JP4231758B2 - スチルベン誘導体、その製造方法、および電子写真感光体 - Google Patents
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Description
このような有機感光体材料のうち、高い電荷移動度を有する電荷輸送剤として、下記一般式(9)で表されるスチルベン誘導体が知られている(例えば、特許文献1参照)。
すなわち、本発明の目的は、上述した技術的な問題を解決し、電子写真感光体等の電荷輸送剤として好適に用いることのできる分子内に嵩高い基を有するスチルベン誘導体、その製造方法、および、所定感度を有する電子写真感光体を提供することにある。
すなわち、一般式(1)で表されるスチルベン誘導体は、分子の所定位置に嵩高い基を有しており、結着樹脂との相溶性が高く、かつ電荷移動度が大きいという特徴がある。したがって、電子写真感光体における電荷輸送剤(正孔輸送剤)として使用することにより、所定感度を有するとともに、耐久性に優れた電子写真感光体を提供することができる。
すなわち、このように実施することにより、フェニル基に嵩高い置換基を有するトリフェニルアミン化合物を、フィルスマイヤー(Vilsmeier)法によってホルミル化すれば、特定のホルミル化トリフェニルアミン誘導体を製造することができ、さらにウィッチヒ(Wittig)反応によりジフェニルメタンを置換することで、特定のトリフェニルアミン誘導体を製造でき、その後、フィルスマイヤー(Vilsmeier)法によって目的のホルミル化トリフェニルアミン誘導体を効率よく製造することができる。
第1の実施形態は、下記一般式(1)で表されるスチルベン誘導体である(一般式(1)中のR1は、既に上述した定義である。)。
第2の実施形態は、下記一般式(1)で表されるスチルベン誘導体の製造方法であって、下記反応式(1)に示すように、下記一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体と、式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体を、塩基の存在下に反応させることを特徴とするスチルベン誘導体の製造方法である(なお、一般式(1)および一般式(2)中のR1は、第1の実施形態で定義した内容と同様である。)。
一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体は、下記反応式(2)に示すようにフィルスマイヤー法とウィッチヒ反応とを用いて、合成することができる。
この理由は、かかるアニリン誘導体と、ヨードベンゼンとの添加割合が、1:2.0未満の値になると、目的物であるトリフェニルアミン誘導体の生成量が低下する場合があるためである。一方、かかるアニリン誘導体と、ヨードベンゼンとの添加割合が、1:2.4を超えると、未反応のヨードベンゼンが多く残留するため、目的物であるトリフェニルアミン誘導体の精製が困難になる場合があるためである。
この理由は、このような反応条件であれば、比較的簡易な製造設備を用いて、所望の反応を効率的に実施できるためである。
(i)オキシ塩化リン、ホスゲン、塩化オキサリル、塩化チオニル、トリフェニルホスフィン−臭素、ヘキサクロロトリホスファザトリエン等のハロゲン化剤
(ii)N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルホルムアニリド(MFA)、N−ホルミルモルホリン、N,N−ジイソプロピルホルムアミド
特に、本発明では、フィルスマイヤー試薬として、オキシ塩化リンと、溶媒としても使用できるDMFとの組み合わせが好適に用いられる。
さらに、フィルスマイヤー試薬の使用量に関して、一般式(5)で表されるトリフェニルアミン化合物1モルに対して、0.9〜2倍モル量の範囲内の値とすることが好ましく、1〜1.1倍モル量の範囲内の値とすることがより好ましい。
なお、フィルスマイヤー法における、トリフェニルアミン化合物のホルミル化の反応条件に関して、通常130℃以下の温度で行い、反応時間を2〜5時間の範囲内の値とすることが好ましい。
式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体は、下記反応式(3)に示すように、合成することができる。
ここで、合成反応を生じさせるに際して、1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン1モルに対して、亜リン酸トリエチルの使用割合を、少なくとも3倍モル当量とすることが好ましく、3〜4倍モル量の範囲内の値とすることがより好ましい。
また、かかる反応温度を、通常80〜150℃の範囲内の値とし、反応時間を2〜6時間の範囲内の値とすることが好ましい。
また、ジリン酸エステル誘導体を作成する際に、所定量の第三級アミンを添加することも好ましい。この理由は、第三級アミンによって、反応系からハロゲン化アルキルが除去されるため、ジリン酸エステル誘導体の合成反応を促進できるためである。好適な第三級アミンとしては、例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
(1) 反応温度と反応時間
また、一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体と、式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体との反応は、通常−10〜30℃で行うことが好ましく、その反応時間を1〜12時間の範囲内の値とすることが好ましい。
一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体と、式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体との反応に使用する好適な溶媒としては、当該反応に影響を及ぼさないものであればよいが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
また、かかる反応に使用する塩基としては、ナトリウムメトキシドやナトリウムエトキシド等のナトリウムアルコキシド、水素化ナトリウムや水素化カリウム等の金属水素化物が好適なものとして挙げられる。
ここで、かかる塩基の添加量を、ホルミル化トリフェニルアミン誘導体1モルに対して、1.1〜1.2モルの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる塩基の添加量が1.1モル未満の値となると、一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体と、式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体と、の間の反応性が著しく低下する場合があるためである。
一方、かかる塩基の添加量が1.2モルを超えると、一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体と、式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体と、の間の反応を制御することが著しく困難になる場合があるためである。
式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体と、一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体と、の間の反応を実施するにあたり、添加割合を、モル比で1:2.0〜1:2.4の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるホルミル化トリフェニルアミン誘導体と、ジリン酸エステル誘導体との添加割合が、1:2.0未満の値になると、ホルミル化トリフェニルアミン誘導体と、ジリン酸エステル誘導体とが1:1で対応して反応しやすくなるためである。また、かかる添加割合が、1:2.4を超えると、未反応のホルミル化トリフェニルアミン誘導体が精製を困難にする場合があるためである。
したがって、式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体と、一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体との添加割合を、モル比で1:1.8〜1:2.2の範囲内の値とすることがより好ましい。
第3の実施形態は、導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体であって、感光層に、一般式(1)で表されるスチルベン誘導体を含有することを特徴とする電子写真感光体である。
なお、電子感光体には、単層型と積層型とがあるが、本発明のスチルベン誘導体は、いずれにも適用可能である。
ただし、特に正負いずれの帯電型にも使用できること、構造が簡単で製造が容易であること、層を形成する際の被膜欠陥を抑制できること、層間の界面が少なく、光学的特性を向上できること等の観点から、単層型に適用することが好ましい。
(1) 基本的構成
単層型感光体は、導電性基体上に単一の感光層を設けたものである。この感光層は、一般式(1)で表されるスチルベン誘導体(正孔輸送剤)、電荷発生剤、結着樹脂、さらに必要に応じて電子輸送剤を適当な溶媒に溶解または分散させ、得られた塗布液を導電性基体上に塗布し、乾燥させることで形成される。かかる単層型感光体は、単独の構成で正負いずれの帯電型にも適用可能であるとともに、層構成が簡単で生産性に優れている。
また、得られた単層型電子写真感光体は、残留電位が低下しているとともに、所定感度を有している。また、本発明の単層型電子写真感光体の感光層に、さらに電子輸送剤を含有させる場合には、電荷発生剤と正孔輸送剤との電子の授受が効率よく行われるようになり、感度等がより安定する傾向にある。
本発明に用いられる電荷発生剤としては、例えば、無金属フタロシアニン、オキソチタニルフタロシアニン、ペリレン顔料、ビスアゾ顔料、ジチオケトピロロピロール顔料、無金属ナフタロシアニン顔料、金属ナフタロシアニン顔料、スクアライン顔料、トリスアゾ顔料、インジゴ顔料、アズレニウム顔料、シアニン顔料等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられる。
特に、半導体レーザー等の光源を使用したレーザービームプリンタやファクシミリ等のデジタル光学系の画像形成装置には、700nm以上の波長領域に感度を有する感光体が必要となるため、例えば、無金属フタロシアニンやオキソチタニルフタロシアニン等のフタロシアニン系顔料が好適に用いられる。
一方、ハロゲンランプ等の白色の光源を使用した静電式複写機等のアナログ光学系の画像形成装置には、可視領域に感度を有する感光体が必要となるため、例えば、ペリレン顔料やビスアゾ顔料等が好適に用いられる。
本発明の電子写真感光体においては、正孔輸送剤である本発明のスチルベン誘導体とともに、従来公知の他の正孔輸送剤を感光層に含有させることも好ましい。
このような正孔輸送剤としては、高い正孔輸送能を有する種々の化合物、例えば下記の一般式(HT−1)〜(HT−13)で表される化合物等があげられる。
本発明に用いられる電子輸送剤としては、高い電子輸送能を有する種々の化合物、例えば下記の一般式(ET−1〜ET−17)で表される化合物等があげられる。
各成分を分散させるための結着樹脂は、従来より感光層に使用されている種々の樹脂を使用することができる。例えばスチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、アイオノマー樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂;シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、その他架橋性の熱硬化性樹脂;エポキシアクリレート、ウレタン−アクリレート等の光硬化型樹脂等の樹脂が使用可能である。
特に、ポリカーボネート樹脂は、透明性や耐熱性に優れているばかりか、機械的特性や正孔輸送剤との相溶性にも優れていることから好ましい結着樹脂である。
また、感光層には、上記各成分のほかに、電子写真特性に悪影響を与えない範囲で、従来公知の種々の添加剤、例えば酸化防止剤、ラジカル捕捉剤、一重項クエンチャー、紫外線吸収剤等の劣化防止剤、軟化剤、可塑剤、表面改質剤、増量剤、増粘剤、分散安定剤、ワックス、アクセプター、ドナー等を配合することができる。また、感光層の感度を向上させるために、例えばテルフェニル、ハロナフトキノン類、アセナフチレン等の公知の増感剤を電荷発生剤と併用してもよい。
本発明の電子写真感光体が単層型の感光体である場合、電荷発生剤は、結着樹脂100重量部に対して0.1〜50重量部、好ましくは0.5〜30重量部の割合で配合すればよい。本発明のスチルベン誘導体(正孔輸送剤)は、結着樹脂100重量部に対して20〜500重量部、好ましくは30〜200重量部の割合で配合すればよい。電子輸送剤を含有させる場合、電子輸送剤の割合を結着樹脂100重量部に対して5〜100重量部、好ましくは10〜80重量部とするのが適当である。
また、単層型感光体における感光層の厚さは5〜100μm、好ましくは10〜50μmである。
そして、このような感光層が形成される導電性基体としては、導電性を有する種々の材料を使用することができ、例えば鉄、アルミニウム、銅、スズ、白金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼、真鍮等の金属や、上記金属が蒸着またはラミネートされたプラスチック材料、ヨウ化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で被覆されたガラス等があげられる。
分散液を作るための溶剤としては、種々の有機溶剤が使用可能であり、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類;n−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族系炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類;ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等があげられる。これらの溶剤は単独でまたは2種以上を混合して用いられる。
さらに、電荷輸送剤や電荷発生剤の分散性、感光層表面の平滑性を良くするために界面活性剤、レベリング剤等を使用してもよい。
積層型感光体は、まず導電性基体上に、蒸着または塗布等の手段によって、電荷発生剤を含有する電荷発生層を形成し、次いでこの電荷発生層上に、一般式(1)で表されるスチルベン誘導体(正孔輸送剤)の少なくとも1種と結着樹脂とを含む塗布液を塗布し、乾燥させて電荷輸送層を形成することによって作製される。
また、上記とは逆に、導電性基体上に電荷輸送層を形成し、その上に電荷発生層を形成してもよい。但し、電荷発生層は電荷輸送層に比べて膜厚がごく薄いため、その保護のためには、導電性基体上に電荷発生層を形成し、その上に電荷輸送層を形成するのが好ましい。
なお、電荷発生剤、正孔輸送剤、電子輸送剤、結着剤等については、単層型感光体と同様の内容とすることができる。
そして、本発明の積層型電子写真感光体は、感光体の残留電位が低下するとともに、所定感度を有しているという特徴がある。
なお、積層型感光体における感光層の厚さは、電荷発生層が0.01〜5μm程度、好ましくは0.1〜3μm程度であり、電荷輸送層が2〜100μm、好ましくは5〜50μm程度である。
(1)スチルベン誘導体の合成
下記式(14)で表されるトリフェニルアミン化合物の合成を、下記の反応式(4)に沿って実施した。
すなわち、容量500mlのフラスコ内に、無水炭酸カリウム46.6gおよび粉末銅銅2.5gを加え、2時間加熱して、均一になるまで攪拌した。
次いで、室温まで冷却した後、下記式(13)で表される4−アミノジフェニルエーテル化合物25g(0.13mol)と、化学式(12)で表されるヨードベンゼン68.9g(0.34mol)とを添加した後、220℃に再加熱し、2.5時間反応させた。その後、室温まで冷却した後、100mlのトルエンを添加し、ろ過処理をした。得られた残渣をトルエンで溶解し、活性白土を用いて乾燥させた。その後、残渣をトルエンで溶解し、さらにメタノールを添加して晶析させた。得られた結晶をろ別して、乾燥した。その後、得られた結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム溶媒)を用いて精製し、式(14)で表されるトリフェニルアミン化合物29.8gを得た(収率65.4%)。
次いで、式(15)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体の合成を、下記の反応式(5)に沿って実施した。
すなわち、500mlのフラスコ内に、式(14)で表されるトリフェニルアミン化合物27g(0.08mol)と、ジメチルホルムアミド(DMF)200mlと、オキシ塩化リン酸15.2g(0.1mol)と、を収容し、95℃以上で、反応物が完全に溶解するまで撹拌した。反応後、イオン交換水400mlと、トルエン200mlとの混合液に、反応液を滴下した。得られた有機層をイオン交換水で水洗し、無水硫酸ナトリウムおよび活性白土を加え、乾燥および吸着処理を行った。その後、トルエンを減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム溶媒)で精製して、式(15)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体21.7gを得た(収率74.2%)。
次いで、式(8)で表されるリンイリドの合成を、下記の反応式(6)に沿って実施した。
すなわち、α―ブロモジフェニルメタン150g(0.61mol)と、トリエタノールリン酸121g(0.72mol)とを添加して、210℃で加熱し、1時間撹拌した。 その後、室温まで冷却した後、真空蒸留にて精製を実施した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル溶媒)を用いて精製し、式(8)で表されるリンイリド168.4gを得た(収率90.7%)。
次いで、下記式(16)で表されるトリフェニルアミン化合物を、下記の反応式(7)に沿って実施した。
すなわち、1000mlの四つ口フラスコ内に、式(8)で表されるリンイリド29g(0.096mol)と、THF100mlと、を収容して、5℃以下で反応させた。その後、n−BuLi(ヘキサン溶液中で1.6M)100mlを滴下して、7℃以下で30分間撹拌した。さらに、ホルミル化トリフェニルアミン化合物23.4g(0.064mol)をTHF75mlに溶解したものを滴下し、10℃以下で30分間撹拌した。この反応液をイオン交換水500mlに加え、トルエン抽出を行った。さらにその有機層をイオン交換水を用いて、5回洗浄をしたあと、有機層を無水硫酸マグネシウムおよび活性白土を用いて、乾燥および吸着処理をおこなった。その後、有機溶媒を留去して、カラムクロマトグラフィ(展開溶媒:クロロホルム/へキサン溶媒)にて精製をして、式(16)で表されるトリフェニルアミン化合物31.5gを得た(収率95.5%)。
次いで、下記式(17)で表されるホルミル化トリフェニルアミン化合物を、下記の反応式(8)に沿って実施した。
すなわち、500mlのフラスコ内に、式(16)で表されるトリフェニルアミン化合物30g(0.058mol)と、ジメチルホルムアミド(DMF)300mlと、オキシ塩化リン酸11.5g(0.075mol)と、を収容して、80℃で、2時間攪拌させた。その後、反応液をイオン交換水に注ぎ、析出した結晶をろ別した。さらに、得られた結晶をトルエンに溶解させて、有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥させて溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(展開溶媒:クロロホルム溶媒)にて精製し、式(17)で表されるホルミル化トリフェニルアミン化合物27.7gを得た(収率88%)。
式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体の合成を、下記の反応式(3)に沿って合成した。すなわち、500mlのフラスコ内に、1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン52.5g(0.3mol)と、亜リン酸トリエチル130g(0.78mol)と、を収容して、8時間以上還流した。その後、冷却して、析出結晶をろ別した。さらに、結晶をn−へキサンを用いて洗浄をおこなって、クロロホルムーn−ヘキサンを用いて再結晶させ、式(8)で表されるジリン酸エステル誘導体98.1gを得た(収率86.4%)。
次いで、式(11)で表されるスチルベン誘導体の合成を、下記の反応式(9)に沿って実施した。
すなわち、500mlのフラスコ内に、(1)−6で得られた式(3)で表されるジリン酸エステル7g(0.019mol)と、THF50mlと、28%NaOMe8.56g(0.044mol)と、を収容した後、均一になるまで約30分攪拌した。次いで、この容器内に、上述した(1)−2〜4で得られた式(17)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体20g(0.037mol)を溶解させた後、室温で約12時間撹拌した。次いで、反応液をイオン交換水に注ぎ、トルエン抽出をおこなった。その後、有機層をイオン交換水にて5回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥して、溶媒を留去した。得たら残渣をシリカゲルクロマトグラフィ(展開溶媒:クロロホルム/ヘキサン)で精製して、式(11)で表されるスチルベン誘導体16.4gを得た(収率74.7%)。
得られたスチルベン誘導体の赤外吸収スペクトルを図1に示し、プロトン−NMRチャートを図2に示す。さらに、得られたスチルベン誘導体の融点を、微量融点測定装置(YANAKO社製)を用いて測定したところ、250℃以上であることを確認した。
(2)−1 初期表面電位、半減露光量および残留電位の測定
得られたスチルベン誘導体を正孔輸送剤として、単層型の電子写真感光体を作成して、初期表面電位、半減露光量および残留電位を測定した。すなわち、正孔輸送剤として、得られたスチルベン誘導体を60重量部と、電荷発生剤として、下記式(18)で表されるX型無金属フタロシアニン(CGM−1)を5重量部と、結着樹脂として、下記式(19)で表されるポリカーボネート樹脂100重量部と、を溶媒としてのテトラヒドロフラン800重量部に対して添加した。次いで、ボールミルを用いて50時間混合分散して、単層型感光層用の塗布液を作成した。得られた塗布液を、導電性基材(アルミニウム素管)上に、ディップコート法にて塗布し、100℃、30分間の条件で熱風乾燥して、膜厚25μmの単層型感光層を有する電子写真感光体を得た。
次いで、得られた電子写真感光体における初期電気特性、すなわち、半減露光量(E1/2)および残留電位(VR)を、ドラム感度試験機(GENTEC社製)を用いて、表面電位が710Vになるように帯電させて測定した。なお、半減露光量(E1/2)については、ハロゲンランプの光からバンドパスフィルターを用いて取り出した波長780nmの単色光(半値幅:20nm、光強度:8μJ/m2)を露光して、表面電位が1/2になるまでに要した時間を測定した。さらに、残留電位については、露光開始から0.5秒経過した時点での表面電位を測定し、それを残留電位とした。
それぞれ得られた結果を、表1に示す。結果から明らかなように、得られた電子写真感光体は、残留電位の値が低く、半減露光量も0.9秒以内であって、所定感度を有することを確認した。なお、表1中、電荷発生剤としてのX型無金属フタロシアニンをCGM−1と表記し、スチルベン誘導体をHT−Aと表記する(以下、同様である。)。
実施例1の塗布液中に、電子輸送材料として、下記式(20)で表されるキノン誘導体(ET−A)をさらに30重量部添加したほかは、実施例1と同様に単層型感光層を作成して、評価した。
なお、表1中、式(20)で表されるキノン誘導体をET−Aと表記する。
実施例1における塗布液中に、電子輸送材料として、下記式(21)で表される別のキノン誘導体(ET−B)をさらに30重量部添加したほかは、実施例1と同様に単層型感光層を作成して、評価した。なお、表1中、式(21)で表されるキノン誘導体をET−Bと表記する。
実施例1における塗布液中に、電子輸送材料として、下記式(22)で表される別のキノン誘導体(ET−C)をさらに30重量部添加したほかは、実施例1と同様に単層型感光層を作成して、評価した。
なお、表1中、式(22)で表されるキノン誘導体をET−Cと表記する。
実施例1におけるスチルベン誘導体(HT−A)のかわりに、正孔輸送材料として、下記式(23)で表されるスチルベン誘導体(HT−B)を用いたほかは、実施例1と同様に単層型感光層を作成して、評価した。
なお、表1中、式(23)で表されるスチルベン誘導体をHT−Bと表記する。
実施例1におけるスチルベン誘導体(HT−A)のかわりに、正孔輸送材料として、式(23)で表されるスチルベン誘導体(HT−B)を用いるとともに、電子輸送材料として、式(20)で表されるキノン誘導体(ET−A)を30重量部添加したほかは、実施例1と同様に単層型感光層を作成して、評価した。
実施例1におけるスチルベン誘導体(HT−A)のかわりに、正孔輸送材料として、式(23)で表されるスチルベン誘導体(HT−B)を用いるとともに、電子輸送材料として、式(21)で表されるキノン誘導体(ET−B)を30重量部添加したほかは、実施例1と同様に単層型感光層を作成して、評価した。
実施例1におけるスチルベン誘導体(HT−A)のかわりに、正孔輸送材料として、式(23)で表されるスチルベン誘導体(HT−B)を用いるとともに、電子輸送材料として、式(22)で表されるキノン誘導体(ET−C)を30重量部添加したほかは、実施例1と同様に単層型感光層を作成して、評価した。
また、一般式(1)で表されるスチルベン誘導体は、高い正孔輸送能を有することから、電子写真感光体における正孔輸送剤として好適に使用されるほか、太陽電池、エレクトロルミネッセンス素子等の種々の分野での利用が可能である。
Claims (6)
- 一般式(1)で表されるスチルベン誘導体。
(一般式(1)中の二つのR1は、独立したフェノキシ基またはナフトキシ基である。) - 一般式(1)で表されるスチルベン誘導体の製造方法であって、一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体と、式(3)で表されるジリン酸エステル誘導体とを、塩基の存在下に反応させることを特徴とするスチルベン誘導体の製造方法。
(一般式(1)中の二つのR1は、独立したフェノキシ基またはナフトキシ基である。)
(一般式(2)中のR1は、一般式(1)中のR1で説明した内容と同様である。)
- 前記一般式(2)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体として、一般式(4)で表されるアニリン誘導体と、ヨードベンゼンと、を反応させて、一般式(5)で表されるトリフェニルアミン化合物を得た後、フィルスマイヤー(Vilsmeier)法によりホルミル化して得られた一般式(6)で表されるホルミル化トリフェニルアミン誘導体をウィッチヒ(Wittig)反応によって、一般式(7)で表されるトリフェニルアミン誘導体とし、さらにフィルスマイヤー(Vilsmeier)法によりホルミル化して得られたホルミル化トリフェニルアミン誘導体を使用することを特徴とする請求項2に記載のスチルベン誘導体の製造方法。
(一般式(4)中のR1は、一般式(1)中のR1で説明した内容と同様である。)
(一般式(5)中のR1は、一般式(1)中のR1で説明した内容と同様である。)
(一般式(6)中のR1は、一般式(1)中のR1で説明した内容と同様である。)
(一般式(7)中のR1は、一般式(1)中のR1で説明した内容と同様である。) - 前記ウィッチヒ(Wittig)反応の際に、式(8)で表されるリンイリドを、塩基の存在下に反応させることを特徴とする請求項3に記載のスチルベン誘導体の製造方法。
- 導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体であって、前記感光層が、一般式(1)で表されるスチルベン誘導体を含有することを特徴とする電子写真感光体。
(一般式(1)中の二つのR1は、独立したフェノキシ基またはナフトキシ基である。) - 前記感光層が、電荷発生剤および電子輸送剤をさらに含有した単層型であることを特徴とする請求項5に記載の電子写真感光体。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005082586A JP2005082586A (ja) | 2005-03-31 |
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