JP2005313050A - 微粒子噴霧装置 - Google Patents
微粒子噴霧装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005313050A JP2005313050A JP2004132583A JP2004132583A JP2005313050A JP 2005313050 A JP2005313050 A JP 2005313050A JP 2004132583 A JP2004132583 A JP 2004132583A JP 2004132583 A JP2004132583 A JP 2004132583A JP 2005313050 A JP2005313050 A JP 2005313050A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine particle
- conduit
- chamber
- fine particles
- slit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Nozzles (AREA)
Abstract
【解決手段】 微粒子発生装置で発生させた液体の微粒子(A)を送出する導管(28b)に接続される微粒子噴霧装置(30)において、導管に接続される軸方向に長い円筒状の滞留室(32)と、滞留室の側面(34)に設けられた偏平な狭まりノズル(40)と、ノズル先端に開けられたスリット(42)とを備える。導管から送出された微粒子は、滞留室内に均一に分散した後にスリットから均一に噴霧される。
【選択図】 図1
Description
28b 導管
30 微粒子噴霧装置
32 滞留室
36 拡がりダクト
40 狭まりノズル
42 スリット
44 開口
A 微粒子
Claims (5)
- 微粒子発生装置で発生させた液体の微粒子を送出する導管に接続される微粒子噴霧装置であって、
前記微粒子噴霧装置は、前記導管に接続されるとともに前記導管より広がった滞留室と、該滞留室に開けられたスリットとを備え、
前記導管から送出された微粒子は、前記滞留室内に均一に分散した後に前記スリットから均一に噴霧されることを特徴とする微粒子噴霧装置。 - 前記滞留室は軸方向に長い円筒状であり、前記滞留室の側面に前記軸方向と平行に前記スリットを開けたことを特徴とする請求項1に記載の微粒子噴霧装置。
- 前記導管の先端と前記滞留室との間は、前記スリットの長さ方向に広がる拡がりダクトで接続されたことを特徴とする請求項1又は2に記載の微粒子噴霧装置。
- 前記滞留室には偏平な狭まりノズルが設けられていて、該狭まりノズルの先端に前記スリットが開けられたことを特徴とする請求項1、2又は3に記載の微粒子噴霧装置。
- 微粒子発生装置で発生させた液体の微粒子を送出する導管に接続される微粒子噴霧装置であって、
前記微粒子噴霧装置は、前記導管に接続されるとともに前記導管より広がった滞留室と、該滞留室に細長く分布して配置された多数の開口とを備え、
前記導管から送出された微粒子は、前記滞留室内に均一に分散した後に前記多数の開口から均一に噴霧されることを特徴とする微粒子噴霧装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004132583A JP4551117B2 (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 微粒子噴霧装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004132583A JP4551117B2 (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 微粒子噴霧装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005313050A true JP2005313050A (ja) | 2005-11-10 |
JP4551117B2 JP4551117B2 (ja) | 2010-09-22 |
Family
ID=35441047
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004132583A Expired - Fee Related JP4551117B2 (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 微粒子噴霧装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4551117B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010137128A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Tokyo Reito Kucho Jigyo Kyodo Kumiai | 噴霧装置 |
JP2011110451A (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-09 | Touki Co Ltd | ミスト噴出用ノズル、それを備えた成膜装置および成膜方法 |
Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51133116A (en) * | 1975-05-15 | 1976-11-18 | Nippon Steel Corp | A method and apparatus for cooling of metal strips |
JPS5779052U (ja) * | 1980-10-31 | 1982-05-15 | ||
JPS5833796Y2 (ja) * | 1979-06-01 | 1983-07-28 | 日新製鋼株式会社 | 噴射ノズル |
JPS59230663A (ja) * | 1983-03-22 | 1984-12-25 | デベロツプメント・フアイナンス・コ−ポレ−シヨン・オブ・ニユ−ジ−ランド | 液体を表面に被着する方法およびアツプリケ−タ |
JPS6332660U (ja) * | 1986-08-13 | 1988-03-02 | ||
JPH02104850U (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-21 | ||
JPH03285709A (ja) * | 1990-03-31 | 1991-12-16 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 高温材料の冷却装置 |
JPH04313363A (ja) * | 1990-01-09 | 1992-11-05 | Hoechst Ag | 流体の塗布方法および塗布装置 |
JPH0588647U (ja) * | 1992-05-15 | 1993-12-03 | 積水化学工業株式会社 | シャワーノズル |
JPH0623302A (ja) * | 1990-01-16 | 1994-02-01 | W R Grace & Co | 回転可能なスロットノズルの空気バー |
JPH06182283A (ja) * | 1992-12-21 | 1994-07-05 | Sigma Merutetsuku Kk | 薬液ノズル |
JPH11225827A (ja) * | 1998-02-16 | 1999-08-24 | Chikako Mizuno | シャワーブラシ |
JP2001173045A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-06-26 | Mizutomo:Kk | ハーブエッセンスの担体およびそれを用いた給湯機器 |
JP2002350054A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2003010741A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-14 | Masaaki Ikeda | 超微粒子発生装置 |
JP2003205256A (ja) * | 2001-11-12 | 2003-07-22 | Ikeuchi:Kk | ノズル |
JP2004103978A (ja) * | 2002-09-12 | 2004-04-02 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理方法及び基板処理装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS549725B2 (ja) * | 1973-09-29 | 1979-04-26 |
-
2004
- 2004-04-28 JP JP2004132583A patent/JP4551117B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51133116A (en) * | 1975-05-15 | 1976-11-18 | Nippon Steel Corp | A method and apparatus for cooling of metal strips |
JPS5833796Y2 (ja) * | 1979-06-01 | 1983-07-28 | 日新製鋼株式会社 | 噴射ノズル |
JPS5779052U (ja) * | 1980-10-31 | 1982-05-15 | ||
JPS59230663A (ja) * | 1983-03-22 | 1984-12-25 | デベロツプメント・フアイナンス・コ−ポレ−シヨン・オブ・ニユ−ジ−ランド | 液体を表面に被着する方法およびアツプリケ−タ |
JPS6332660U (ja) * | 1986-08-13 | 1988-03-02 | ||
JPH02104850U (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-21 | ||
JPH04313363A (ja) * | 1990-01-09 | 1992-11-05 | Hoechst Ag | 流体の塗布方法および塗布装置 |
JPH0623302A (ja) * | 1990-01-16 | 1994-02-01 | W R Grace & Co | 回転可能なスロットノズルの空気バー |
JPH03285709A (ja) * | 1990-03-31 | 1991-12-16 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 高温材料の冷却装置 |
JPH0588647U (ja) * | 1992-05-15 | 1993-12-03 | 積水化学工業株式会社 | シャワーノズル |
JPH06182283A (ja) * | 1992-12-21 | 1994-07-05 | Sigma Merutetsuku Kk | 薬液ノズル |
JPH11225827A (ja) * | 1998-02-16 | 1999-08-24 | Chikako Mizuno | シャワーブラシ |
JP2001173045A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-06-26 | Mizutomo:Kk | ハーブエッセンスの担体およびそれを用いた給湯機器 |
JP2002350054A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-04 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2003010741A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-14 | Masaaki Ikeda | 超微粒子発生装置 |
JP2003205256A (ja) * | 2001-11-12 | 2003-07-22 | Ikeuchi:Kk | ノズル |
JP2004103978A (ja) * | 2002-09-12 | 2004-04-02 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理方法及び基板処理装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010137128A (ja) * | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Tokyo Reito Kucho Jigyo Kyodo Kumiai | 噴霧装置 |
JP2011110451A (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-09 | Touki Co Ltd | ミスト噴出用ノズル、それを備えた成膜装置および成膜方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4551117B2 (ja) | 2010-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4284239A (en) | Atomizing unit of two-phase type | |
JP4130630B2 (ja) | 超微細な液滴を有するミストの生成、抽出及び送出のための方法及び装置 | |
JP6487041B2 (ja) | 噴霧器ノズル | |
JP2008049220A (ja) | 粒子の分離方法と分離装置 | |
JP3831102B2 (ja) | ジェット粉砕機 | |
JP2009154146A (ja) | 微粒化装置および微粒化方法 | |
JP4551117B2 (ja) | 微粒子噴霧装置 | |
JP2010043212A (ja) | 油中水滴型エマルションの製造方法、油中水滴型エマルションの製造装置、および油中水滴型エマルション燃料の製造装置 | |
JP2007181802A (ja) | スプレーノズルおよびインサート | |
JP2004351267A (ja) | マイクロミスト発生方法及びその装置 | |
JP4239879B2 (ja) | マイクロミスト発生方法及びその装置 | |
JP5778934B2 (ja) | 粉砕装置 | |
JP4647845B2 (ja) | 超微粒子発生装置 | |
JP4477798B2 (ja) | 超微粒子発生装置 | |
JP2008161834A (ja) | ノズルおよび気液噴霧装置 | |
CN111420792B (zh) | 一种纳米颗粒超声雾化分级装置及其方法 | |
JP6771407B2 (ja) | 除熱方法及び除熱システム | |
JP2005313049A (ja) | 微粒子噴射装置 | |
JP2001137747A (ja) | 微粒化ノズル | |
JP4266239B1 (ja) | 二流体微粒化ノズル | |
JP2021090933A (ja) | ミスト放出機構及び気液混合装置 | |
JP2006294762A (ja) | 基板処理装置 | |
JP5864704B2 (ja) | ミスト発生装置、ミスト発生機構及びミスト発生方法 | |
JP2007021329A (ja) | 粘性液体噴霧用ノズル、粉体製造装置、粘性液体噴霧方法および粉体製造方法 | |
US20230027176A1 (en) | Annular effervescent nozzle |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070112 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090928 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091013 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091211 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100629 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100709 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4551117 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130716 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |