JP2005326365A - 試験液量計測装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】滴下する試験液への汚染物質混入防止を図ること、また、筐体内のダウンエアーフロー等による脈動の影響を受けることなくスキャン後の試験液の回収量を計測することにより、高精度な汚染物質分析を図ることに寄与する試験液量計測装置を提供することにある。
【解決手段】ウェハ表面上に試験液を滴下する試験液滴下ノズルと、この滴下された試験液を捕捉してこの捕捉した試験液によりウェハ表面上をスキャンしこのスキャン終了後の試験液を吸引する試験液収集ノズルを備えたノズルロボットと、この吸引された試験液の液量を計測する試験液量計測手段とを備える試験液量計測装置であって、上記試験液量計測手段は、上記試験液収集ノズル内の液面上面及び液面下面間の高さとこの試験液収集ノズルの開口部の断面積を乗算することにより、吸引された試験液の液量を計測することを特徴とする。
【選択図】図３

Description

本発明は、ウェハ表面上の汚染物質を試験液とともに回収し、その回収した試験液の液量を計測する試験液量計測装置に関する。
半導体製造プロセスでは、シリコンウェハはクリーンルーム環境、及び薄膜形成、エッチング注入などの工程における原料、設備、人体に由来する汚染に常に曝されており、これらの汚染は、製品の特性、歩留まりの低下を招き、デバイス製造に悪影響をもたらす。従って、この汚染を及ぼしている要因がどのような汚染物質（金属不純物、貴金属不純物等）に由来するものかを分析することは特に重要である。
従来から、この汚染物質の分析方法として、誘導結合プラズマ質量分析法（以下「ＩＣＰ−ＭＳ」という。）や全反射蛍光Ｘ線分析法がある。
このどちらの分析法を用いるにおいても、ウェハ表面上の汚染物質を回収する必要があり、その回収方法として従来から、以下のようなものがある。
汚染物質を含むＳｉ自然酸化膜で覆われたシリコンウェハを、ＨＦ（フッ酸）蒸気雰囲気に導入して自然酸化膜を溶解し、このとき生成される水に汚染物質を溶解させるという気相分解（以下「ＶＰＤ」という。）を行い、ウェハ表面の溶解物を一箇所に集めこれを一滴として回収する方法や、ＨＦに酸化剤を添加した試験液をウェハ表面上に微量滴下し、これをウェハ表面上で転がしてウェハ表面上の貴金属を含む金属不純物を回収するという方法（以下「液滴走査法」という。）がある。
この液滴走査法を用いるものとしては、例えば、特開２００３−３４４２４３号公報がある。この公報開示の技術では、試験液を薬液供給部より採取し、この吸引した試験液をウェハ表面上に滴下し、これをノズルで捕捉し、この捕捉した試験液をウェハ上で転がし（スキャン）、ウェハ表面全面を全てスキャンした後汚染物質とともにこれを吸引し、この吸引した試験液からウェハの汚染度測定用試料を作成するとしている。
この作成された汚染度測定用試料の質が高くなればなるほど、より高精度な汚染物質の分析を図れるが、その為には、ウェハ表面上に試験液を滴下する前においてこの試験液の中に汚染物質が混入しないようにすること、すなわち、滴下する前の試験液のクリーン度を保つことが重要である。
また、高精度な汚染物質の分析を図るためには、質の高い汚染度測定用試料を用いることが重要で、その為にはこの試料作成に用いられる試験液は回収率の高いものを用いる必要がある。そして、この回収率を認識し得るようにすることは、高精度な汚染物質の分析を図ることばかりでなく、質の低い汚染度測定用試料の作成を未然に防止することや、取りこぼした試験液が付着したウェハが、再度汚染度測定用試料の作成に用いられることの未然防止に繋がる。
この点、上記公報（特開２００３−３４４２４３号公報）においては、ウェハに滴下する試験液をノズルにより薬液供給部から採取し、この採取したノズルを用いてウェハ表面上に滴下し、これを用いてスキャンし、このスキャン後の試験液を回収するとしており、このような構成では次に汚染度測定用試料を作成する場合には、このスキャンに用いて汚染物質が付着している恐れのあるノズルを薬液供給部に挿入し試験液を採取することとなるので、薬液供給部の試験液が汚染され、ウェハに滴下する前の試験液のクリーン度を保つことが出来ず、質の高い汚染度測定用試料を作成することや高精度な汚染物質分析を図ることは困難となる。
また、回収量を計測するにあたっては、計量計を用いて高精度な重量を計測するとしているので、このような方法では、筐体内のダウンエアーフロー等による脈動の影響を受け正確な回収量を計測することは困難であるとともに、計量計の減衰特性が期待出来ないので計量に長時間を要する。
特開２００３−３４４２４３号公報
そこで、本発明の第１の目的は、ウェハに滴下する前の試験液への汚染物質混入防止を図ることにより高精度な汚染物質分析を図ることであり、第２の目的は、筐体内のダウンエアーフロー等による脈動の影響を受けることなく回収した試験液量を測定し、試験液の回収率の高いもののみを用いて汚染度測定用試料を作成することにより、高精度な汚染物質分析を図ることに寄与する試験液量計測装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明の試験液量計測装置は、ウェハの汚染物質を表面に滴下された試験液とともに採取しこの採取した試験液の液量を計測する試験液量計測装置であって、ウェハ表面上に試験液を滴下する試験液滴下ノズルと、この滴下された試験液を捕捉してこの捕捉した試験液によりウェハ表面上をスキャンしこのスキャン終了後の試験液を吸引する試験液収集ノズルを備えたノズルロボットと、この吸引された試験液の液量を計測する試験液量計測手段とを備えることを特徴とする。
ここで、試験液とは、例えば、ＨＦ（フッ酸）にＨＮＯ３やＨ２Ｏ２のような酸化剤を添加した溶液等であり、また、ここで言う汚染物質とは、金属不純物、貴金属不純物等を言う。
また、本発明では、試験液収集ノズルとは、筒状の管を言い、試験液滴下ノズルとは別個に構成されるものである。スキャンとは、試験液収集ノズルが捕捉した試験液を保持しつつ、この試験液にシリコンウェハ上の金属不純物等を取り込みながら移動することを言う。
また、本発明では、試験液の吸引は、例えば、試験液収集ノズルの他端に接続されたダイアフラム式ポンプや他の吸引ポンプにより行われる。
このように、試験液をウェハ表面上に滴下する試験液滴下ノズルと、この滴下された試験液を捕捉しこの滴下された試験液でウェハ表面上をスキャンしこのスキャン終了後の試験液を回収する試験液収集ノズルとを別々に構成したので、試験液滴下ノズルや上記公開技術でいう薬液供給部のような試験液を供給する部分が、汚染物質で汚染されることはなく、試験液のクリーン度を保持することができ、質の高い汚染度測定用試料の作成や高精度な汚染物質分析が可能となる。
また、本発明の試験液量計測装置は、ウェハ表面上に滴下された試験液を捕捉してこの捕捉した試験液によりウェハ表面上をスキャンしこのスキャン終了後の試験液を吸引する試験液収集ノズルを備えたノズルロボットと、この吸引された試験液の液量を計測する試験液量計測手段とを備える試験液量計測装置であって、この試験液量計測手段は、上記試験液収集ノズル内の液面上面及び液面下面間の高さとこの試験液収集ノズルの開口部の断面積を乗算することにより、吸引された試験液の液量を計測することを特徴とする。
以上のように、試験液収集ノズルにより吸引された試験液の液量を、重量から計測するのではなく、試験液収集ノズル内の液面上面及び液面下面間の高さとこの試験液収集ノズルの開口部の断面積を乗算することにより計測することとしたので、筐体内のダウンエアーフロー等による脈動の影響を受けることなく試験液の吸引量を正確に計測できる。
また、本発明の試験液量計測装置は、ウェハ表面上に試験液を滴下する試験液滴下ノズルと、この滴下された試験液を捕捉してこの捕捉した試験液によりウェハ表面上をスキャンしこのスキャン終了後の試験液を吸引する試験液収集ノズルを備えたノズルロボットと、この吸引された試験液の液量を計測する試験液量計測手段とを備える試験液量計測装置であって、この試験液量計測手段は、この試験液収集ノズル内の液面上面及び液面下面間の高さとこの試験液収集ノズルの開口部の断面積を乗算することにより、吸引された試験液の液量を計測することを特徴とするものである。
このように、ウェハ表面上に滴下された試験液の捕捉からスキャン、回収、そして試験液量の計測まで試験液収集ノズルで一貫して行うので回収効率がよく、更に、回収した試験液量を体積により計測するとしたので、重量計測する場合に生ずる筐体内のダウンエアーフローによる脈動の影響を受けず、高精度でかつ、短時間計測が可能となる。
この試験液量計測装置においては、試験液収集ノズルは、試験液収集部位と導入管とからなるように構成してもよい。
ここで、試験液収集部位とは、試験液収集ノズルのうちウェハ上の試験液と直接先端部が接触するものであり、導入管とは、この試験液収集部位の他端と吸引手段、例えば、ダイアフラム式ポンプや他の吸引ポンプとを接続する管を言う。
更に、このノズルロボットは、この試験液収集部位を着脱する着脱手段を備えていてもよい。
このように試験液収集部位を着脱する着脱手段を設けることにより、例えば、この試験液収集部位を使用後において、この試験液収集部位だけ取り外して洗浄したり、別の清潔な試験液収集部位と取り替えたりできるので、ノズル洗浄が容易であり、次の試験液収集において汚染物質を伝播することなく計測を行うことができる。
また、この試験液量計測手段は、反射型あるいは透過型光センサであってもよい。
この反射型光センサとは、例えば、発光部及び受光部を同側に設けてなる光センサを言い、液が無い部分では光がノズル管部で反射する性質を利用して液面を感知する構成のものである。また、透過型光センサとは、発光部及び受光部を対立するように配置してなる光センサを言い、光の屈折率を利用して液面を感知する構成のものである。
なお、この試験液収集ノズルの材質は、ＰＦＡであってもよい。
ここで、ＰＦＡとは、パーフロロアルコキシエチレン共重合樹脂をいい、透明性が透明〜半透明の材質であり、特に試験液量計測手段が透過型光センサである場合には好適である。
また、試験液量計測装置は、更に、しきい値を設定するしきい値設定手段を備え、試験液量計測手段により計測された試験液量がしきい値を越えている場合には、警告を発する警告手段を具備するようにしてもよい。
このしきい値は、ウェハ上に最初に滴下した試験液の液量から決定されるものであり、この滴下した試験液の液量に比し、回収した試験液の液量の計測値が少なすぎるのを防止すべく定められるものである。
また、ここでいう警告手段とは、例えば、音、光等で計測者に知らせる警報機等をいい、上記したように、回収した試験液の液量の計測値がしきい値に対し少なすぎた場合に作動するように構成される。
本発明にあっては、上述の如く、試験液をウェハ表面上に滴下する試験液滴下ノズルと、この滴下された試験液を捕捉しこの滴下された試験液でウェハ表面上をスキャンしこのスキャン終了後の試験液を回収する試験液収集ノズルとを別々に構成したので、試験液滴下ノズルや試験液供給部が汚染物質で汚染されることはなく、質の高い汚染度測定用試料の作成ができ、高精度な汚染物質分析が可能となる。
また、試験液収集ノズルにより吸引された試験液の液量を、重量から計測するのではなく、試験液収集ノズル内の液面上面及び液面下面間の高さとこの試験液収集ノズルの開口部の断面積を乗算することにより計測することとしたので、筐体内のダウンエアーフロー等による脈動の影響を受けることなく試験液の吸引量を正確に計測できる。
また、ウェハ表面上に滴下された試験液の捕捉からスキャン、回収、そして試験液量の計測まで試験液収集ノズルで一貫して行うとしたので、回収効率がよく、更に、回収した試験液量を体積により計測するとしたので、重量計測する場合に生ずる筐体内のダウンエアーフローによる脈動の影響を受けず、高精度でかつ、短時間計測が可能となる。
また、試験液収集ノズルを、試験液収集部位と導入管とからなるように構成したり、更に、この試験液収集部位を着脱可能とすれば、例えば、この試験液収集部位を使用後において、この試験液収集部位だけ取り外して洗浄したり、別の清潔な試験液収集部位と取り替えたりできるので、次の試験液収集において汚染物質を伝播することなく計測を行うことができる。
更に、試験液量の計測時において、しきい値を設定し、このしきい値を超えている場合に警告するような構成を設ければ、試験液の回収異常の早期発見を図ることができる。
以下、本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。図１は、本発明の試験液量計測装置を適用したウェハ検査前処理装置の模式配置図である。このウェハ検査前処理装置は、以下の部門からなる。即ち、ウェハ表面上の汚染物質分析に用いるウェハが格納されているローダ１と、このローダ１から取り出したウェハをＶＰＤ（気相分解）処理するＶＰＤ処理部３と、このＶＰＤ処理されたウェハの表面上の金属不純物を試験液により回収（スキャン）するＳＣＡＮ部４と、このスキャン後の試験液を汚染物質分析であるＩＣＰ−ＭＳ（誘導結合プラズマ質量分析）用の分析試料を作成するＩＣＰ−ＭＳ部９と、このＩＣＰ−ＭＳ部９にスキャン後の試験液を滴下した後、試験液収集ノズルの洗浄を行うノズル洗浄部１０と、このウェハ検査前処理装置の動作全体を統括制御する制御手段１１とから構成され、この制御手段１１は、図示しないＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭにより構成されている。
また、本発明の試験液量計測装置を適用したウェハ検査前処理装置は、スキャン後の試験液をノズルで回収した後その試験液量の計測を行う試験液量計測手段８と、ローダ１、ＶＰＤ処理部３及びＳＣＡＮ部４へのウェハの搬送を行うウェハーロボット２と、ＳＣＡＮ部４にあるウェハ上に試験液供給部６から試験液を定量採取し、この採取した試験液を滴下する試験液滴下ロボット５と、この滴下された試験液でウェハ表面上をスキャンし、このスキャン後の試験液を回収しＩＣＰ−ＭＳ部９へ搬送し滴下し、この滴下後に試験液収集ノズルをノズル洗浄部１０に搬送するノズルロボット７を備える。
次に、本発明の試験液量計測装置を適用したウェハ検査前処理装置の動作について図２を用いて説明する。まず、ローダ１に格納されている金属不純物等の汚染物質の分析に用いるウェハをウェハーロボット２で掴み、ＶＰＤ処理部３へと搬送する。次に、このＶＰＤ処理部３へ搬送されたウェハをＶＰＤ（気相分解）処理、即ち、ＨＦ蒸気雰囲気に導入してウェハ表面の自然酸化膜を溶解しウェハ表面上を疎水性にする処理をする。その後、このＶＰＤ処理後のウェハをウェハーロボット２が掴みＳＣＡＮ部４に搬送し、この搬送されたウェハの表面上に試験液滴下ノズル５ａを備えた試験液滴下ロボット５が試験液供給部６より定量の試験液を採取し、これをウェハ表面上に滴下する。
次に、この滴下された試験液をノズルロボット７が備える試験液収集ノズルＮで捕捉し、この捕捉された試験液によりウェハ表面上の金属不純物等をスキャンし、このスキャン終了後の試験液をノズルロボット７が備える試験液収集ノズルＮで吸引する。
このスキャン終了後に回収された試験液の液量を計測すべくノズルロボット７は、この吸引された試験液を試験液収集ノズルＮに吸引されたままの状態で試験液量計測手段８近接へ搬送し、この計測後の試験液を分析試料作成部であるＩＣＰ−ＭＳ部９に搬送する。
このＩＣＰ−ＭＳ部９に搬送された試験液は汚染物質の分析をすべく滴下される。なお、試験液収集ノズルＮが後述のようにノズルロボット７から着脱可能に構成されている場合には、ノズルロボット７は、この試験液収集ノズルを洗浄すべくノズル洗浄部１０まで搬送し、搬送された試験液収集ノズルＮを着脱し、これと引き換えに新しい試験液収集ノズルＮと交換する。
このように、試験液をウェハ表面上に滴下するノズルを試験液滴下ノズル５ａとし、この滴下された試験液を捕捉し、この捕捉された試験液でウェハ表面上をスキャンし、このスキャン後の試験液を回収し、更にこの回収された試験液の液量を計測する際に用いるノズルを試験液収集ノズルＮとし、別々に構成したので、試験液滴下ノズル５ａがウェハ表面上の汚染物質によって汚染されることはない。従って、この試験液滴下ノズル５ａが試験液を試験液供給部６から採取する際に試験液を汚染してしまう恐れが無く、常に試験液をクリーンに保つことが出来る。
なお、ここでは、試験液滴下ノズル５ａは試験液滴下ロボット５が備えるとしたが、試験液のクリーン度を保つためには、試験液を採取するノズルと試験液の捕捉、スキャン、回収を行うノズルが別個に構成されていればよいので、この試験液滴下ノズル５ａも試験液収集ノズルＮと同様にノズルロボット７に備えるとする構成でもよい。
次に、スキャン終了後の試験液を吸引してからその液量を計測するまでの本発明の試験液量計測装置の動作に関して図３を用いて説明する。
ノズルロボット７は、ウェハＷ表面上からスキャン終了後の試験液滴Ｓをノズルロボット７に備わるポンプＰの吸引力を用いてポンプＰに接続された導入管Ｄを通してノズルＮにより吸引する。次に、この吸引された試験液１２を試験液収集ノズルＮの管内に保持された状態のまま試験液量計測手段８近接まで搬送する。一方、試験液量計測手段８は固定された液面反射型光センサで構成されており、ノズルロボット７がこの液面反射型光センサの近接で上下移動することにより、この光センサが試験液収集ノズルＮ管内の試験液の液面上面及び液面下面を感知し試験液の液量を計測する。
更に、試験液量の計測に関し図３及び図４（ａ）、（ｂ）を用いて説明する。
スキャン終了後にノズルロボット７に備わる試験液収集ノズルＮでこのスキャン終了後の試験液滴Ｓを吸引するが、この吸引は、例えば、ダイアフラム式ポンプにてこの試験液収集ノズルＮの管内にこの試験液１２が保持されるように一定の吸引力により行われる。そして、この試験液収集ノズルＮの管内に試験液を保持した状態のままノズルロボット７は、試験液量計測手段８近接にこの試験液収集ノズルＮを搬送する。
この搬送された試験液収集ノズルＮは、試験液量計測手段８近接に搬送されると水平方向（ＸあるいはＹ方向）の移動を停止し、この停止位置においてＺ軸上方向へ移動を開始する。次に、この上方向にノズルロボット７を移動させ、試験液収集ノズルＮ管内の試験液１２の液面上面Ｓ１とこの試験液量計測手段８の位置のＺ座標が一致すると、試験液量計測手段８が制御手段１１に対し信号を送る。すると、この信号を受け取った制御手段１１は、この状態をＯＮとし試験液量の計測を開始する。更に、ノズルロボット７を上方向に移動させ、試験液収集ノズルＮ管内の試験液１２の液面下面Ｓ２と試験液量計測手段８の位置のＺ座標が一致すると、試験液量計測手段８が制御手段１１に対し信号を送る。すると、この信号を受け取った制御手段１１は、この状態をＯＦＦとし試験液量の計測を終了する。
そして、この送られてきた信号をもとに制御手段１１は、この試験液収集ノズルＮの管内の試験液１２の高さＬを算出し、この高さＬと予め制御手段１１のＲＯＭあるいはＲＡＭに設定されている試験液収集ノズルＮの開口部の断面積Ｓとを乗算することにより、試験液の液量の体積を求め、これより試験液の液量を算出する。
この試験液の液面上面Ｓ１と液面下面Ｓ２間の高さＬの算出方法としては、例えば、制御手段１１のＲＯＭあるいはＲＡＭにノズルロボット７の移動速度を予め一定に設定しておき、この速度と最初に信号（ＯＮ）を受け取ってから次に信号（ＯＦＦ）を受け取るまでに要した時間の乗算をすることにより行ってもよいし、また、ノズルロボット７に位置座標認識機能を持たせておいて、この２つの信号を受け取った時点でのノズルロボット７のＺ座標を調べることにより、２つのＺ座標の差をとって求めるとしてもよい。
このように、ウェハ表面上に滴下された試験液の捕捉からスキャン、回収、そして試験液量の計測まで試験液収集ノズルＮで一貫して行うので回収効率がよく、更に、回収した試験液量を体積により計測するとしたので、重量計測する場合に生ずる筐体内のダウンエアーフローによる脈動の影響を受けず、高精度でかつ、短時間計測が可能となる。
なお、試験液量計測手段８は、液面上面Ｓ１と液面下面Ｓ２が計測できるようなものであればよく、例えば、透過型光センサ等であってもよい。
また、試験液収集ノズルＮの材質は、この試験液計測手段８で液面上面Ｓ１及び液面下面Ｓ２を計測できるものであれば、どのような材質であってもよいが、透過型光センサで計測する場合には、ＰＦＡが好適である。
次に、本発明の試験液量計測装置において、試験液収集ノズルＮが試験液収集部位Ｎ１と導入管Ｄで構成され、ノズルロボット７に試験液収集部位Ｎ１の着脱手段を備えた場合の一実施形態について図５（ａ）、（ｂ）を用いて説明する。
この着脱手段は、ノズルロボット７のアームＡの上面に設置されたノズルグリップベローズＢと、このノズルグリップベローズＢの上面に中央部が設置され、かつ、アームＡ及びノズルグリップベローズＢを覆うように配置されたチャンネル状の形状をした保持部１４と、この保持部１４の両端部に固着されたＵ字グリップ部１３と、この保持部１４の上面中央部に設置されたスプリング１５と、一方がこのスプリング１５の上部と固着され他方がアームＡと固着されたスプリング固定部１６と、ノズルグリップベローズＢに接続された導入管Ｄ１と、この導入管Ｄ１を通して接続されノズルグリップベローズＢを吸引するポンプＰ１とからなる。
次に、この着脱手段が、どのようにして試験液収集部位Ｎ１を装着し、着脱するかについて以下に説明する。
まず、試験液収集部位Ｎ１を装着する場合について説明すると、試験液収集部位Ｎ１未装着状態においては、スプリング１５は伸長しており、その弾性力によりこのスプリング１５と固着されている保持部１４が上方に引き上げられると同時に、これと固着されたＵ字グリップ部１３も上方に引き上げられアームＡの下面とＵ字グリップ部１３の上面が当接した状態となっている。
この状態において、ポンプＰ１が吸引を開始すると、導入管Ｄ１を通してノズルグリップベローズＢは収縮し、このノズルグリップベローズＢと中央部下面が固着された保持部１４が引き下げられると同時に、この保持部１４の両端に固着されたＵ字グリップ部１３も下方に引き下げられ、アームＡとＵ字グリップ部１３との間に間隙ができる。
次に、この間隙に試験液収集部位Ｎ１のフランジ部Ｆを挿入させるように制御手段１１によりノズルロボット７のアームＡを移動させ、この試験液収集部位Ｎ１の管の上部１７と導入管Ｄの開口部が一致する状態までこのアームＡを移動させたら、ポンプＰ１の吸引を停止させノズルグリップベローズＢの収縮を停止させる。
すると、このノズルグリップベローズＢの収縮に連動して下方に伸長されていたスプリング１５は、このノズルグリップベローズＢの収縮の停止により下方の力が無くなり元の定常状態に戻ろうとする弾性力を発揮する。このスプリング１５の弾性力により、このスプリング１５と中央部上面が固着された保持部１４が上方に引き上げられると同時に、これに連動してこの保持部１４の両端部が固着されたＵ字グリップ部１３が上方に引き上げられる。
その結果、アームＡとＵ字グリップ部１３の間に挿入された試験液収集部位Ｎ１のフランジ部Ｆが、このＵ字グリップ部１３の押し上げによる圧力により、アームＡ下面に押し付けられ、しっかりとこの試験液収集部位Ｎ１はアームＡに保持されることとなる。
一方、試験液収集部位Ｎ１を脱着する場合においては、上記装着時の逆の動作をするように構成すればよい。
このように、試験液収集部位Ｎ１を着脱可能に構成すると、ウェハ検査前処理を続けて行う場合において、１の試験液収集部位Ｎ１を洗浄している間に別の試験液収集部位Ｎ１を装着して次のウェハ検査前処理を行うことができ、更に、試験液収集時において前の試験液収集時の試験液が試験液収集部位Ｎ１に付着しているといった状況を回避することができ、その結果、汚染物質の伝播の防止が図れる。
更に、試験液量計測時において、しきい値を設定しておき、計測された試験液量がしきい値を越えている場合には、警告を発するようにしてもよい。
この警告のメカニズムについて図３及び図６を用いて説明する。
制御手段１１のＣＰＵは、試験液量計測手段８より２つの信号（ＯＮ及びＯＦＦ）を受け取ると、これより上記した方法により試験液量の回収量を算出する（ステップ１００）。この算出された回収量とＲＯＭあるいはＲＡＭに予め設定されたしきい値との比較を行う。このしきい値は、例えば、下限が設定されており、このしきい値を越えている場合、即ち、これより少ない場合には、アラームを発する（ステップ３０１）。そして、この計測不良でアラームが発せられた場合には、これに該当するウェハを計測不良としてＲＡＭに登録し（ステップ４００）、一方、しきい値を越えていない場合には、その計測値をＲＡＭに登録する（ステップ３０２）ように動作する。
このように構成すれば、回収不良の試験液が、次の分析試料作成部であるＩＣＰ−ＭＳ部９に搬送されるのを防止することができ、その結果、精度の低い無駄な分析試料の作成を未然に防ぐことができる。
また、計測不良の場合にこれに対応するウェハを計測不良として登録することにより、金属不純物等の汚染物質の残留量が高いおそれがあるウェハを取り除くことができる。
本発明の試験液量計測装置を適用したウェハ検査前処理装置の模式図である。 本発明の試験液量計測装置を適用したウェハ検査前処理装置の動作説明図である。 本発明の試験液量計測装置の動作説明図である。 （ａ）試験液量計測の詳細図、(ｂ)ノズル内の管の試験液の状態を真横から見た図、(ｃ)ノズルの開口部を真下から見た図である。 （ａ）ノズル着脱手段とノズルの装着状態を示す模式図、（ｂ）ノズル着脱手段にノズルを装着した状態を真横からみた図である。 警告のメカニズムを表すフローチャート図である。
符号の説明
１ ローダ
２ ウェハーロボット
３ ＶＰＤ処理部
４ ＳＣＡＮ部
５ 試験液滴下ロボット
５ａ 試験液滴下ノズル
６ 試験液供給部
７ ノズルロボット
８ 試験液量計測手段
９ ＩＣＰ−ＭＳ部
１０ ノズル洗浄部
１１ 制御手段
１２ 吸引された試験液
１３ Ｕ字グリップ部
１４ 保持部
１５ スプリング
１６ スプリング固定部
１７ 試験液収集部位Ｎ１内の管の上部
Ａ アーム
Ｂ ノズルグリップベローズ
Ｄ 導入管
Ｄ１ 導入管
Ｆ フランジ部
Ｌ 試験液収集ノズルＮ管内の試験液の液面上面と液面下面間の高さ
Ｎ 試験液収集ノズル
Ｎ１ 試験液収集部位
Ｐ ポンプ
Ｐ１ ポンプ
Ｓ 試験液滴
Ｓ 試験液収集ノズルＮの断面積
Ｓ１ 液面上面
Ｓ２ 液面下面
Ｗ ウェハ

Claims (8)

  1. ウェハの汚染物質を表面に滴下された試験液とともに採取し、この採取した試験液の液量を計測する試験液量計測装置であって、
    ウェハ表面上に試験液を滴下する試験液滴下ノズルと、
    この滴下された試験液を捕捉してこの捕捉した試験液によりウェハ表面上をスキャンしこのスキャン終了後の試験液を吸引する試験液収集ノズルを備えたノズルロボットと、
    この吸引された試験液の液量を計測する試験液量計測手段と
    を備えることを特徴とする試験液量計測装置。
  2. ウェハ表面上に滴下された試験液を捕捉してこの捕捉した試験液によりウェハ表面上をスキャンしこのスキャン終了後の試験液を吸引する試験液収集ノズルを備えたノズルロボットと、この吸引された試験液の液量を計測する試験液量計測手段とを備える試験液量計測装置であって、
    上記試験液量計測手段は、上記試験液収集ノズル内の液面上面及び液面下面間の高さとこの試験液収集ノズルの開口部の断面積を乗算することにより、吸引された試験液の液量を計測すること
    を特徴とする試験液量計測装置。
  3. ウェハ表面上に試験液を滴下する試験液滴下ノズルと、
    この滴下された試験液を捕捉してこの捕捉した試験液によりウェハ表面上をスキャンしこのスキャン終了後の試験液を吸引する試験液収集ノズルを備えたノズルロボットと、
    この吸引された試験液の液量を計測する試験液量計測手段とを備える試験液量計測装置であって、
    上記試験液量計測手段は、上記試験液収集ノズル内の液面上面及び液面下面間の高さとこの試験液収集ノズルの開口部の断面積を乗算することにより、吸引された試験液の液量を計測すること
    を特徴とする試験液量計測装置。
  4. 上記試験液収集ノズルは、
    試験液収集部位と導入管とからなること
    を特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の試験液量計測装置。
  5. 上記ノズルロボットは、
    上記試験液収集部位を着脱する着脱手段を備えていること
    を特徴とする請求項４記載の試験液量計測装置。
  6. 上記試験液量計測手段は、
    反射型あるいは透過型光センサであること
    を特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の試験液量計測装置。
  7. 上記試験液収集ノズルの材質がＰＦＡであること
    を特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の試験液量計測装置。
  8. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の試験液量計測装置は、
    更に、しきい値を設定するしきい値設定手段を備え、
    上記試験液量計測手段により計測された試験液量がしきい値を越えている場合には、警告を発する警告手段を具備すること
    を特徴とする試験液量計測装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008132401A (ja) * 2006-11-27 2008-06-12 Ias Inc ノズルおよび液体回収方法
JP7064217B2 (ja) 2018-08-31 2022-05-10 株式会社島津製作所 分析装置、分析方法、微量液体採取装置、および微量液体採取方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57168165A (en) * 1981-04-10 1982-10-16 Nippon Tectron Co Ltd Method of and apparatus for checking suction of sample in clinically automatic chemical analyzer
JPS6086439A (ja) * 1983-10-19 1985-05-16 Toshiba Corp 光学式微量定量装置
JPH0325351A (ja) * 1989-06-23 1991-02-04 Aloka Co Ltd 液状試料中の気泡の検出方法及びその装置
JPH0727770A (ja) * 1993-07-14 1995-01-31 Aloka Co Ltd 吐出量及び液だれ量の監視方法及びその分注装置
JP2003344243A (ja) * 2002-05-30 2003-12-03 Nisso Engineering Co Ltd ウエハ検査前処理方法及び処理装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57168165A (en) * 1981-04-10 1982-10-16 Nippon Tectron Co Ltd Method of and apparatus for checking suction of sample in clinically automatic chemical analyzer
JPS6086439A (ja) * 1983-10-19 1985-05-16 Toshiba Corp 光学式微量定量装置
JPH0325351A (ja) * 1989-06-23 1991-02-04 Aloka Co Ltd 液状試料中の気泡の検出方法及びその装置
JPH0727770A (ja) * 1993-07-14 1995-01-31 Aloka Co Ltd 吐出量及び液だれ量の監視方法及びその分注装置
JP2003344243A (ja) * 2002-05-30 2003-12-03 Nisso Engineering Co Ltd ウエハ検査前処理方法及び処理装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008132401A (ja) * 2006-11-27 2008-06-12 Ias Inc ノズルおよび液体回収方法
JP4496202B2 (ja) * 2006-11-27 2010-07-07 株式会社 イアス ノズルおよび液体回収方法
JP7064217B2 (ja) 2018-08-31 2022-05-10 株式会社島津製作所 分析装置、分析方法、微量液体採取装置、および微量液体採取方法

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