JP2008174803A - 蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置 - Google Patents

蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008174803A
JP2008174803A JP2007009891A JP2007009891A JP2008174803A JP 2008174803 A JP2008174803 A JP 2008174803A JP 2007009891 A JP2007009891 A JP 2007009891A JP 2007009891 A JP2007009891 A JP 2007009891A JP 2008174803 A JP2008174803 A JP 2008174803A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor
vapor deposition
closing member
heating container
outlet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007009891A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Yotsuya
真一 四谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2007009891A priority Critical patent/JP2008174803A/ja
Publication of JP2008174803A publication Critical patent/JP2008174803A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

【課題】蒸気流の放出の開始時および終了時の切り換えを短時間に行なうことができ、かつ、蒸着材料の無駄な消費を抑えることができる蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置を提供すること。
【解決手段】蒸着用蒸気放出装置12Aにおいて、加熱容器41は、容器本体42と蓋部材43とから構成され、蓋部材43の上底部43bの一部には蒸気出口43aが形成されているが、成膜停止時、蒸気出口43aは閉塞部材45によって塞がれた閉状態にある。この状態から、閉塞部材45を回転させると、閉塞部材45の蒸気入口45dが蒸気出口43aと重なり、蒸気出口43aは、蒸気入口45dおよび閉塞部材45の内部空間45rを介して連通する開状態になり、蒸気流放出口45eから蒸気流が放出される。
【選択図】図2

Description

本発明は、蒸着装置において蒸着材料を加熱して蒸気流を放出する蒸着用蒸気流放出装置、およびこの蒸着用蒸気流放出装置を備えた蒸着装置に関するものである。
真空蒸着法および蒸着装置では、坩堝などの蒸着用蒸気流放出装置を用いて蒸着材料を加熱して蒸着材料を気化させ、これにより発生した蒸着材料の分子や原子の蒸気流を被処理基板に入射させることにより、被処理基板に薄膜を形成する(非特許文献1参照)。
このような蒸着装置では、一般に、図6に示すように、蒸着室811内の上方位置に被処理基板20を保持する基板ホルダ819が配置され、下方位置に被処理基板20に向けて蒸着材料の蒸気流を供給する蒸着源812が配置されている。蒸着源812は、蒸着材料が装填された坩堝840と、坩堝840内の蒸着材料を加熱するための加熱装置813とを備えており、坩堝840には、その上部開口を開閉するシャッタ814が配置されており、シャッタ814が回転および昇降することにより、坩堝840の上部開口が開閉される。なお、真空蒸着装置800を用いて被処理基板20に所定パターンを有する薄膜を形成する場合は、被処理基板20の被成膜面側に、蒸着パターンに対応するマスク開口部が形成された蒸着用マスク31を重ねた状態で蒸着を行う。
しかしながら、図6に示す真空蒸着装置800では、蒸着の終了時、シャッタ814によって坩堝840の上部開口の封鎖するには、シャッタ814が坩堝810の上方まで回転移動した後、下降させる必要があるため、坩堝840の上部開口を完全に閉状態とするまでに時間がかかるという問題点がある。このため、膜厚精度が低いという問題点がある。また、蒸気流は蒸着用坩堝840の上部開口から360°全周方向に向かって飛散するため、蒸着用坩堝840より放出された蒸着流のうち、数%程度といった一部が被処理基板20の被成膜面に到達するだけで、残りの大半は蒸着室811の内壁に配置されている防着板(図示せず)などに付着するため、蒸着材料の無駄な消費が多い。
そこで、坩堝に対して放出用容器を設けるとともに坩堝と放出用容器とをパイプで接続し、パイプに配置されたバルブにより坩堝から放出口に向かう蒸気流の流量を制御する構成が提案されている(特許文献1参照)。
ジークフリート・シラー、ウルリッヒ・ハイジッヒ著、真空蒸着(アグネ社)、p.35−p.38 特開2004−307877号公報
しかしながら、特許文献1に記載の蒸着装置のように、バルブを内蔵するパイプによって坩堝と放出用容器とを接続する構成においては蒸着源が大型化してしまうため、蒸着材料を加熱する際、蒸着源を構成する部材全体を均質に加熱することが困難であり、温度が不均一になりやすい。その結果、温度の低い部分に蒸着材料が凝集、析出し、最悪の場合、析出した蒸着材料が蒸気流の流路を塞ぎ、これにより成膜動作が停止してしまうという問題点がある。
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、蒸気流の放出の開始時および終了時の切り換えを短時間に行なうことができ、かつ、蒸着材料の無駄な消費を抑えることができる蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明では、蒸着材料を加熱して当該蒸着材料の蒸気流を放出する蒸着用蒸気流放出装置において、上面に蓋部を備えるとともに当該蓋部の一部に蒸気出口が形成された加熱容器と、前記蓋部の上面に被さるように配置された閉塞部材と、を有し、前記閉塞部材には、当該閉塞部材の下面で開口する蒸気入口と、該蒸気入口に連通し、当該閉塞部材の上面で開口する蒸気流放出口とが形成されており、前記蒸気出口は、前記加熱容器と前記閉塞部材とが相対移動することにより、前記閉塞部材によって塞がれた閉状態と、前記蒸気入口と連通した開状態とに切り換えられることを特徴とする。
本発明において、加熱容器内に装填された蒸着材料は、加熱容器内で加熱され、加熱容器内では蒸着材料の蒸気が発生する。本発明では、加熱容器の上面に蓋部が形成され、蓋部の一部には蒸気出口が形成されているが、成膜停止時、蒸気出口は閉塞部材によって塞がれた閉状態にあるので、蒸気流は放出されない。この状態から、加熱容器と閉塞部材とが相対移動し、閉塞部材の上面に形成されている蒸気流放出口と蒸気出口とが連通する開状態になると、加熱容器内で発生した蒸着材料の蒸気は、蒸気出口および蒸気流放出口を通って蒸気流として放出され、被処理基板に対する蒸着が行なわれる。このように本発明では、加熱容器に蓋部が形成されているとともに、蓋部の一部に形成されている蒸気出口を閉塞部材によって開閉するので、蒸気出口の開閉を極めて短時間で行なうことができる。それ故、蒸気流の放出の開始および終了を瞬時に行なうことができるので、成膜の開始および終了を瞬時に切り換えることができ、膜厚精度の向上を図ることができる。また、加熱容器の上部開口全体から蒸気流が放出されるのではなく、蒸着材料の蒸気は、加熱容器の上部に設けた蓋部の一部で開口する蒸気出口を通過した後、閉塞部材の蒸気流放出口から放出されるので、蒸気流は、ある程度絞った状態で放出される。従って、蒸着分子や蒸着原子が被処理基板に到達する比率が高いので、蒸着材料の無駄な消費を低く抑えることができる。また、成膜停止時、閉塞部材は加熱容器の蓋部に被さった状態にあり、加熱容器の熱で十分、均一に加熱されることから、蒸着材料が閉塞部材上で凝縮、析出するという事態も回避することができる。
本発明において、前記閉塞部材には、前記蒸気流放出口の開口面積より断面積の広い内部空間が形成され、前記蒸気入口と前記蒸気流放出口とは、前記内部空間を介して連通していることが好ましい。このように構成すると、蒸気流を十分、絞った状態で放出できるため、蒸着分子や蒸着原子が被処理基板に到達する比率が高いので、蒸着材料の無駄な消費を低く抑えることができる。
本発明においては、前記加熱容器と前記閉塞部材とが前記蓋部の上面と前記閉塞部材との接触面に沿う方向に相対移動することにより、前記蒸気出口が前記閉状態と前記開状態とに切り換えられる構成を採用することができる。このように構成すると、前記加熱容器と前記閉塞部材とが前記蓋部の上面と前記閉塞部材との接触面に沿う方向に相対移動するだけでよいので、閉状態(成膜停止)と開状態(成膜)とを短時間で切り換えることができる。
この場合、前記閉塞部材が固定で前記加熱容器が前記蓋部の上面と前記閉塞部材との接触面に沿う方向に回転あるいは直動する構成、前記加熱容器が固定で前記閉塞部材が前記蓋部の上面に沿うように回転あるいは直動する構成を採用することができる。これらの構成のうち、閉塞部材が固定の場合には、蒸気流放出口の位置が移動しないという利点がある。これに対して、閉塞部材が移動する場合には、移動のための機構を簡素化できるという利点がある。
本発明において、前記加熱容器と前記閉塞部材とが相対移動する場合でも蒸気流放出口の位置が移動せず、かつ、閉塞部材の方を移動させて移動のための機構を簡素化するという観点からすれば、前記閉塞部材は、前記蓋部の上面に沿うように前記加熱容器に対して回転し、前記閉塞部材の上面のうち、当該閉塞部材の回転中心軸線上で前記蒸気流放出口が開口し、前記閉塞部材の下面では、前記蒸気入口が前記回転中心軸線上から外れた位置で開口しており、前記閉塞部材が回転した際の前記蓋部上における前記蒸気入口の回転軌跡上の所定位置で前記蒸気出口が開口している構成を採用することが好ましい。このように構成すると、閉塞部材の回転中心軸線上に蒸気流放出口が位置しているので、閉塞部材が回転しても蒸気流放出口の位置が移動しない。また、閉塞部材が回転するので、加熱容器を回転させる場合に比較して、回転のための機構を簡素化できるという利点がある。しかも、回転式であれば、直動式に比較して、閉塞部材が移動するためのスペースを別途、確保する必要がなく、かつ、閉塞部材に対する支持機構も簡素化できるという利点がある。
本発明において、前記加熱容器と前記閉塞部材の相対移動によって前記蒸気出口の開度が変化することが好ましい。このように構成すると、蒸気出口の開度調整によって成膜速度の制御を行なうことができる。
本発明において、前記加熱容器と前記閉塞部材とが相対移動する構成としては、前記加熱容器と前記閉塞部材とは、前記蒸気出口の開口方向において接近する方向および離間する方向に相対移動する構成を採用してもよい。この場合、前記加熱容器と前記閉塞部材とが離間する方向に相対移動して前記蓋部と前記閉塞部材との間に形成される空間を介して前記蒸気出口と前記蒸気入口とが連通することにより前記閉状態から前記開状態への切り換えが行なわれる。このように構成すると、前記加熱容器と前記閉塞部材とが接近する方向および離間する方向に相対移動するだけでよいので、閉状態(成膜停止)と開状態(成膜)とを短時間で切り換えることができる。
本発明において、前記加熱容器は、蒸着材料が装填される容器本体と、該容器本体に対して着脱可能な蓋部材とを備え、当該蓋部材に前記蓋部が構成されていることが好ましい。このように構成すると、容器本体から蓋部材を外した状態で容器本体に蒸着材料を装填することができるので、加熱容器の上部に蓋部を設けた場合でも、蒸着材料の装填を容易に行なうことができる。
本発明に係る蒸着用蒸気流放出装置を蒸着室内に有する蒸着装置によれば、蒸気流の放出の開始時および終了時の切り換えを短時間に行なうができ、かつ、蒸着材料の無駄な消費を抑えることができる。
図面を参照して、本発明を適用した蒸着用蒸気流放出装置、この蒸着用蒸気流放出装置を備えた蒸着装置、および蒸着装置を用いた蒸着法について説明する。なお、以下の実施の形態では、蒸着としてマスク蒸着を行う場合を例示する。
[実施の形態1]
(蒸着装置の全体構成)
図1は、本発明を適用した蒸着装置の構成を示す概略構成図である。図1に示すように、本形態の真空蒸着装置100では、蒸着室11内の上方位置に、被処理基板20および蒸着用マスク31を保持する基板ホルダ19が配置されており、蒸着用マスク31は、被処理基板20の下面側(被成膜面側)の所定位置に重ねられた状態にある。蒸着用マスク31は、被処理基板20に成膜する所定の蒸着パターンに対応する複数のマスク開口部310が形成されている。蒸着室11において、被処理基板20の下方には、その側方に水晶振動子18(蒸着レート測定器)が配置されており、水晶振動子18は、被処理基板20に形成される単位時間当たりの薄膜の膜厚、即ち、蒸着レートを測定する。
蒸着室11内の下方位置、かつ、被処理基板20の中心に対する真下位置から側方にずれた位置には、被処理基板20に向けて蒸着分子や蒸着原子などの蒸着粒子からなる蒸気流を供給する蒸着用蒸気放出装置12Aが配置されており、被処理基板20を回転させながら蒸着を行うことにより、被処理基板20に形成される薄膜の膜厚を均一化することが可能である。
(蒸着用蒸気流放出装置の構成)
図2(a)、(b)、(c)は各々、本発明の実施の形態1に係る蒸着用蒸気放出装置の分解斜視図、この蒸着用蒸気放出装置において加熱容器の蒸気出口の閉状態を示す断面図、および蒸気出口の開状態を示す断面図である。
図1に示すように、蒸着用蒸気放出装置12Aは、蒸着材料が装填された加熱容器41と、加熱容器41内の蒸着材料を加熱するための加熱装置13とを備えている。また、蒸着用蒸気放出装置12Aは、加熱容器41の上方に配置された閉塞部材45と、蒸着室11内の外部から閉塞部材45を駆動するための駆動機構50とを備えている。加熱容器41および閉塞部材45は、例えば、純銅を旋盤などで削り出すことにより作製することができる。また、蒸着材料が銅と反応するものがある場合、加熱容器41および閉塞部材45は、石英、炭化珪素、グラファイト、アルミナなどにより作製される。
加熱装置13は、内側に加熱容器41を装着可能な凹部133を備えた有底筒状のヒートブロック131と、このヒートブロック131内に配置された電熱線などの発熱体132とを備えており、ヒートブロック131あるいは加熱容器41の温度を熱電対などで監視しながら発熱体132への給電を制御する。なお、加熱装置13は、加熱容器41をヒートブロック131内に保持した状態で蒸着室11の底部に固定されている。
図1および図2(a)、(b)、(c)に示すように、加熱容器41は、蒸着材料を装填するための有底円筒状の容器本体42と、容器本体42の上部開口を覆う有底円筒状の蓋部材43とを備えている。蓋部材43の円筒状胴部43cの内周面には雌ネジ43dが形成されている一方、容器本体42の円筒状胴部42aの外周上端部には雄ネジ42bが形成されており、雌ネジ43dおよび雄ネジ42bによって、容器本体42の上端側に蓋部材43を着脱可能とするネジ機構40が構成されている。
加熱容器41において、蓋部材43の上底部43bには、上底部43bの中央位置を中心とする円弧状の貫通穴からなる蒸気出口43aが形成されている。
閉塞部材45は、円筒状胴部45aと、この円筒状胴部45aの下部開口を塞ぐ下板部45bと、円筒状胴部45aの上部開口を塞ぐ上板部45cとを備えた中空体である。上板部45cの中央位置には、円形の貫通穴からなる蒸気流放出口45eが形成されている一方、下板部45bにおいてその中心位置からずれた位置には、下板部45bの中央位置を中心とする円弧状の貫通穴からなる蒸気入口45dが形成されており、蒸気入口45dと蒸気流放出口45eとは、閉塞部材45の内部空間45rを介して連通している。内部空間45rは、蒸気入口45dの開口面積および蒸気流放出口45eの開口面積よりも大きな断面積を有している。上板部45cにおいて、蒸気流放出口45eは、下方から上方に向かうにしたがって拡径している。
ここで、下板部45bの中心位置から蒸気入口45dまでの半径距離は、蓋部材43の中心位置からの蒸気出口43aまでの半径距離と一致している。
下板部45bの中央位置には、蓋部材43に向かって突出した支軸46が形成されており、支軸46は、蓋部材43の上底部43bの中心に形成されている小穴43e内に回転可能に嵌っている。
図1に示す駆動機構50は、加熱容器41の上面にて閉塞部材45を、矢印Rで示すように、支軸46を中心に回転させるための機構であり、蒸着室11の外部に配置された駆動モータ51と、駆動モータ51のモータ軸に連結されて蒸着室11の内部まで延びた回転軸52と、回転軸52の先端部分に固定されたウォームネジ53と、閉塞部材45の外周面においてウォームネジ53と噛合するウォームホイール54とによって構成されている。
(本形態の動作および主な効果)
このように構成した蒸着用蒸気放出装置12Aにおいて、加熱容器41内に装填された蒸着材料は、加熱容器41内で加熱され、加熱容器41内では蒸着材料の蒸気が発生する。ここで、加熱容器41は、容器本体42と、この容器本体42の上部開口を塞ぐ蓋部材43とから構成され、蓋部材43の上底部43bの一部には蒸気出口43aが形成されているが、図2(b)に示すように、成膜停止時、蒸気出口43aは閉塞部材45によって塞がれた閉状態にあるので、蒸気流は放出されない。
この状態から、駆動機構50によって、矢印Rで示すように、支軸46を中心に閉塞部材45を回転させると、閉塞部材45は、蓋部材43の上面との接触面に沿って移動する。その結果、図2(c)に示すように、閉塞部材45の下板部45bに形成されている蒸気入口45dが蒸気出口43aと重なると、蒸気出口43aは、蒸気入口45dおよび閉塞部材45の内部空間45rを介して蒸気流放出口45eと連通する開状態になる。そのため、加熱容器41内で発生した蒸着材料の蒸気は、蒸気出口43a、蒸気入口45d、閉塞部材45の内部空間45r、および蒸気流放出口45eを通って蒸気流として放出され、被処理基板20に対する蒸着が行なわれる。
このように本形態では、蓋部材43の上底部43bによって加熱容器41の蓋部が形成されているとともに、蓋部(蓋部材43の上底部43b)の一部に形成されている蒸気出口43aを閉塞部材45によって開閉するので、蒸気出口43aの開閉を極めて短時間で行なうことができる。それ故、蒸気流の放出の開始および終了を瞬時に行なうことができるので、従来の坩堝の構造を一部改良するだけで、成膜の開始および終了を瞬時に切り換えることができ、膜厚精度の向上を図ることができる。
また、加熱容器41(容器本体42)の上部開口全体から蒸気流が放出されるのではなく、蒸着材料の蒸気は、蓋部材43の上底部43bの一部に形成した蒸気出口43aを通過した後、閉塞部材45の蒸気入口45dから閉塞部材45の内部空間45rに進入し、しかる後に、蒸気流放出口45eから放出されるので、蒸気流は、絞った状態で放出される。従って、蒸着分子や蒸着原子が被処理基板20に到達する比率が高いので、蒸着材料の無駄な消費を低く抑えることができる。また、成膜停止時、閉塞部材45は加熱容器41の蓋部材43に被さった状態にあり、加熱容器41の熱で十分、均一に加熱されることから、蒸着材料が閉塞部材45上で凝縮、析出するという事態も回避することができる。
さらに、加熱容器41側の蒸気出口43aと閉塞部材45側の蒸気入口45dとの重なり度合いによって、蒸気出口43aの開度を調節できる。それ故、成膜時、閉塞部材45の回転位置を調整するだけで蒸気流の放出速度を調節でき、成膜速度を制御することができる。
また、閉塞部材45は、蓋部材43の上面に沿うように加熱容器41に対して回転する一方、閉塞部材45の上面のうち、閉塞部材45の回転中心軸線上で蒸気流放出口45eが開口している。このため、閉塞部材45が回転しても蒸気流放出口45eの位置が移動しない。それ故、成膜時、閉塞部材45の回転位置を調整して蒸気流の放出速度を調節した際でも、蒸気流放出口45eの位置が移動しないので、蒸気流放出口45eと水晶振動子18との位置関係が一定である。それ故、閉塞部材45の回転位置を調整しても、水晶振動子18によって常に正確に成膜速度をモニターすることができる。
また、閉塞部材45が回転するので、加熱容器41を回転させる場合に比較して、回転のための機構を簡素化できるという利点がある。しかも、回転式であれば、直動式に比較して、閉塞部材45が移動するためのスペースを別途、確保する必要がなく、かつ、閉塞部材45を回転させる際、加熱容器41の上面をガイド面として利用できるので、閉塞部材45に対する支持機構も簡素化できるという利点がある。
また、加熱容器41は、蒸着材料が装填される容器本体42と、蒸気出口43aが形成された蓋部材43とから構成され、蓋部材43は容器本体42に対して着脱可能である。従って、加熱容器41の上部に蓋部を設けた場合でも、蒸着材料の装填を容易に行なうことができる。
[実施の形態1の変形例]
実施の形態1では、加熱容器41を固定とし、閉塞部材45を加熱容器41に対して回転移動させる構成であったが、閉塞部材45を固定とし、加熱容器41を閉塞部材45に対して回転移動させる構成を採用してもよい。
また、実施の形態1では、閉塞部材45と加熱容器41とをそれらの接触面に沿うように相対的に回転させる構成を採用したが、閉塞部材45と加熱容器41とをそれらの接触面に沿うように相対的に直動させる構成を採用してもよい。
[実施の形態2]
(全体構成)
図3(a)、(b)、(c)は各々、本発明の実施の形態2に係る蒸着用蒸気放出装置の分解斜視図、この蒸着用蒸気放出装置において加熱容器の蒸気出口の閉状態を示す断面図、および蒸気出口の開状態を示す断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
図3(a)、(b)、(c)に示すように、本形態の蒸着用蒸気放出装置12Bは、蒸着材料が装填された加熱容器41と、加熱容器41内の蒸着材料を加熱するための加熱装置(図示せず)とを備えている。また、蒸着用蒸気放出装置12Bは、加熱容器41の上方に配置された閉塞部材45と、蒸着室11内の外部から閉塞部材45を駆動するための駆動機構(図示せず)とを備えている。
加熱容器41は、蒸着材料を装填するための有底円筒状の容器本体42と、容器本体42の上部開口を覆う有底円筒状の蓋部材43とを備えている。蓋部材43の円筒状胴部43cの内周面には雌ネジ43dが形成されている一方、容器本体42の円筒状胴部42aの外周上端部には雄ネジ42bが形成されており、雌ネジ43dおよび雄ネジ42bによって、容器本体42の上端側に蓋部材43を着脱可能とするネジ機構40が構成されている。
加熱容器41において、蓋部材43の上底部43bには、上底部43bの中央位置の周りに複数の貫通穴からなる蒸気出口43gが形成されている。
閉塞部材45は、円筒状胴部45aと、この円筒状胴部45aの下部開口を塞ぐ下板部45bと、円筒状胴部45aの上部開口を塞ぐ上板部45cとを備えた中空体である。上板部45cの中央位置には、円形の貫通穴からなる蒸気流放出口45eが形成されている一方、下板部45bにおいてその中心位置には貫通穴からなる蒸気入口45gが形成されており、蒸気入口45gと蒸気流放出口45eとは、閉塞部材45の内部空間45rを介して連通している。内部空間45rは、蒸気入口45dの開口面積および蒸気流放出口45eの開口面積よりも大きな断面積を有している。上板部45cにおいて、蒸気流放出口45eは、下方から上方に向かうにしたがって拡径している。
本形態において、下板部45bにおける蒸気入口45gの形成位置と、蓋部材43における蒸気出口43gの形成位置とは、蒸気出口43gの開口方向においてずれている。
本形態において、円筒状胴部45aは、下板部45bよりさらに下方に延びて、加熱容器41の上端部の外周面に接しており、ガイド面として機能する。
このように構成した蒸着用蒸気放出装置12Bにおいて、閉塞部材45は、駆動装置によって、矢印Sで示すように、加熱容器41と閉塞部材45とは、蒸気出口43gの開口方向において接近する方向および離間する方向に移動可能である。
(本形態の動作および主な効果)
このように構成した蒸着用蒸気放出装置12Bにおいて、加熱容器41内に装填された蒸着材料は、加熱容器41内で加熱され、加熱容器41内では蒸着材料の蒸気が発生する。ここで、加熱容器41は、容器本体42と、この容器本体42の上部開口を塞ぐ蓋部材43とから構成され、蓋部材43の上底部43bの一部には蒸気出口43gが形成されているが、図3(b)に示すように、成膜停止時、蒸気出口43gは閉塞部材45によって塞がれた閉状態にあるので、蒸気流は放出されない。
そして、図3(c)に示すように、閉塞部材45を加熱容器41から離間する方向に移動させると、蒸気出口43gが開放された開状態になる。この状態で、蒸気出口43gは、蓋部材43と閉塞部材45との間に形成される空間49、蒸気入口45g、および閉塞部材45の内部空間45rを介して蒸気流放出口45eと連通する。そのため、加熱容器41内で発生した蒸着材料の蒸気は、蒸気出口43g、蓋部材43と閉塞部材45との間に形成される空間49、蒸気入口45g、閉塞部材45の内部空間45r、および蒸気流放出口45eを通って蒸気流として放出され、被処理基板20に対する蒸着が行なわれる。
このように本形態では、蓋部材43の上底部43bによって加熱容器41の蓋部が形成されているとともに、蓋部(蓋部材43の上底部43b)の一部に形成されている蒸気出口43gを閉塞部材45によって開閉するので、蒸気出口43gの開閉を極めて短時間で行なうことができる。それ故、蒸気流の放出の開始および終了を瞬時に行なうことができるので、成膜の開始および終了を瞬時に切り換えることができ、膜厚精度の向上を図ることができる。
また、加熱容器41(容器本体42)の上部開口全体から蒸気流が放出されるのではなく、蒸着材料の蒸気は、蓋部材43の上底部43bの一部に形成した蒸気出口43gを通過した後、蓋部材43と閉塞部材45との間に形成される空間49、蒸気入口45g、閉塞部材45の内部空間45rに進入し、しかる後に、蒸気流放出口45eから放出されるので、蒸気流は、絞った状態で放出される。従って、蒸着分子や蒸着原子が被処理基板20に到達する比率が高いので、蒸着材料の無駄な消費を低く抑えることができる。また、成膜停止時、閉塞部材45は加熱容器41の蓋部材43に被さった状態にあり、加熱容器41の熱で十分、均一に加熱されることから、蒸着材料が閉塞部材45上で凝縮、析出するという事態も回避することができる。
さらに、閉塞部材45が移動するので、加熱容器41を移動させる場合に比較して、駆動機構を簡素化できるという利点がある。
また、加熱容器41は、蒸着材料が装填される容器本体42と、蒸気出口43gが形成された蓋部材43とから構成され、蓋部材43は容器本体42に対して着脱可能である。従って、加熱容器41の上部に蓋部を設けた場合でも、蒸着材料の装填を容易に行なうことができる。
[実施の形態2の変形例]
実施の形態2では、加熱容器41を固定とし、閉塞部材45を加熱容器41に対して接近する方向および離間する方向に移動させる構成であったが、閉塞部材45を固定とし、加熱容器41を閉塞部材45に対して接近する方向および離間する方向に直動させる構成を採用してもよい。
また、実施の形態2では、加熱容器41を固定とし、閉塞部材45を円筒状胴部45aの下端部をガイドとして用いながら、加熱容器41に対して接近する方向および離間する方向に直動させる構成であったが、例えば、図4(a)、(b)、(c)に示すように、加熱容器41の外周面、例えば、蓋部材43の外周面に雄ネジ41hを形成しておく一方、閉塞部材45の円筒状胴部45aの内周面に雄ネジ41hに噛み合う雌ネジ45hを形成してもよい。この場合、加熱容器41の上下方向の移動を規制するとともに、加熱容器41の供回りを規制しておけば、矢印Rで示すように、閉塞部材45を回転させると、閉塞部材45を、矢印Sで示すように、加熱容器41に対して接近する方向および離間する方向に移動させることができる。
また、閉塞部材45の上下方向の移動を規制するとともに、閉塞部材45の供回りを規制しておけば、矢印Rで示すように、加熱容器41を回転させると、加熱部材41を、矢印Sで示すように、閉塞部材45に対して接近する方向および離間する方向に移動させることができる。
[真空蒸着装置の使用例]
図5は、本発明を適用した真空蒸着装置が使用される例としての有機EL装置(有機エレクトロルミネッセンス装置)の要部断面図である。図5に示す有機EL装置1は、表示装置や、電子写真方式を利用したプリンタに使用されるラインヘッドとして用いられるものであり、複数の有機EL素子3を配列してなる発光素子群3Aを備えている。有機EL素子3は、例えば、陽極として機能する画素電極4と、この画素電極4からの正孔を注入/輸送する正孔輸送層6と、有機EL物質からなる発光層7と、電子を注入/輸送する電子輸送層8と、陰極9と、保護層がこの順に積層された構造になっている。素子基板2上には、画素電極4に電気的に接続された駆動用トランジスタ5a(薄膜トランジスタ)などを含む回路部5が、発光素子群3Aの下層側に形成されている。
有機EL装置1がボトムエミッション方式である場合は、発光層7で発光した光を画素電極4の側から出射するため、素子基板2の基体としては、ガラス、石英、樹脂(プラスチック、プラスチックフィルム)などの透明基板が用いられる。その際、陰極9を光反射膜によって構成すれば、発光層7で発光した光を陰極9で反射して透明基板の側から出射することができる。これに対して、有機EL装置1がトップエミッション方式である場合は、発光層7で発光した光を陰極9の側から出射するため、素子基板2の基体は透明である必要はない。但し、有機EL装置1がトップエミッション方式である場合でも、素子基板2に対して光出射側とは反対側の面に反射層(図示せず)を配置して、発光層7で発光した光を陰極9の側から出射する場合には、素子基板2の基体として透明基板を用いること必要がある。また、有機EL装置1がトップエミッション方式である場合において、素子基板2の基体と発光層7との間に反射層を形成して、発光層7で発光した光を陰極9の側から出射する場合には、素子基板2の基体は透明である必要はない。
このような有機EL装置1を製造するには、素子基板2に対してCVD法や真空蒸着法などを用いた成膜工程、レジストマスクを用いてのパターニング工程などといった半導体プロセスを利用して各層が形成される。但し、正孔輸送層6、発光層7、電子輸送層8などの有機機能層は、水分や酸素により劣化しやすいため、発光層7などの有機機能層を形成する際、さらには、電子輸送層8の上層に陰極9を形成する際、レジストマスクを用いてのパターニング工程を行うと、レジストマスクをエッチング液や酸素プラズマなどで除去する際に有機機能層が水分や酸素により劣化してしまう。そこで、本形態では、発光層7などの有機機能層を形成する際、さらには陰極9を形成する際には、図1〜図4を参照して説明した真空蒸着装置を用いたマスク蒸着を行うことにより素子基板2に所定形状の薄膜を形成し、レジストマスクを用いてのパターニング工程を行わない。
[その他の実施の形態]
実施の形態1、2では、閉塞部材45によって加熱容器41の蒸気出口43a、43gを閉状態にする構成であるため、図6を参照して説明したシャッタ814は不要である。但し、閉塞部材45によって加熱容器41の蒸気出口43a、43gを閉状態にした後、さらに、図1に点線で示すシャッタ14によって蒸気流放出口45eを閉鎖する構成を採用してもよい。
上記形態においては、本発明を適用した蒸着用蒸気放出装置12A、12Bをマスク蒸着に用いる例を説明したが、蒸着用マスク31を用いず、被処理基板20の被成膜面全体に均一な膜厚の薄膜を形成する際に適用してもよい。
本発明を適用した蒸着装置の構成を示す概略構成図である。 (a)、(b)、(c)は各々、本発明の実施の形態1に係る蒸着用蒸気放出装置の分解斜視図、この蒸着用蒸気放出装置において加熱容器の蒸気出口の閉状態を示す断面図、および蒸気出口の開状態を示す断面図である。 (a)、(b)、(c)は各々、本発明の実施の形態2に係る蒸着用蒸気放出装置の分解斜視図、この蒸着用蒸気放出装置において加熱容器の蒸気出口の閉状態を示す断面図、および蒸気出口の開状態を示す断面図である。 (a)、(b)、(c)は各々、本発明の実施の形態2の変形例に係る蒸着用蒸気放出装置の分解斜視図、この蒸着用蒸気放出装置において加熱容器の蒸気出口の閉状態を示す断面図、および蒸気出口の開状態を示す断面図である。 有機EL装置(有機エレクトロルミネッセンス装置)の要部断面図である。 従来の蒸着装置の構成を示す概略構成図である。
符号の説明
11・・蒸着室、12A、12B・・蒸着用蒸気放出装置、19・・基板ホルダ、18・・水晶振動子(蒸着レート測定器)、20・・被処理基板、41・・加熱容器、42・・容器本体、43・・蓋部材、43a、43g・・蒸気出口、45・・閉塞部材、45d、45g・・蒸気入口、45e・・蒸気流放出口、45r・・閉塞部材の内部空間、100・・真空蒸着装置

Claims (8)

  1. 蒸着材料を加熱して当該蒸着材料の蒸気流を放出する蒸着用蒸気流放出装置において、
    上面に蓋部を備えるとともに当該蓋部の一部に蒸気出口が形成された加熱容器と、
    前記蓋部の上面に被さるように配置された閉塞部材と、を有し、
    前記閉塞部材には、当該閉塞部材の下面で開口する蒸気入口と、該蒸気入口に連通し、当該閉塞部材の上面で開口する蒸気流放出口とが形成されており、
    前記蒸気出口は、前記加熱容器と前記閉塞部材とが相対移動することにより、前記閉塞部材によって塞がれた閉状態と、前記蒸気入口と連通した開状態とに切り換えられることを特徴とする蒸着用蒸気流放出装置。
  2. 前記閉塞部材には、前記蒸気流放出口の開口面積より断面積の広い内部空間が形成され、
    前記蒸気入口と前記蒸気流放出口とは、前記内部空間を介して連通していることを特徴とする請求項1に記載の蒸着用蒸気流放出装置。
  3. 前記加熱容器と前記閉塞部材とが前記蓋部の上面と前記閉塞部材との接触面に沿う方向に相対移動することにより、前記蒸気出口が前記閉状態と前記開状態とに切り換えられることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着用蒸気流放出装置。
  4. 前記閉塞部材は、前記蓋部の上面に沿うように前記加熱容器に対して回転し、
    前記閉塞部材の上面のうち、当該閉塞部材の回転中心軸線上で前記蒸気流放出口が開口し、
    前記閉塞部材の下面では、前記蒸気入口が前記回転中心軸線上から外れた位置で開口しており、
    前記閉塞部材が回転した際の前記蓋部上における前記蒸気入口の回転軌跡上の所定位置で前記蒸気出口が開口していることを特徴とする請求項3に記載の蒸着用蒸気流放出装置。
  5. 前記加熱容器と前記閉塞部材の相対移動によって前記蒸気出口の開度が変化することを特徴とする請求項3または4に記載の蒸着用蒸気流放出装置。
  6. 前記加熱容器と前記閉塞部材とは、前記蒸気出口の開口方向において接近する方向および離間する方向に相対移動し、
    前記加熱容器と前記閉塞部材とが離間する方向に相対移動して前記蓋部と前記閉塞部材との間に形成される空間を介して前記蒸気出口と前記蒸気入口とが連通することにより前記閉状態から前記開状態への切り換えが行なわれることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着用蒸気流放出装置。
  7. 前記加熱容器は、蒸着材料が装填される容器本体と、該容器本体に対して着脱可能な蓋部材とを備え、
    当該蓋部材に前記蓋部が構成されていることを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の蒸着用蒸気流放出装置。
  8. 請求項1乃至7の何れか一項に記載の蒸着用蒸気流放出装置を蒸着室内に有することを特徴とする蒸着装置。
JP2007009891A 2007-01-19 2007-01-19 蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置 Withdrawn JP2008174803A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007009891A JP2008174803A (ja) 2007-01-19 2007-01-19 蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007009891A JP2008174803A (ja) 2007-01-19 2007-01-19 蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008174803A true JP2008174803A (ja) 2008-07-31

Family

ID=39702027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007009891A Withdrawn JP2008174803A (ja) 2007-01-19 2007-01-19 蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008174803A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011530660A (ja) * 2008-08-12 2011-12-22 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド エバポレータ
JP2012126958A (ja) * 2010-12-15 2012-07-05 Ulvac Japan Ltd 蒸着装置及び蒸着方法
JP2014181359A (ja) * 2013-03-18 2014-09-29 Fujitsu Ltd 半導体製造装置及びシャッタ
KR101710063B1 (ko) * 2016-07-26 2017-02-28 에스엔유 프리시젼 주식회사 열 기상 증착장치
CN112301313A (zh) * 2019-07-29 2021-02-02 佳能特机株式会社 喷嘴单元、坩埚、蒸发源以及蒸镀装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011530660A (ja) * 2008-08-12 2011-12-22 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド エバポレータ
JP2012126958A (ja) * 2010-12-15 2012-07-05 Ulvac Japan Ltd 蒸着装置及び蒸着方法
JP2014181359A (ja) * 2013-03-18 2014-09-29 Fujitsu Ltd 半導体製造装置及びシャッタ
KR101710063B1 (ko) * 2016-07-26 2017-02-28 에스엔유 프리시젼 주식회사 열 기상 증착장치
CN112301313A (zh) * 2019-07-29 2021-02-02 佳能特机株式会社 喷嘴单元、坩埚、蒸发源以及蒸镀装置
JP2021021116A (ja) * 2019-07-29 2021-02-18 キヤノントッキ株式会社 ノズルユニット,坩堝,蒸発源及び蒸着装置
JP7409799B2 (ja) 2019-07-29 2024-01-09 キヤノントッキ株式会社 ノズルユニット,坩堝,蒸発源及び蒸着装置
CN112301313B (zh) * 2019-07-29 2024-03-19 佳能特机株式会社 喷嘴单元、坩埚、蒸发源以及蒸镀装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4001296B2 (ja) 有機材料の真空蒸着方法およびその装置
JP2006348369A (ja) 蒸着装置及び蒸着方法
JP4889607B2 (ja) 供給装置、蒸着装置
JP2008174803A (ja) 蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置
TWI428460B (zh) 蒸氣放出裝置、有機薄膜蒸鍍裝置及有機薄膜蒸鍍方法
JP5054020B2 (ja) シールされた補充容器を用いた堆積システム
US20070074654A1 (en) Evaporation source machine and vaccum deposition apparatus using the same
JP2012207263A (ja) 蒸着方法および蒸着装置
JP7301578B2 (ja) 成膜装置及び成膜方法
JP2007177319A (ja) 蒸発源及びそれを用いた薄膜蒸着方法
JP7144232B2 (ja) 成膜レートモニタ装置及び成膜装置
JP2009108381A (ja) 成膜装置及び成膜方法
KR100974041B1 (ko) 막 증착 장치와 막 두께 측정 방법
KR100685431B1 (ko) 유기물 증착원
JP4545797B2 (ja) 有機発光ダイオード蒸着工程用のマルチノズルるつぼ装置
JPH11229123A (ja) 蒸着装置
KR101846692B1 (ko) 스피팅 방지 구조체를 구비한 증착장치용 증발원
KR101217517B1 (ko) 증착 원료 분사 장치 및 이를 구비하는 박막 증착 장치
TW201333231A (zh) 用於連續沉積薄膜的設備
JP2014181387A (ja) 蒸発源及びその蒸発源を用いた真空蒸着装置
JP3806834B2 (ja) 酸化窒化シリコンの成膜方法
JP2008163365A (ja) 蒸着用坩堝、蒸着法および蒸着装置
KR20030067146A (ko) 진공 증착장치의 가열용기
US20190164775A1 (en) Etching method and etching apparatus
WO2013111833A1 (ja) 成膜装置及び成膜方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20100406