の蒸気放出面6h、6dを有している。
そして、ホスト材料用蒸気放出器5h及びドーパント材料用蒸気放出器5dは、上記蒸気放出基準点Oの周囲において、円周方向に関して交互に配置されている。
また、同様の観点から、隣接するドーパント材料用蒸気放出器5dについて、蒸気放出口7d1同士、また蒸気放出口7d2、7d3の間隔が等しく、かつ、蒸気放出基準点Oを中心とする同心円上に配置することが好ましい。
そして、この鉛直導入部8Vの下端部に、水平方向に延びる水平導入部8Hが接続され、この水平導入部8Hは、バルブ33hを介して上記ホスト材料用蒸気発生源3hの蒸発容器30hに接続されている。
一方、ドーパント材料用蒸気放出器5dのドーパント材料導入部9dは、蒸気放出基準点Oを通る鉛直線分L上において鉛直方向に延びるパイプ状の鉛直導入部9Vを有している。
また、ドーパント材料導入部9dの鉛直導入部9Vは、その上端部において、蒸気導入室11及び蒸気導入口12を介して各ドーパント材料用蒸気放出器5dと接続されている。
これにより、ホスト材料用蒸気放出器5hの蒸気放出口7hからホスト材料の蒸気が基板15に向って面状に放出されるとともに、ドーパント材料用蒸気放出器5dの蒸気放出口7dからドーパント材料の蒸気が基板15に向って面状に放出され、基板15全表面にホスト材料及びドーパント材料の共蒸着膜が形成される。
図3及び図4は、本発明における蒸気放出器の他の例を示す平面図であり、以下、上記実施の形態と対応する部分には、同一の符号を付しその詳細な説明を省略する。
図4に示すように、本例の蒸気放出口70hは、例えば上述した蒸気放出基準点Oを中心とする同心円C1〜C6上にそれぞれ配置されている。
さらに、同様の観点から、隣接するドーパント材料用蒸気放出器5dについて、蒸気放出口70d同士、また蒸気放出口70dの間隔が等しくなるように構成することが好ましい。
図5(a)は、本発明に係る蒸着装置の他の実施の形態の蒸気放出器の概略平面図、図5(b)は、図5(a)の蒸気放出器のB−B線断面図である。
以下、上記実施の形態と対応する部分には、同一の符号を付しその詳細な説明を省略する。
この鉛直導入部8Vの上面には、蒸気放出基準点Oを中心として例えば等しい角度で放射状に配置された複数(本実施の形態では6個)の蒸気放出ノズル40h、41h、42h、43h、44h及び45hが複数組(本実施の形態では8組)設けられている。
ここで、蒸気放出口50h〜55hは、蒸気放出基準点Oからの距離に応じてノズルの径が大きくなるように形成され、これにより蒸気放出基準点Oからの距離に応じて有機材料の蒸気の放出量を増加するようになっている。
ここで、蒸気放出口50d〜55dは、蒸気放出基準点Oからの距離に応じてノズルの径が大きくなるように形成され、これにより蒸気放出基準点Oからの距離に応じて有機材料の蒸気の放出量を増加するようになっている。
その他の構成及び作用効果については上述の実施の形態と同一であるのでその詳細な説明を省略する。
例えば、蒸気放出器ユニットにおける蒸気放出器の数は上述した実施の形態のものには限られず、適宜変更することができる。
加えて、本発明は、有機材料のみならず、フッ化リチウム(LiF)や三酸化モリブデン(MoO3)等の無機材料についても適用することができる。
2…蒸気放出器ユニット
3h…ホスト材料用蒸気発生源(蒸気発生源)
3d…ドーパント材料用蒸気発生源(蒸気発生源)
5h…ホスト材料用蒸気放出器(第1の蒸気放出器)
5d…ドーパント材料用蒸気放出器(第2の蒸気放出器)
7h,7d…蒸気放出口
8h…ホスト材料導入部
9d…ドーパント材料導入部
15…基板(成膜対象物)
Claims (9)
- 成膜対象物が配置される真空槽と、
前記真空槽の外部に設けられ蒸発材料での蒸気を発生させる複数の蒸気発生源と、
互いの雰囲気が隔離され、前記複数の蒸気発生源から供給される蒸発材料の蒸気をそれぞれ前記成膜対象物に向って面状に放出する複数の蒸気放出器を有する蒸気放出器ユニットとを備え、
前記蒸気放出器ユニットの複数の蒸気放出器が、当該蒸発材料の蒸気を放出する際の基準となる蒸気放出基準点を中心として放射状に配列され当該蒸気放出基準点からの距離に応じて当該蒸発材料の蒸気の放出量が増加するように構成された複数の蒸気放出口を有する蒸着装置。 - 前記蒸気放出器ユニットが、前記蒸気放出基準点を中心として円周方向に関して交互に配置された第1及び第2の蒸気放出器を有する請求項1記載の蒸着装置。
- 前記複数の蒸気放出器の蒸気放出口が、前記蒸気放出基準点を中心として同心円上に配置されている請求項1又は2のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記複数の蒸気発生源、当該複数の蒸気発生源から前記複数の蒸気放出器に蒸発材料の蒸気を導入する蒸気導入手段、及び当該前記複数の蒸気放出器が、それぞれ独自に温度を制御するように構成されるとともに、互いに熱伝達を防止する断熱構造を有している請求項1乃至3のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記複数の蒸気放出器の蒸気放出口が、円弧形状に形成されている請求項1乃至4のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記複数の蒸気放出器の蒸気放出口が、前記蒸気放出基準点を中心とする複数の同心円上に設けられている請求項1乃至5のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 前記蒸気放出器ユニットが、前記蒸気放出基準点を中心とする複数の同心円上に設けられた複数の蒸気放出部を有し、当該蒸気放出部には、それぞれ複数の蒸気放出口が設けられている請求項1乃至6のいずれか1項記載の蒸着装置。
- 請求項1乃至請求項7のいずれか1項記載の蒸着装置を用い、真空中で基板表面に有機膜を形成する方法であって、
蒸発材料として、有機EL装置の有機薄膜層を形成するためのホスト材料とドーパント材料を用いる蒸着方法。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか1項記載の蒸着装置を用い、真空中で基板表面に膜を形成する方法であって、
蒸発材料として、フッ化リチウム又は三酸化モリブデンを用いる蒸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010279484A JP5685433B2 (ja) | 2010-12-15 | 2010-12-15 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010279484A JP5685433B2 (ja) | 2010-12-15 | 2010-12-15 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012126958A true JP2012126958A (ja) | 2012-07-05 |
JP5685433B2 JP5685433B2 (ja) | 2015-03-18 |
Family
ID=46644319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010279484A Active JP5685433B2 (ja) | 2010-12-15 | 2010-12-15 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5685433B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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A621 | Written request for application examination |
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