JP2005298421A - フェナンスレンジアミン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 - Google Patents
フェナンスレンジアミン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005298421A JP2005298421A JP2004118252A JP2004118252A JP2005298421A JP 2005298421 A JP2005298421 A JP 2005298421A JP 2004118252 A JP2004118252 A JP 2004118252A JP 2004118252 A JP2004118252 A JP 2004118252A JP 2005298421 A JP2005298421 A JP 2005298421A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- derivative
- general formula
- represented
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 title claims abstract description 51
- ARFWEVQMYYLLPJ-UHFFFAOYSA-N phenanthrene-1,2-diamine Chemical class C1=CC=C2C3=CC=C(N)C(N)=C3C=CC2=C1 ARFWEVQMYYLLPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 41
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 26
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims abstract description 13
- -1 phenanthrene diamine Chemical class 0.000 claims description 80
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N Phenanthrene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 75
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 69
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 67
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 60
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 58
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 40
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 35
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 29
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 24
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 12
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 8
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002490 anilino group Chemical class [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 35
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 125000006617 triphenylamine group Chemical group 0.000 abstract description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 31
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 30
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 25
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 12
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000005695 dehalogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIUGUNHEXAZYIY-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitroacridine Chemical class C1=CC=CC2=CC3=C([N+]([O-])=O)C([N+](=O)[O-])=CC=C3N=C21 QIUGUNHEXAZYIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dinitroanthracene-9,10-dione Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=C([N+]([O-])=O)C([N+](=O)[O-])=CC=C3C(=O)C2=C1 NMNSBFYYVHREEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical class C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYPMAZCBFKBIFK-UHFFFAOYSA-N 9,10-dinitroanthracene Chemical class C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=C(C=CC=C3)C3=C([N+]([O-])=O)C2=C1 XYPMAZCBFKBIFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 0 CN*=N*(c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound CN*=N*(c1ccccc1)c1ccccc1 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Nc1ccccc1 Chemical compound Nc1ccccc1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007239 Wittig reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- FPIPGXGPPPQFEQ-OVSJKPMPSA-N all-trans-retinol Chemical compound OC\C=C(/C)\C=C\C=C(/C)\C=C\C1=C(C)CCCC1(C)C FPIPGXGPPPQFEQ-OVSJKPMPSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000012992 electron transfer agent Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004057 1,4-benzoquinones Chemical class 0.000 description 1
- WQGWMEKAPOBYFV-UHFFFAOYSA-N 1,5,7-trinitrothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C(=O)C3=CC([N+](=O)[O-])=CC([N+]([O-])=O)=C3SC2=C1 WQGWMEKAPOBYFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCANAXVBJKNANM-UHFFFAOYSA-N 1-nitroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2[N+](=O)[O-] YCANAXVBJKNANM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTECWVALCNVZFJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,5,6-tetranitrofluoren-9-one Chemical class O=C1C2=CC=C([N+]([O-])=O)C([N+]([O-])=O)=C2C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C=C2[N+]([O-])=O BTECWVALCNVZFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEKJEMDSKURVLI-UHFFFAOYSA-N 3,4-dibromofuran-2,5-dione Chemical compound BrC1=C(Br)C(=O)OC1=O GEKJEMDSKURVLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxycyclobut-2-en-1-one Chemical compound OC1=CC(=O)C1 IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLQYLLIGYDFCGY-UHFFFAOYSA-N 4-(2-anthracen-9-ylethenyl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=C(C=CC=C2)C2=CC2=CC=CC=C12 CLQYLLIGYDFCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- ZJXWAQVBKSOUDV-UHFFFAOYSA-N CCCCc(cc1)ccc1Nc(c1ccccc1c1c2cccc1)c2Nc1ccc(CCCC)cc1 Chemical compound CCCCc(cc1)ccc1Nc(c1ccccc1c1c2cccc1)c2Nc1ccc(CCCC)cc1 ZJXWAQVBKSOUDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNKLKWDEWHOJHJ-UHFFFAOYSA-N CN(C)c1ccc(C=C(c2ccccc2)c2ccccc2)cc1 Chemical compound CN(C)c1ccc(C=C(c2ccccc2)c2ccccc2)cc1 GNKLKWDEWHOJHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- 229910010082 LiAlH Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Chemical class 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- ZDVDCDLBOLSVGM-UHFFFAOYSA-N [chloro(phenyl)methyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Cl)C1=CC=CC=C1 ZDVDCDLBOLSVGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 235000019169 all-trans-retinol Nutrition 0.000 description 1
- 239000011717 all-trans-retinol Substances 0.000 description 1
- CECABOMBVQNBEC-UHFFFAOYSA-K aluminium iodide Chemical compound I[Al](I)I CECABOMBVQNBEC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Chemical class CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- ATOBFIJJVFMKMU-LBXGSASVSA-N c(cc1)ccc1/N=C(/c1ccccc1-c1c2cccc1)\C2=N/c1ccccc1 Chemical compound c(cc1)ccc1/N=C(/c1ccccc1-c1c2cccc1)\C2=N/c1ccccc1 ATOBFIJJVFMKMU-LBXGSASVSA-N 0.000 description 1
- DDBXJDNROBODGD-UHFFFAOYSA-N c(cc1)ccc1Nc(c1ccccc1c1c2cccc1)c2Nc1ccccc1 Chemical compound c(cc1)ccc1Nc(c1ccccc1c1c2cccc1)c2Nc1ccccc1 DDBXJDNROBODGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000008424 iodobenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002545 isoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N malononitrile Chemical class N#CCC#N CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- UDJWHGNSQWLKGR-UHFFFAOYSA-N n-methyl-4-[5-[4-(methylamino)phenyl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]aniline Chemical class C1=CC(NC)=CC=C1C1=NN=C(C=2C=CC(NC)=CC=2)O1 UDJWHGNSQWLKGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000002987 phenanthrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004059 quinone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004867 thiadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 150000004882 thiopyrans Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000026683 transduction Effects 0.000 description 1
- 238000010361 transduction Methods 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical class C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】 一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体、その製造方法、およびフェナンスレンジアミン誘導体を含有した電子写真感光体であって、特定のフェナンスレンジアミン誘導体と、特定のハロゲン誘導体と、を反応させて得られるフェナンスレンジアミン誘導体を対象とする。
【化1】
(一般式(1)中のR1〜R8は、それぞれ独立しており、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基等であり、あるいは、R1〜R8のうち少なくとも二つは、それぞれが結合または縮合して形成した、置換または非置換の炭素環構造である。)
【選択図】 図1
Description
このような有機感光体材料のうち、優れた初期感度特性を有する電荷輸送剤として、下記一般式(40)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体が知られている(例えば、特許文献1参照)。
そこで、本発明者らは、分子末端に特定の置換基を有するフェナンスレンジアミン誘導体を使用することにより、電荷の移動度が高くなり、感度特性が優れるとともに、長時間繰り返し使用時においても、露光メモリーが発生しないという事実を発見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の目的は、上述した技術的な問題を解決し、電子写真感光体等の正孔輸送剤として好適に用いることのできる分子末端に特定の置換基を有するフェナンスレンジアミン誘導体、その製造方法、および、感度特性および露光メモリーの消去性が優れた電子写真感光体を提供することにある。
すなわち、一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体は、分子末端のトリフェニルアミン構造に特定の置換基を有しており、電荷の移動度が高いため、長時間繰り返し使用した場合においても、感度特性および露光メモリー消去性に優れた電子写真感光体を提供することができる。
また、一般式(1)中のR5〜R8が所定のアルキル基であることにより、結着樹脂への溶解性に優れているという特徴を有する。すなわち、電子写真感光体における正孔輸送剤として使用することにより、感光層中に均一に分散されるため、長期間にわたって感度特性が優れるとともに、電子写真感光体の製造が容易になる。したがって、長時間繰り返し使用時においても優れた感度を有する電子写真感光体を効率よく提供することができる。
第1の実施形態は、下記一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体である。なお、一般式(1)中のR1〜R8は、既に上述した定義である。
この理由は、電子の分布が非局在化し、かつ平面的になることによって、電荷移動度が大きくなるとともに、電荷発生剤からの電荷の注入性を高めることができるためである。
したがって、電子写真感光体における正孔輸送剤として使用することにより、優れた感度特性を有した電子写真感光体を提供することができる。
また、アリール基であれば、比較的導入が容易であり、所定の安定性を有するフェナンスレンジアミン誘導体を比較的高い収率で得ることができる。
この理由は、電子の分布が非局在化し、かつ平面的になることによって、電荷移動度が大きくなるとともに、電荷発生剤からの電荷の注入性を高めることができるためである。
したがって、電子写真感光体における正孔輸送剤として使用することにより、優れた感度特性を有した電子写真感光体を提供することができる。
また、このような構造であれば、比較的導入が容易であり、所定の安定性を有するフェナンスレンジアミン誘導体を比較的高い収率で得ることができる。
この理由は、一般式(1)中のR5〜R8が、水素原子であることにより、所定構造を有するスチルベン誘導体の製造が容易になり、かかる誘導体を安定して得ることができるためであり、また、一般式(1)中のR5〜R8が所定のアルキル基であることにより、結着樹脂への溶解性に優れているという特徴が得られるためである。
したがって、電子写真感光体における正孔輸送剤として使用することにより、長時間繰り返し使用時においても、感度特性に優れた電子写真感光体を効率よく提供することができる。
第2の実施形態は、下記反応式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体の製造方法であって、一般式(2)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体と、一般式(3)および(4)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体とを反応させて、脱ハロゲン化反応により、一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体を得ることを特徴とするフェナンスレンジアミン誘導体の製造方法である。
なお、反応式(1)中のR1〜R8およびXは、既に上述した定義した内容である。
まず、反応式(1)を説明するうえで、原料となる一般式(2)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体の合成方法について詳しく説明する。
一般式(2)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体は、下記反応式(2)に示すように、カップリング反応および還元反応を用いて合成することが好ましい。
すなわち、一般式(5)で表されるフェナンスレンキノン誘導体と、一般式(6)および(7)で表されるアニリン誘導体とをカップリング反応させた後、得られた一般式(8)で表されるフェンスレンジアミン誘導体を還元反応させて得ることができる。
なお、反応式(2)中のR7およびR8は、反応式(1)の内容と同様であって、既に上述した内容である。
(2)−1 第1工程
第1の工程において、一般式(5)で表される9,10−フェナンスレンキノンと、一般式(6)および(7)で表されるアニリン誘導体とを反応させて、一般式(8)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体を合成することが好ましい。
この理由は、かかるフェナンスレンキノンと、2種類のヨードベンゼン誘導体との添加割合が1:1未満の値になると、目的物であるフェナンスレン誘導体の生成量が低下する場合があるためである。一方、かかるフェナンスレンジアミン誘導体と、2種類のアニリン誘導体との添加割合が、1:5を超えると、未反応のアニリン誘導体が多く残留するため、目的物であるフェナンスレンジアミン誘導体の精製が困難になる場合があるためである。
なお、一般式(6)および(7)で表されるアニリン誘導体の添加割合をモル比で約1:1の値にすることが好ましい。
この理由は、このような反応条件であれば、比較的簡単な製造設備を用いて、所望の反応を効率的に実現できるためである。
ここで、かかる触媒の添加量を、一般式(5)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体1モルに対して、1〜5モルの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる触媒の添加量が1モル未満の値となると、一般式(5)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体と、一般式(6)および(7)で表される2種類のアニリン誘導体と、の間の反応性が著しく低下する場合があるためである。
一方、かかる塩基の添加量が5モルを超えると、一般式(5)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体と、一般式(6)および(7)で表される2種類のアニリン誘導体と、の間の反応を制御することが著しく困難になる場合があるためである。
次いで、一般式(8)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体を還元反応させて、一般式(2)で表されるフェンスレンジアミン誘導体を合成する。
ここで、かかる還元剤の添加量を、一般式(8)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体1モルに対して、1〜10モルの範囲内とすることが好ましい。さらに、2〜6モルの範囲内とすることがより好ましい。
ここで、反応式(1)を実施するうえで、原料となる一般式(3)で表されるハロゲン誘導体の合成方法について詳しく説明する。
一般式(3)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体は、下記反応式(3)に示すように、ウィッティヒ(Wittig)反応を用いて合成することが好ましい。
すなわち、一般式(9)で表されるリンイリド誘導体と、一般式(10)で表されるホルミル化ベンゼン誘導体とをウィッティヒ(Wittig)反応させて、一般式(3)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体を得ることができる。
なお、反応式(3)中のR1、R2、R5およびXは、反応式(1)の内容と同様であって、既に上述した内容である。
ここで、一般式(9)で表されるリンイリド誘導体と、式(10)で表されるホルミル化ベンゼン誘導体との添加割合を、モル比で1:0.4〜1:1.5範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるリンイリド誘導体と、ホルミル化ベンゼン誘導体との添加割合が、1:0.4未満の値になると、未反応のリンイリド誘導体が多く残留するため、一般式(3)で表されるハロゲン誘導体の精製が困難になるためである。一方、リンイリド誘導体と、ホルミル化ベンゼン誘導体との添加割合が、1:1.5を超えると、未反応のホルミル化ベンゼン誘導体が多く残留するため、一般式(3)で表されるハロゲン誘導体の精製が困難になる場合があるためである。
したがって、一般式(9)で表されるリンイリド誘導体と、式(10)で表されるホルミル化ベンゼン誘導体との添加割合を、モル比で1:0.6〜1:1の範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、このような反応条件であれば、比較的簡易な製造設備を用いて、所望の反応を効率的に実施できるためである。
なお、ウィッティヒ(Wittig)法で使用する試薬としては、例えば、n−ブチルリチウム、ナトリウムメトキシドやナトリウムエトキシド等のナトリウムアルコキシド;水素化ナトリウムや水素化カリウム等の金属水素化物等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
ここで、反応式(1)を実施するための反応条件について詳細に説明する。
すなわち、一般式(1)で表されるファンスレンジアミン誘導体は、上述した反応式(1)に示すように、脱ハロゲン化反応を用いて合成することが好ましい。
一般式(2)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体と、一般式(3)および(4)で表される2種類ハロゲン誘導体との反応温度は、通常80〜300℃で行うことが好ましく、その反応時間を1〜24時間の範囲内の値とすることが好ましい。
また、かかる反応に使用する好適な溶媒としては、当該反応に影響を及ぼさないものであれば良いが、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;ニトロベンゼン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、HMPA等の非プロトン性極性溶媒が好ましい。
また、かかる反応に使用する好適な塩基としては、例えば、炭酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基;または、ピリジン、ピコリン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピロリジン、1,5−ジアザビシクロ〔4・3・0〕ノネン−5(DBN)、1,5−ジアザビシクロ〔5・4・0〕ウンデセン−5(DBU)、1,4−ジアザビシクロ〔2・2・0〕オクタン(DBCO)等の有機塩基が挙げられる。
また、かかる反応に使用する好適な触媒としては、例えば、銅粉、酸化銅、塩化第一銅、硫酸銅、酢酸銅などが挙げられる。
一般式(2)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体と、一般式(3)および(4)で表される2種類ハロゲン化ベンゼン誘導体と、の反応を実施するにあたり、添加割合を、モル比で1:2〜1:5の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるフェナンスレンジアミン誘導体と、ハロゲン化ベンゼン誘導体との添加割合が1:2未満の値になると、フェナンスレンジアミン誘導体と、ハロゲン化ベンゼン誘導体とが、適切に対応して反応することが困難になる場合があるためである。また、かかる添加割合が、1:5を超えると、未反応のハロゲン誘導体が多く残留し、精製を困難にする場合があるためである。
したがって、一般式(2)で表されるフェナンスレンキノン誘導体と、一般式(3)および(4)で表されるハロゲン誘導体と、の添加割合を、モル比で1:2.5〜1:4の範囲内の値とすることが好ましい。
第3の実施形態は、導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体であって、感光層に、一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体を含有することを特徴とする電子写真感光体である。
また、電子感光体には、単層型と積層型とがあるが、本発明のフェナンスレンジアミン誘導体は、いずれにも適用可能である。
ただし、特に正負いずれの帯電型にも使用できること、構造が簡単で製造が容易であること、層を形成する際の被膜欠陥を抑制できること、層間の界面が少なく、光学的特性を向上できること等の観点から、単層型に適用することが好ましい。
なお、本発明のフェナンスレンジアミン誘導体を有する電子写真感光体は、優れた感度特性を有しているため、例えば電子写真感光体を搭載した画像形成装置の一例として、図3で示されるものが挙げられる。
(1) 基本的構成
図1(a)に示すように、単層型感光体10は、導電性基体12上に単一の感光層14を設けたものである。
この感光層は、例えば、一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体(正孔輸送剤)と、電荷発生剤と、結着樹脂と、さらに必要に応じて電子輸送剤を適当な溶媒に溶解または分散させ、得られた塗布液を導電性基体上に塗布し、乾燥させることで形成することができる。かかる単層型感光体は、単独の構成で正負いずれの帯電型にも適用可能であるとともに、層構成が簡単であって、生産性に優れているという特徴がある。
また、得られた単層型感光体は、一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体を含んでいることから、優れた感度特性および露光メモリーの消去性を有しているという特徴がある。
さらに、単層型感光体の感光層に、電子輸送剤を含有させる場合には、電荷発生剤と正孔輸送剤との電子の授受が効率よく行われるようになり、感度等がより安定する傾向が見られる。
本発明に用いられる電荷発生剤としては、例えば、無金属フタロシアニン、オキソチタニルフタロシアニン、ペリレン顔料、ビスアゾ顔料、ジチオケトピロロピロール顔料、無金属ナフタロシアニン顔料、金属ナフタロシアニン顔料、スクアライン顔料、トリスアゾ顔料、インジゴ顔料、アズレニウム顔料、シアニン顔料等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
特に、半導体レーザー等の光源を使用したレーザービームプリンタやファクシミリ等のデジタル光学系の画像形成装置には、700nm以上の波長領域に感度を有する感光体が必要となるため、例えば、無金属フタロシアニンやオキソチタニルフタロシアニン等のフタロシアニン系顔料が好適に用いられる。
一方、ハロゲンランプ等の白色の光源を使用した静電式複写機等のアナログ光学系の画像形成装置には、可視領域に感度を有する感光体が必要となるため、例えば、ペリレン顔料やビスアゾ顔料等が好適に用いられる。
本発明の電子写真感光体においては、正孔輸送剤である本発明のフェナンスレンジアミン誘導体とともに、従来公知の他の正孔輸送剤を感光層に含有させることも好ましい。
このような正孔輸送剤としては、高い正孔輸送能を有する種々の化合物、例えば下記一般式(13)〜(25)で表される化合物(HTM−1〜HTM−13)があげられる。
本発明に用いられる電子輸送剤としては、キノン誘導体を含む化合物が好ましい。たとえば、ジフェノキノン誘導体およびナフトキノン誘導体等が挙げられる。この理由は、電子輸送剤として、特定の化合物を使用することにより、電子受容性に優れており、また電荷発生剤との相溶性が優れていることから、感度特性に優れた湿式現像用電子写真感光体を提供することができるためである。
また、これらの電子輸送剤のうち、電界強度が5×105v/cmにおける電子移動度が1.0×10-8cm2/V/sec以上である化合物がより好ましい。
各成分を分散させるための結着樹脂は、従来、感光層に使用されている種々の樹脂を使用することができる。例えばスチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、アイオノマー樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂;シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、その他架橋性の熱硬化性樹脂;エポキシアクリレート、ウレタン−アクリレート等の光硬化型樹脂等の樹脂が使用可能である。
特に、ポリカーボネート樹脂は、透明性や耐熱性に優れているばかりか、機械的特性や正孔輸送剤との相溶性にも優れていることから好ましい結着樹脂である。
また、感光層には、上記各成分のほかに、電子写真特性に悪影響を与えない範囲で、従来公知の種々の添加剤、例えば酸化防止剤、ラジカル捕捉剤、一重項クエンチャー、紫外線吸収剤等の劣化防止剤、軟化剤、可塑剤、表面改質剤、増量剤、増粘剤、分散安定剤、ワックス、アクセプター、ドナー等を配合することができる。また、感光層の感度を向上させるために、例えばテルフェニル、ハロナフトキノン類、アセナフチレン等の公知の増感剤を電荷発生剤と併用してもよい。
本発明の電子写真感光体が単層型の感光体である場合、電荷発生剤は、結着樹脂100重量部に対して0.1〜50重量部、好ましくは0.5〜30重量部の割合で配合すればよい。本発明のフェナンスレンジアミン誘導体(正孔輸送剤)は、結着樹脂100重量部に対して20〜500重量部、好ましくは30〜200重量部の割合で配合すればよい。電子輸送剤を含有させる場合、電子輸送剤の割合を結着樹脂100重量部に対して5〜100重量部、好ましくは10〜80重量部とするのが適当である。
また、単層型感光体における感光層の厚さは5〜100μm、好ましくは10〜50μmである。
そして、このような感光層が形成される導電性基体としては、導電性を有する種々の材料を使用することができ、例えば鉄、アルミニウム、銅、スズ、白金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼、真鍮等の金属や、上記金属が蒸着またはラミネートされたプラスチック材料、ヨウ化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で被覆されたガラス等があげられる。
分散液を作るための溶剤としては、種々の有機溶剤が使用可能であり、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類;n−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類;ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等があげられる。これらの溶剤は単独でまたは2種以上を混合して用いられる。
さらに、電荷輸送剤や電荷発生剤の分散性、感光層表面の平滑性を良くするために界面活性剤、レベリング剤等を使用してもよい。
図2(a)に示すように、積層型感光体20は、導電性基体12上に、蒸着または塗布等の手段によって、電荷発生剤を含有する電荷発生層24を形成し、次いでこの電荷発生層24上に、一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体(正孔輸送剤)の少なくとも1種と結着樹脂とを含む塗布液を塗布し、乾燥させて電荷輸送層22を形成することによって作製される。
また、上記構造とは逆に、図2(b)に示すように、導電性基体12上に電荷輸送層22を形成し、その上に電荷発生層24を形成している積層型感光体20´でもよい。
ただし、電荷発生層24は、電荷輸送層22に比べて膜厚がごく薄いため、その保護のためには、図2(a)に示すように、電荷発生層24の上に電荷輸送層22を形成することがより好ましい。
なお、電荷発生剤、正孔輸送剤、電子輸送剤、結着剤等については、単層型感光体と同様の内容とすることができる。
そして、本発明の積層型電子写真感光体は、感光体の残留電位が低下するとともに、所定感度を有しているという特徴がある。
なお、積層型感光体における感光層の厚さは、電荷発生層が0.01〜5μm程度、好ましくは0.1〜3μm程度であり、電荷輸送層が2〜100μm、好ましくは5〜50μm程度である。
(1) フェナンスレンジアミン誘導体(HTM−A)の合成
(1)−1 フェナンスレンジアミン誘導体の合成
下記式(31)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体の合成を、下記反応式(4)に沿って実施した。
すなわち、容量2lの2つ口フラスコ内に、式(5)で表される9,10−フェナントレンキノン35g(0.168mol)と、式(30)で表されるアニリン誘導体62.7g(0.42mol)と、トルエン300mlと、を加え、0℃に冷却した。次いで、トルエン300mlに溶解した四塩化チタン79.7g(0.42mol)を添加し、20℃に温度保持し、3時間撹拌した。得られた反応液を、イオン交換水1000mlとトルエン200mlとの混合液中に滴下し、生成したトルエン層をイオン交換水にて洗浄した。次いで、トルエンを含む有機層に、無水硫酸ナトリウムおよび活性白土を加え、乾燥処理および吸着処理を行った。その後、トルエンを減圧留去し、さらに残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶媒:クロロホルム溶媒)にて精製し、式(31)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体45.7gを得た(収率58.8%)。
ついで、式(32)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体の合成を、下記の反応式(5)に沿って実施した。
すなわち、容量500mlのフラスコ内に、式(31)で表されるフェナンスレンジアミン15g(0.0319mol)と、メタノール(MeOH)100mlと、を収容し、0℃に冷却した。次いで、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)3.62g(0.0956mol)を添加し、20℃に温度保持し、3時間撹拌した。得られた反応液をイオン交換水400mlに滴下し、析出した固体状物をろ別した。得られた固体状物をクロロホルムで溶解させ、有機層をイオン交換水にて3回洗浄を行った。その後、得られた有機層に無水硫酸ナトリウムおよび活性白土を加え、乾燥および吸着処理を行った。その後、クロロホルムを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶媒:クロロホルム溶媒)を用いて精製し、式(32)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体9.7gを得た(収率64%)。
次いで、式(34)で表されるリンイリドの合成を、下記の反応式(6)に沿って実施した。すなわち、ジフェニルクロロメタン500g(2.47mol)と、亜リン酸トリエチル492g(3.00mol)とを添加した後、攪拌しながら160℃、3時間の条件で加熱した。その後、室温まで冷却した後、過剰な亜リン酸トリエチルを減圧留去し、式(34)で表されるリンイリド誘導体639gを得た(収率85%)。
次いで、下記式(36)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体を、下記の反応式(7)に沿って実施した。すなわち、−20℃に温度保持した容量500mlの二つ口フラスコ内に、式(34)で表されるリンイリド20g(0.0657mol)を収容した後、アルゴンガス置換をおこない、さらに乾燥済みのTHF100mlと、n−BuLiヘキサン溶液(濃度1.6mol/リットル)41.1ml(0.0657mol)と、を添加して、10分間撹拌した。さらに、式(35)で表されるホルミル化ハロゲン誘導体9.25g(0.050mol)を添加して、−20℃で、15分間攪拌しながら反応させた。得られた反応液を、イオン交換水に注いだ後、トルエンを用いて抽出を実施した。さらにトルエンを含む有機層をイオン交換水にて、5回繰り返し洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。その後、溶媒を留去し、得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶媒:クロロホルム溶媒)を用いて精製し、式(36)で表されるトリフェニルアミン誘導体12.4gを得た(収率74%)。
次いで、下記式(11)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体を、下記の反応式(8)に沿って実施した。
すなわち、容量500mlのフラスコ内に、無水炭酸カリウム3.8g(0.0275mol)および粉末銅0.175g(0.00275mol)を加え、2時間加熱して、均一になるまで攪拌した。次いで、下記式(32)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体5.22g(0.011mol)と、式(36)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体8.4g(0.0251mol)と、1,2,4−トリクロロベンゼン50mlと、を添加した後、240℃に再加熱し、12時間反応させた。その後、室温まで冷却した後、50mlのトルエンを添加し、ろ過処理を実施した。得られた残渣をトルエンで溶解し、活性白土を用いて乾燥させた。その後、得られた結晶を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶媒:クロロホルム溶媒)を用いて精製し、式(11)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体4.03gを得た(収率37.3%)
実施例1で得られた式(11)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体(HTM−A)を正孔輸送剤として、単層型の電子写真感光体を作成して、初期感度(明電位)、1000枚連続印字後の感度変化および画像評価を測定した。すなわち、正孔輸送剤として、得られたフェナンスレンジアミン誘導体を60重量部と、電荷発生剤として、下記式(37)で表されるX型無金属フタロシアニン(CGM−A)を5重量部と、結着樹脂として、下記式(38)で表されるポリカーボネート樹脂(Resin−A)100重量部と、を溶媒としてのテトラヒドロフラン800重量部に対して添加した。次いで、ボールミルを用いて50時間混合分散して、単層型感光層用の塗布液を作成した。得られた塗布液を、導電性基材(アルミニウム素管)上に、ディップコート法にて塗布し、100℃、30分間の条件で熱風乾燥して、膜厚25μmの単層型感光層を有する電子写真感光体を得た。
次いで、得られた電子写真感光体を、ドラム感度試験機(GENTEC社製)を用いて、700Vになるように帯電させ、次いで、ハロゲンランプの光からハンドパルスフィルターを用いて取り出した波長780nmの単色光(半値幅:20nm、光量:1.5μJ/cm2)を露光した。露光後330msec経過後の電位を測定し、初期感度(V)とした。さらに、得られた電子写真感光体をプリンタ(京セラミタ株式会社製、Creage8331改造機)に搭載し、約700Vになるように帯電させ、A4普通紙の1000枚の連続印刷を行った後、再び感度を測定し、ランニング後感度とした。そして、ランニング後感度から初期感度を引いた値を感度変化(V)として算出した。得られた結果を表1に示す。
◎:グレー部に露光メモリーの発生が全く観察されない。
○:グレー部に露光メモリーの発生がほとんど観察されない。
△:グレー部に露光メモリーの発生が少々観察される。
×:グレー部に露光メモリーの顕著な発生が観察される。
実施例2においては、実施例1の塗布液中に、正孔輸送材料として、式(11)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体(HTM−A)のかわりに式(12)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体を添加したほかは、実施例1と同様に単層型感光層を作成して、評価した。
比較例1においては、実施例1で使用したフェナンスレンジアミン誘導体(HTM−A)のかわりに、正孔輸送材料として、下記式(39)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体(HTM−C)を用いたほかは、実施例1と同様にそれぞれ単層型感光層を作成して、評価した。
また、一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体は、高い正孔輸送能を有することから、電子写真感光体における正孔輸送剤として好適に使用されるほか、太陽電池、エレクトロルミネッセンス素子等の種々の分野での利用が可能である。
12:導電性基体
14:感光体層
16:バリア層
18:保護層
20:積層型感光体
22:電荷輸送層
24:電荷発生層
30:複写機
31:画像形成ユニット
31a:画像形成部
31b:給紙部
32:排紙ユニット
33:画像読取ユニット
33a:光源
33b:光学素子
34:原稿給送ユニット
34a:原稿載置トレイ
34b:原稿給送機構
34c:原稿排出トレイ
41:感光体ドラム
42:帯電器
43:露光源
44:現像器
45:転写ローラ
46:クリーニング装置
50:メモリ画像評価用原稿
51:白色部
52:黒色部
53:グレー部
Claims (9)
- 前記一般式(1)中の複数のR1〜R4が、それぞれ独立した置換または非置換の炭素数6〜30のアリール基であることを特徴とする請求項1に記載のフェナンスレンジアミン誘導体。
- 前記一般式(1)中のR1とR2、およびR3とR4が、縮合して形成した、置換または非置換の炭素環構造であることを特徴とする請求項1または2に記載のフェナンスレンジアミン誘導体。
- 前記一般式(1)中のR5〜R8が、それぞれ独立した水素原子または炭素数1〜20のアルキル基であることを特徴とする請求項1〜3に記載のフェナンスレンジアミン誘導体。
- 下記反応式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体の製造方法であって、一般式(2)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体と、一般式(3)および(4)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体とを反応させて、脱ハロゲン化反応により、一般式(1)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体を得ることを特徴とするフェナンスレンジアミン誘導体の製造方法。
(反応式(1)中、R1〜R8はそれぞれ独立しており、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、または炭素数6〜30のアリール基であり、あるいは、R1〜R8のうち少なくとも二つは、それぞれが結合または縮合して形成した、置換または非置換の炭素環構造であり、Xはハロゲン原子である。) - 前記一般式(2)で表されるフェナンスレンジアミン誘導体として、下記反応式(2)で表されるように、一般式(5)で表される9,10−フェナンスレンキノンと、一般式(6)および(7)で表されるアニリン誘導体とをカップリング反応させた後、還元反応によって得られるフェナンスレンジアミン誘導体を使用することを特徴とする請求項5に記載のフェナンスレンジアミン誘導体の製造方法。
(反応式(2)中、R7およびR8はそれぞれ独立しており、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、または炭素数6〜30のアリール基であり、あるいは、R7およびR8の二つは、結合または縮合して形成した、置換または非置換の炭素環構造である。) - 前記一般式(3)で表されるハロゲン誘導体として、下記反応式(3)で表されるように、一般式(9)で表されるリンイリド誘導体と、一般式(10)で表されるホルミル化ベンゼン誘導体とを、ウィッティヒ(Wittig)法で反応させて得られるハロゲン化ベンゼン誘導体を使用することを特徴とする請求項5または6に記載のフェナンスレンジアミン誘導体の製造方法。
(反応式(3)中、R1、R2およびR5はそれぞれ独立しており、水素原子、ハロゲン原子、置換または非置換の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、または炭素数6〜30のアリール基であり、あるいは、R1、R2およびR5のうち少なくとも二つは、それぞれが結合または縮合して形成した、置換または非置換の炭素環構造であり、Xはハロゲン原子である。) - 前記感光層が、電荷発生剤および電子輸送剤をさらに含有した単層型であることを特徴とする請求項8に記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004118252A JP4508710B2 (ja) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004118252A JP4508710B2 (ja) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005298421A true JP2005298421A (ja) | 2005-10-27 |
| JP4508710B2 JP4508710B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=35330399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004118252A Expired - Fee Related JP4508710B2 (ja) | 2004-04-13 | 2004-04-13 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4508710B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007103819A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料 |
| JP2023147047A (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-12 | 三菱ケミカル株式会社 | 化合物 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06211757A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-02 | Sankyo Kagaku Kk | 新規な9,10−ビス(n,n−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法 |
| JPH08333283A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-12-17 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ジスチリルアリーレン誘導体 |
| JPH09268284A (ja) * | 1996-04-01 | 1997-10-14 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
-
2004
- 2004-04-13 JP JP2004118252A patent/JP4508710B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06211757A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-02 | Sankyo Kagaku Kk | 新規な9,10−ビス(n,n−ジアリールアミノ)フェナントレン誘導体およびその製造方法 |
| JPH08333283A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-12-17 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ジスチリルアリーレン誘導体 |
| JPH09268284A (ja) * | 1996-04-01 | 1997-10-14 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007103819A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料 |
| JP2023147047A (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-12 | 三菱ケミカル株式会社 | 化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4508710B2 (ja) | 2010-07-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO1998038551A1 (fr) | Photorecepteur electrophotographique | |
| JP4249730B2 (ja) | アミンスチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 | |
| JP3568431B2 (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体 | |
| JP3694591B2 (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法および電子写真感光体 | |
| JP4508710B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP4820539B2 (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 | |
| JP4533648B2 (ja) | アミンスチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 | |
| JP3720927B2 (ja) | スチルベン誘導体およびそれを用いた電子写真感光体 | |
| JP4555586B2 (ja) | 単層型電子写真感光体 | |
| JP3694606B2 (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法および電子写真感光体 | |
| JP4235537B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2005306744A (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 | |
| JP4601349B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP4617109B2 (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 | |
| JP3694605B2 (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法およびそれを用いた電子写真感光体 | |
| JP2005200358A (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 | |
| JP4231758B2 (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 | |
| JP2005263724A (ja) | アミンスチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 | |
| JP2005239642A (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 | |
| JP4086301B2 (ja) | 電子写真感光体および画像形成装置 | |
| JP6589839B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP3694604B2 (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法およびそれを有する電子写真感光体 | |
| JP2007254426A (ja) | アリールアミン誘導体及び該誘導体を用いた電子写真感光体 | |
| JP2007320887A (ja) | トリアリールアミン誘導体及び電子写真感光体 | |
| JP2005213183A (ja) | スチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070327 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20081007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100122 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100127 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100305 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100331 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100427 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4508710 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |
