JP2005286085A - フレキシブル配線板および電子機器 - Google Patents
フレキシブル配線板および電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005286085A JP2005286085A JP2004097473A JP2004097473A JP2005286085A JP 2005286085 A JP2005286085 A JP 2005286085A JP 2004097473 A JP2004097473 A JP 2004097473A JP 2004097473 A JP2004097473 A JP 2004097473A JP 2005286085 A JP2005286085 A JP 2005286085A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring board
- flexible wiring
- resin
- weight
- epoxy resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Abstract
【課題】 本発明の目的は、屈曲性および耐折寿命に優れたフレキシブル配線板およびそれを用いた電子機器を提供することにある。
【解決手段】 本発明のフレキシブル配線は、少なくとも片面に導体回路が形成された基材と、被覆層と、前記導体回路と前記被覆層との間に設けられる接着層とを有するフレキシブル配線板であって、前記基材の弾性率[A]が6.5〜10[GPa]であることを特徴とするものである。
また、本発明の電子機器は、上記に記載のフレキシブル配線板を有することを特徴とするものである。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明のフレキシブル配線は、少なくとも片面に導体回路が形成された基材と、被覆層と、前記導体回路と前記被覆層との間に設けられる接着層とを有するフレキシブル配線板であって、前記基材の弾性率[A]が6.5〜10[GPa]であることを特徴とするものである。
また、本発明の電子機器は、上記に記載のフレキシブル配線板を有することを特徴とするものである。
【選択図】 図1
Description
本発明は、フレキシブル配線板および電子機器に関する。
近年、携帯電話、ノート型パソコンに代表される電子機器の小型化、高密度化が進んでいる。そのため、それらに用いられるフレキシブル配線板はその柔軟性を生かし需要が伸びつつある。上述の電子機器の中でも、携帯電話のような小型、かつ折り畳み可能な(ヒンジ部を有する)電子機器の場合、液晶画面の様な情報表示部分等が設けられている筐体と、ジョグダイヤル等の情報入力部分が設けられている筐体とを、可動部であるヒンジ構造部で接続される構造を有することが多い。この異なる筐体間を機械的および電気的に接続するヒンジ部分では、その機構上電気的接続にはフレキシブル配線板が用いられている。
フレキシブル配線板の屈曲性および耐折寿命を向上するために、フレキシブル配線板を構成する接着剤の弾性率を高くする手法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
しかし、ヒンジ構造で用いられるフレキシブル配線板には、さらなる屈曲性および耐折寿命の向上が要求されていた。
しかし、ヒンジ構造で用いられるフレキシブル配線板には、さらなる屈曲性および耐折寿命の向上が要求されていた。
本発明の目的は、屈曲性および耐折寿命に優れたフレキシブル配線板およびそれを用いた電子機器を提供することにある。
このような目的は、下記(1)〜(9)に記載の本発明により達成される。
(1)少なくとも片面に導体回路が形成された基材と、被覆層と、前記導体回路と前記被覆層との間に設けられる接着層とを有するフレキシブル配線板であって、前記基材の弾性率[A]が6.5〜10[GPa]であることを特徴とするフレキシブル配線板。
(2)前記基材は、主としてポリイミド樹脂で構成されているものである上記(1)に記載のフレキシブル配線板。
(3)前記接着剤層の弾性率[B]は、前記基材の弾性率[A]の1/20以上である上記(1)または(2)にフレキシブル配線板。
(4)前記接着剤層の弾性率は、0.3[GPa]以上である上記(1)ないし(3)のいずれかに記載のフレキシブル配線板。
(5)前記接着剤層は、第1のエポキシ樹脂と、前記第1のエポキシ樹脂と異なる第2のエポキシ樹脂とを含む樹脂組成物で構成されるものである上記(1)ないし(4)のいずれかに記載のフレキシブル配線板。
(6)前記樹脂組成物は、さらにエラストマーを有するものである上記(5)に記載のフレキシブル配線板。
(7)前記エラストマ−は、分子鎖中にグリシジル基をするブタジエンゴムである上記(6)に記載のフレキシブル配線板。
(8)ヒンジ部を有する電子機器に用いられるものである上記(1)ないし(7)のいずれかに記載のフレキシブル配線板。
(9)上記(1)ないし(8)のいずれかに記載のフレキシブル配線板を有することを特徴とする電子機器。
(1)少なくとも片面に導体回路が形成された基材と、被覆層と、前記導体回路と前記被覆層との間に設けられる接着層とを有するフレキシブル配線板であって、前記基材の弾性率[A]が6.5〜10[GPa]であることを特徴とするフレキシブル配線板。
(2)前記基材は、主としてポリイミド樹脂で構成されているものである上記(1)に記載のフレキシブル配線板。
(3)前記接着剤層の弾性率[B]は、前記基材の弾性率[A]の1/20以上である上記(1)または(2)にフレキシブル配線板。
(4)前記接着剤層の弾性率は、0.3[GPa]以上である上記(1)ないし(3)のいずれかに記載のフレキシブル配線板。
(5)前記接着剤層は、第1のエポキシ樹脂と、前記第1のエポキシ樹脂と異なる第2のエポキシ樹脂とを含む樹脂組成物で構成されるものである上記(1)ないし(4)のいずれかに記載のフレキシブル配線板。
(6)前記樹脂組成物は、さらにエラストマーを有するものである上記(5)に記載のフレキシブル配線板。
(7)前記エラストマ−は、分子鎖中にグリシジル基をするブタジエンゴムである上記(6)に記載のフレキシブル配線板。
(8)ヒンジ部を有する電子機器に用いられるものである上記(1)ないし(7)のいずれかに記載のフレキシブル配線板。
(9)上記(1)ないし(8)のいずれかに記載のフレキシブル配線板を有することを特徴とする電子機器。
本発明によれば、屈曲性および耐折寿命に優れたフレキシブル配線板およびそれを用いた電子機器を得ることができる。
また、基材としてポリイミド樹脂で構成されているものを用いた場合、特に弾性率と耐熱性を向上することができる。
また、接着剤層の弾性率[B]を特定の値とする場合、特に屈曲性と耐折寿命とのバランスに優れる。
また、前記接着剤層が、第1のエポキシ樹脂と、前記第1のエポキシ樹脂と異なる第2のエポキシ樹脂とを含む樹脂組成物で構成されるものである場合、特に接着性と剛性とのバランスに優れる。
また、基材としてポリイミド樹脂で構成されているものを用いた場合、特に弾性率と耐熱性を向上することができる。
また、接着剤層の弾性率[B]を特定の値とする場合、特に屈曲性と耐折寿命とのバランスに優れる。
また、前記接着剤層が、第1のエポキシ樹脂と、前記第1のエポキシ樹脂と異なる第2のエポキシ樹脂とを含む樹脂組成物で構成されるものである場合、特に接着性と剛性とのバランスに優れる。
以下、本発明のフレキシブル配線板および電子機器について詳細に説明する。
本発明のフレキシブル配線は、少なくとも片面に導体回路が形成された基材と、被覆層と、前記導体回路と前記被覆層との間に設けられる接着層とを有するフレキシブル配線板であって、前記基材の弾性率[A]が6.5〜10[GPa]であることを特徴とするものである。
また、本発明の電子機器は、上記に記載のフレキシブル配線板を有することを特徴とするものである。
本発明のフレキシブル配線は、少なくとも片面に導体回路が形成された基材と、被覆層と、前記導体回路と前記被覆層との間に設けられる接着層とを有するフレキシブル配線板であって、前記基材の弾性率[A]が6.5〜10[GPa]であることを特徴とするものである。
また、本発明の電子機器は、上記に記載のフレキシブル配線板を有することを特徴とするものである。
まず、本発明のフレキシブル配線板について、好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
図1および図2は、本発明のフレキシブル配線板の断面図である。
フレキシブル配線板10は、基材1の上面側(図1上側)には、第1の導体回路2と、第1の被覆層3と、第1の導体回路2と第1の被覆層3との間に第1の接着剤層4とを有しており、下面側(図1下側)には、第2の導体回路5と、第2の被覆層6と、第2の導体回路5と第2の被覆層6との間に第2の接着層7とを有している。
図1および図2は、本発明のフレキシブル配線板の断面図である。
フレキシブル配線板10は、基材1の上面側(図1上側)には、第1の導体回路2と、第1の被覆層3と、第1の導体回路2と第1の被覆層3との間に第1の接着剤層4とを有しており、下面側(図1下側)には、第2の導体回路5と、第2の被覆層6と、第2の導体回路5と第2の被覆層6との間に第2の接着層7とを有している。
基材1の弾性率[A]は、6.5〜10[GPa]であることを特徴とする。さらに、具体的に基材1の弾性率[A]は、7.0〜9.0[GPa]であることが好ましい。弾性率が前記範囲内であると特に屈曲性と耐折寿命に優れる。
従来、フレキシブル配線板に用いられる基材の弾性率は、柔軟性(しなやかさ)を発揮するために5.0[GPa]程度であった。したがって、従来のフレキシブル配線板では摺動屈曲特性や耐折寿命が不十分であった。
これに対して、本発明では基材1の弾性率[A]が、6.5〜10[GPa]を有するものを用いているので、前記課題を解決することができるものである。
従来、フレキシブル配線板に用いられる基材の弾性率は、柔軟性(しなやかさ)を発揮するために5.0[GPa]程度であった。したがって、従来のフレキシブル配線板では摺動屈曲特性や耐折寿命が不十分であった。
これに対して、本発明では基材1の弾性率[A]が、6.5〜10[GPa]を有するものを用いているので、前記課題を解決することができるものである。
基材1の厚さは、特に限定されないが、12.5〜50μmが好ましく、特に12.5〜25μmが好ましい。厚さが前記下限値未満であると耐屈曲性が低下する場合があり、前記上限値を超えると屈曲性を向上する効果が低下する場合がある。
基材1を構成する材料としては、例えば樹脂フィルム等が挙げられる。
前記樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。これら中でも主としてポリイミド系樹脂フィルムが好ましい。これにより、弾性率と耐熱性を特に向上することができる。
前記樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。これら中でも主としてポリイミド系樹脂フィルムが好ましい。これにより、弾性率と耐熱性を特に向上することができる。
図2に示すように、第1の導体回路2は、所定の空隙部22a〜22eを介して、第1の配線21a〜21fを有している。
また、第2の導体回路5も、所定の空隙部52a〜52fを介して、第2の配線51a〜51gを有している。
第1の配線21a〜21fはある断面で平行かつ、間欠的形成されている。
第1の配線21a〜21fは、第2の導体回路2の所定の空隙部52a〜52fに一致するように形成されている。これにより、フレキシブル配線板の屈曲性および耐折寿命を特に向上することができる。
なお、本実施の形態では、第2の導体回路2の所定の空隙部52a〜52fに、一つの第1の配線21a〜21fが形成されているが、これに限定されず、第2の導体回路2の所定の空隙部52a〜52fの間に第1の配線21a〜21fは、複数個設けられても良い。
また、第2の導体回路5も、所定の空隙部52a〜52fを介して、第2の配線51a〜51gを有している。
第1の配線21a〜21fはある断面で平行かつ、間欠的形成されている。
第1の配線21a〜21fは、第2の導体回路2の所定の空隙部52a〜52fに一致するように形成されている。これにより、フレキシブル配線板の屈曲性および耐折寿命を特に向上することができる。
なお、本実施の形態では、第2の導体回路2の所定の空隙部52a〜52fに、一つの第1の配線21a〜21fが形成されているが、これに限定されず、第2の導体回路2の所定の空隙部52a〜52fの間に第1の配線21a〜21fは、複数個設けられても良い。
第1の配線21a〜21fの配線幅は、特に限定されないが、30〜200μmが好ましく、特に50〜100μmが好ましい。配線幅が前記範囲内であると、特に屈曲性に優れる。
第1の配線21a〜21fの配線幅は、すべて同じでも良いが、一部が異なる場合であっても構わない。
第1の配線21a〜21fの配線幅は、すべて同じでも良いが、一部が異なる場合であっても構わない。
空隙部22a〜22fの間隔は、特に限定されないが、30〜200μmが好ましく、特に50〜100μmが好ましい。空隙部の間隔が前記範囲内であると、特に屈曲性に優れる。
空隙部22a〜22fの間隔は、すべて同じでも良いが、一部が異なる場合であっても構わない。
空隙部22a〜22fの間隔は、すべて同じでも良いが、一部が異なる場合であっても構わない。
第1の導体回路2を構成する金属箔としては、例えば銅箔、アルミ箔、銀箔等があげられる。これらの中でも銅箔が好ましい。これにより、屈曲性を特に向上することができる。
図1に示すように、第1の導体回路2を覆うように第1の被覆層3が設けられている。
第1の被覆層3は、第1の導体回路3を保護する機能を有している。
第1の被覆層3の厚さは、特に限定されないが、10〜30μmが好ましく、特に12.5〜25μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に耐折寿命に優れる。
第1の被覆層3は、第1の導体回路3を保護する機能を有している。
第1の被覆層3の厚さは、特に限定されないが、10〜30μmが好ましく、特に12.5〜25μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に耐折寿命に優れる。
第1の被覆層3を構成する材料は、特に限定されないが、基材1を構成する材料と同じであることが好ましい。これにより、特に屈曲性を向上することができる。
第1の被覆層3を構成する材料として具体的には、樹脂フィルム、熱硬化性レジストまたは感光性レジスト等のインク状のもの等が挙げられる。これらの中でも樹脂フィルムが好ましく用いられる。
前記樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。これら中でも主としてポリイミド系樹脂フィルムが好ましい。これにより、弾性率と耐熱性を向上することができる。
また、第1の被覆層3には、後述する第1の接着剤層4が予め形成されているものを用いることが好ましい。これにより、作業性を向上することができる。
第1の被覆層3を構成する材料として具体的には、樹脂フィルム、熱硬化性レジストまたは感光性レジスト等のインク状のもの等が挙げられる。これらの中でも樹脂フィルムが好ましく用いられる。
前記樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。これら中でも主としてポリイミド系樹脂フィルムが好ましい。これにより、弾性率と耐熱性を向上することができる。
また、第1の被覆層3には、後述する第1の接着剤層4が予め形成されているものを用いることが好ましい。これにより、作業性を向上することができる。
図1に示すように、第1の接着剤層4は、基材1と、第1の被覆層3との間に設けられる。
第1の接着剤層4は、第1の導体回路2と、第1の被覆層3との接着強度を向上させ、信頼性を向上する機能を有する。
第1の接着剤層4の弾性率[B]は、特に限定されないが、基材1の弾性率[A]の1/20以上が好ましく、特に1/18以上が好ましい。弾性率[B]が前記範囲内であると、特に屈曲性と耐折寿命とのバランスに優れる。
第1の接着剤層4は、第1の導体回路2と、第1の被覆層3との接着強度を向上させ、信頼性を向上する機能を有する。
第1の接着剤層4の弾性率[B]は、特に限定されないが、基材1の弾性率[A]の1/20以上が好ましく、特に1/18以上が好ましい。弾性率[B]が前記範囲内であると、特に屈曲性と耐折寿命とのバランスに優れる。
第1の接着剤層4の弾性率[B]は、特に限定されないが、0.35[GPa]以上が好ましく、特に0.4〜2.5[GPa]が好ましく、最も0.5〜2.0[GPa]が好ましい。弾性率[B]が前記範囲内であると、特に屈曲性と耐折寿命とのバランスに優れる。
従来のフレキシブル配線板の接着剤層では、その弾性率が0.3[GPa]以下のものが用いられていた。
これに対して、本発明では高弾性率を有する基材1を用いているので、第1の接着剤層4について高弾性率のものを用いることができるものである。それによって、特に屈曲性が向上し、かつ耐折寿命をも向上することができるものである。
これに対して、本発明では高弾性率を有する基材1を用いているので、第1の接着剤層4について高弾性率のものを用いることができるものである。それによって、特に屈曲性が向上し、かつ耐折寿命をも向上することができるものである。
第1の接着剤層4の厚さは、特に限定されないが、10〜30μmが好ましく、特に15〜25μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に耐折寿命に優れる。
第1の接着剤層4を構成する材料としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、無機充填材等を含む樹脂組成物が挙げられる。
前記熱硬化性樹脂としては、例えばノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂等のフェノール樹脂等が挙げられる。これらの中でもビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂を含むことが好ましい。前記ビスフェノールAエポキシ樹脂としては、臭素化したビスフェノールエポキシ樹脂を用いることもできる。
最も好ましくは、第1のエポキシ樹脂(特にビスフェノールA型エポキシ樹脂)と、前記第1のエポキシ樹脂と異なる第2のエポキシ樹脂(特にノボラック型エポキシ樹脂)とを含むことが好ましい。これにより、接着性および剛性のバランスに優れる。
前記熱硬化性樹脂としては、例えばノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂等のフェノール樹脂等が挙げられる。これらの中でもビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂を含むことが好ましい。前記ビスフェノールAエポキシ樹脂としては、臭素化したビスフェノールエポキシ樹脂を用いることもできる。
最も好ましくは、第1のエポキシ樹脂(特にビスフェノールA型エポキシ樹脂)と、前記第1のエポキシ樹脂と異なる第2のエポキシ樹脂(特にノボラック型エポキシ樹脂)とを含むことが好ましい。これにより、接着性および剛性のバランスに優れる。
前記第1のエポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜30重量%が好ましく、特に15〜20重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に接着性に優れる。
また、前記第2のエポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜30重量%が好ましく、特に12〜25重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に剛性に優れる。
前記第1のエポキシ樹脂のエポキシ当量は、特に限定されないが、1,000以下が好ましく、特に150〜200が好ましい。エポキシ当量が前記範囲内であると、特に密着性、樹脂硬化物の架橋密度に優れる。
前記第2のエポキシ樹脂のエポキシ当量は、特に限定されないが、200〜500が好ましく、特に250〜300が好ましい。エポキシ当量が前記範囲内であると、特に樹脂硬化物の架橋密度に優れる。
前記熱可塑性樹脂としては、例えばフェノキシ樹脂、アクリロニトリルブタジエン共重合体、分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム、ポリオレフィン系エラストマー、ポリスチレン系エラストマー等のエラストマー等が挙げられる。これらの中でもフェノキシ樹脂と分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴムとを併用することが好ましい。これにより、硬化物の弾性率を損なうことなく密着性を向上することができる。
前記熱可塑性樹脂の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜40重量%が好ましく、特に20〜30重量%が好ましい。さらに、熱可塑性樹脂のうち分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴムの含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の12重量%以下が好ましく、特に5〜10重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に密着性に優れる。
また、前記エラストマーを用いる場合、前記エラストマーの含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の3〜10重量%が好ましく、特に5〜8重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に密着性に優れる。
また、前記エラストマーを用いる場合、前記エラストマーの含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の3〜10重量%が好ましく、特に5〜8重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に密着性に優れる。
前記無機充填材としては、例えば例えばタルク、焼成クレー、未焼成クレー、マイカ、ガラス等のケイ酸塩、酸化チタン、アルミナ、シリカ、溶融シリカ等の酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ハイドロタルサイト等の炭酸塩、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化物、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、亜硫酸カルシウム等の硫酸塩または亜硫酸塩、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸ナトリウム等のホウ酸塩、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素等の窒化物等を挙げることができる。これらの中でもシリカ等の酸化物と水酸化アルミニウム等の水酸化物とを併用することが好ましい。これにより、フローの制御と難燃性との両立を図ることができる。
前記無機充填材の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜50重量%が好ましく、特に20〜30重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に樹脂流動性に優れる。
また、無機充填材として酸化物(特にシリカ)を用いる場合、その含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の3〜20重量%が好ましく、特に5〜10重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特にフロー制御に優れる。
また、無機充填材として水酸化物(特に水酸化アルミニウム)を用いる場合、その含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜50重量%が好ましく、特に12〜25重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に難燃性に優れる。
また、無機充填材として酸化物(特にシリカ)を用いる場合、その含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の3〜20重量%が好ましく、特に5〜10重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特にフロー制御に優れる。
また、無機充填材として水酸化物(特に水酸化アルミニウム)を用いる場合、その含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜50重量%が好ましく、特に12〜25重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に難燃性に優れる。
前記無機充填材の平均粒子径は、特に限定されないが、7〜20nmが好ましく、特に12〜16nmが好ましい。平均粒子径が前記下限値未満であると成形性が低下する場合が有り、前記上限値を超えると流動性を抑制する効果が低下する場合がある。
前記平均粒子径は、例えばマイクロトラック粒度分布測定装置等を用いて、レーザー回折散乱法で測定することができる。
前記平均粒子径は、例えばマイクロトラック粒度分布測定装置等を用いて、レーザー回折散乱法で測定することができる。
前記樹脂組成物には、前記熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、無機充填材等の他に、樹脂硬化剤(特にエポキシ樹脂硬化剤)、硬化促進剤等を含んでも良い。
図2に示すように、基材1の下面側(図1下側)には、第2の導体回路5が形成されている。
第2の導体回路5は、所定の空隙部52a〜52fを介して、第2の配線51a〜51gを有している。
上述したように第2の配線51a〜51gは、前述の第1の導体回路2の所定の空隙部22a〜22fの配置されている。これにより、フレキシブル配線板の屈曲性および耐折寿命を特に向上することができる。
第2の配線51a〜51gは、ある断面で平行かつ、間欠的形成されている。
第2の導体回路5は、所定の空隙部52a〜52fを介して、第2の配線51a〜51gを有している。
上述したように第2の配線51a〜51gは、前述の第1の導体回路2の所定の空隙部22a〜22fの配置されている。これにより、フレキシブル配線板の屈曲性および耐折寿命を特に向上することができる。
第2の配線51a〜51gは、ある断面で平行かつ、間欠的形成されている。
第2の配線51a〜51gの配線幅は、特に限定されないが、30〜200μmが好ましく、特に50〜100μmが好ましい。配線幅が前記範囲内であると、特に屈曲性に優れる。
第2の配線51a〜51gの配線幅は、すべて同じでも良いが、一部が異なる場合であっても構わない。
なお、第1の配線21の幅と、第2の配線51の幅とは、同じであっても異なっていても良いが、同じであるほうが好ましい。これにより、配線密度を高くすることができる。
第2の配線51a〜51gの配線幅は、すべて同じでも良いが、一部が異なる場合であっても構わない。
なお、第1の配線21の幅と、第2の配線51の幅とは、同じであっても異なっていても良いが、同じであるほうが好ましい。これにより、配線密度を高くすることができる。
空隙部52a〜52fの間隔は、特に限定されないが、30〜200μmが好ましく、特に50〜100μmが好ましい。空隙部の間隔が前記範囲内であると、特に屈曲性に優れる。
空隙部52a〜52fの間隔は、すべて同じでも良いが、一部が異なる場合であっても構わない。
空隙部52a〜52fの間隔は、すべて同じでも良いが、一部が異なる場合であっても構わない。
第2の導体回路5を構成する金属箔としては、例えば銅箔、アルミ箔、銀箔等があげられる。これらの中でも銅箔が好ましい。これにより、屈曲性を特に向上することができる。
図1に示すように、第2の導体回路5を覆うように第2の被覆層6が設けられている。
第2の被覆層6は、第2の導体回路5を保護する機能を有している。
第2の被覆層6の厚さは、特に限定されないが、10〜30μmが好ましく、特に12.5〜25μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に耐折寿命に優れる。
また、第1の被覆層3と、第2の被覆層6の厚さとは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、フレキシブル配線板の対称性が高くなり、屈曲性を特に向上することができる。
第2の被覆層6は、第2の導体回路5を保護する機能を有している。
第2の被覆層6の厚さは、特に限定されないが、10〜30μmが好ましく、特に12.5〜25μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に耐折寿命に優れる。
また、第1の被覆層3と、第2の被覆層6の厚さとは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、フレキシブル配線板の対称性が高くなり、屈曲性を特に向上することができる。
第2の被覆層6を構成する材料は、特に限定されないが、基材1を構成する材料と同じであることが好ましい。これにより、特に屈曲性を向上することができる。
第1の被覆層3を構成する材料として具体的には、熱硬化性レジストまたは感光性レジスト等のインク状のもの等が挙げられる。これらの中でも樹脂フィルムが好ましく用いられる。
前記樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。これら中でも主としてポリイミド系樹脂フィルムが好ましい。これにより、弾性率と耐熱性を向上することができる。
また、第1の被覆層3を構成する材料と、第2の被覆層6を構成する材料とは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、屈曲性を特に向上することができる。
また、第2の被覆層6には、後述する第2の接着剤層7が予め形成されているものを用いることが好ましい。これにより、作業性を向上することができる。
第1の被覆層3を構成する材料として具体的には、熱硬化性レジストまたは感光性レジスト等のインク状のもの等が挙げられる。これらの中でも樹脂フィルムが好ましく用いられる。
前記樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。これら中でも主としてポリイミド系樹脂フィルムが好ましい。これにより、弾性率と耐熱性を向上することができる。
また、第1の被覆層3を構成する材料と、第2の被覆層6を構成する材料とは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、屈曲性を特に向上することができる。
また、第2の被覆層6には、後述する第2の接着剤層7が予め形成されているものを用いることが好ましい。これにより、作業性を向上することができる。
図1に示すように、第2の接着剤層7は、基材1と、第2の被覆層6との間に設けられる。
第2の接着剤層7は、第2の導体回路5と、第2の被覆層6との接着強度を向上させ、信頼性を向上する機能を有する。
第2の接着剤層7の弾性率[B]は、特に限定されないが、基材1の弾性率[A]の1/20以上が好ましく、特に1/18以上が好ましい。弾性率[B]が前記範囲内であると、特に屈曲性と耐折寿命とのバランスに優れる。
第2の接着剤層7は、第2の導体回路5と、第2の被覆層6との接着強度を向上させ、信頼性を向上する機能を有する。
第2の接着剤層7の弾性率[B]は、特に限定されないが、基材1の弾性率[A]の1/20以上が好ましく、特に1/18以上が好ましい。弾性率[B]が前記範囲内であると、特に屈曲性と耐折寿命とのバランスに優れる。
第2の接着剤層7の弾性率[B]は、特に限定されないが、0.35[GPa]以上が好ましく、特に0.4〜2.5[GPa]が好ましく、最も0.5〜2.0[GPa]が好ましい。弾性率[B]が前記範囲内であると、特に屈曲性と耐折寿命とのバランスに優れる。
また、第1の接着剤層4の弾性率と、第2の接着剤層7の弾性率とは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、屈曲性を特に向上することができる。
また、第1の接着剤層4の弾性率と、第2の接着剤層7の弾性率とは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、屈曲性を特に向上することができる。
従来のフレキシブル配線板の接着剤層では、その弾性率が0.3[GPa]以下のものが用いられていた。
これに対して、本発明では高弾性率を有する基材1を用いているので、第2の接着剤層7について高弾性率のものを用いることができるものである。それによって、特に屈曲性が向上し、かつ耐折寿命をも向上することができるものである。
これに対して、本発明では高弾性率を有する基材1を用いているので、第2の接着剤層7について高弾性率のものを用いることができるものである。それによって、特に屈曲性が向上し、かつ耐折寿命をも向上することができるものである。
第2の接着剤層7の厚さは、特に限定されないが、10〜30μmが好ましく、特に15〜25μmが好ましい。厚さが前記範囲内であると、特に耐折寿命に優れる。
また、第1の接着剤層4の厚さと、第2の接着剤層7の厚さとは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、屈曲性を特に向上することができる。
また、第1の接着剤層4の厚さと、第2の接着剤層7の厚さとは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、屈曲性を特に向上することができる。
第2の接着剤層7を構成する材料としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、無機充填材等を含む樹脂組成物が挙げられる。
前記熱硬化性樹脂としては、例えばノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂等のフェノール樹脂等が挙げられる。これらの中でもビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂を含むことが好ましい。前記ビスフェノールAエポキシ樹脂としては、臭素化したビスフェノールエポキシ樹脂を用いることもできる。
最も好ましくは、第1のエポキシ樹脂(特にビスフェノールA型エポキシ樹脂)と、前記第1のエポキシ樹脂と異なる第2のエポキシ樹脂(特にノボラック型エポキシ樹脂)とを含むことが好ましい。これにより、接着性および剛性のバランスに優れる。
前記熱硬化性樹脂としては、例えばノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂等のフェノール樹脂等が挙げられる。これらの中でもビスフェノールAエポキシ樹脂、ビスフェノールFエポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂を含むことが好ましい。前記ビスフェノールAエポキシ樹脂としては、臭素化したビスフェノールエポキシ樹脂を用いることもできる。
最も好ましくは、第1のエポキシ樹脂(特にビスフェノールA型エポキシ樹脂)と、前記第1のエポキシ樹脂と異なる第2のエポキシ樹脂(特にノボラック型エポキシ樹脂)とを含むことが好ましい。これにより、接着性および剛性のバランスに優れる。
前記第1のエポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜30重量%が好ましく、特に15〜20重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に接着性に優れる。
また、前記第2のエポキシ樹脂の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜30重量%が好ましく、特に12〜25重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に剛性に優れる。
前記第1のエポキシ樹脂のエポキシ当量は、特に限定されないが、1,000以下が好ましく、特に150〜200が好ましい。エポキシ当量が前記範囲内であると、特に密着性、樹脂硬化物の架橋密度に優れる。
前記第2のエポキシ樹脂のエポキシ当量は、特に限定されないが、200〜500が好ましく、特に250〜300が好ましい。エポキシ当量が前記範囲内であると、特に樹脂硬化物の架橋密度に優れる。
前記熱可塑性樹脂としては、例えばフェノキシ樹脂、アクリロニトリルブタジエン共重合体、分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム、ポリオレフィン系エラストマー、ポリスチレン系エラストマー等のエラストマー等が挙げられる。これらの中でもフェノキシ樹脂と分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴムとを併用することが好ましい。これにより、硬化物の弾性率を損なうことなく密着性を向上することができる。
前記熱可塑性樹脂の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜40重量%が好ましく、特に20〜30重量%が好ましい。さらに、熱可塑性樹脂のうち分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴムの含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の12重量%以下が好ましく、特に5〜10重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に密着性に優れる。
また、前記エラストマーを用いる場合、前記エラストマーの含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の3〜10重量%が好ましく、特に5〜8重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に密着性に優れる。
また、前記エラストマーを用いる場合、前記エラストマーの含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の3〜10重量%が好ましく、特に5〜8重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に密着性に優れる。
前記無機充填材としては、例えば例えばタルク、焼成クレー、未焼成クレー、マイカ、ガラス等のケイ酸塩、酸化チタン、アルミナ、シリカ、溶融シリカ等の酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ハイドロタルサイト等の炭酸塩、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化物、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、亜硫酸カルシウム等の硫酸塩または亜硫酸塩、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸ナトリウム等のホウ酸塩、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素等の窒化物等を挙げることができる。これらの中でもシリカ等の酸化物と水酸化アルミニウム等の水酸化物とを併用することが好ましい。これにより、フローの制御と難燃性との両立を図ることができる。
前記無機充填材の含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜50重量%が好ましく、特に20〜30重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に樹脂流動性に優れる。
また、無機充填材として酸化物(特にシリカ)を用いる場合、その含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の3〜20重量%が好ましく、特に5〜10重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特にフロー制御に優れる。
また、無機充填材として水酸化物(特に水酸化アルミニウム)を用いる場合、その含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜50重量%が好ましく、特に12〜25重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に難燃性に優れる。
また、無機充填材として酸化物(特にシリカ)を用いる場合、その含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の3〜20重量%が好ましく、特に5〜10重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特にフロー制御に優れる。
また、無機充填材として水酸化物(特に水酸化アルミニウム)を用いる場合、その含有量は、特に限定されないが、前記樹脂組成物全体の10〜50重量%が好ましく、特に12〜25重量%が好ましい。含有量が前記範囲内であると、特に難燃性に優れる。
前記無機充填材の平均粒子径は、特に限定されないが、7〜20nmが好ましく、特に12〜16nmが好ましい。平均粒子径が前記下限値未満であると成形性が低下する場合が有り、前記上限値を超えると流動性を抑制する効果が低下する場合がある。
前記平均粒子径は、例えばマイクロトラック粒度分布測定装置等を用いて、レーザー回折散乱法で測定することができる。
前記平均粒子径は、例えばマイクロトラック粒度分布測定装置等を用いて、レーザー回折散乱法で測定することができる。
前記樹脂組成物には、前記熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、無機充填材等の他に、樹脂硬化剤(特にエポキシ樹脂硬化剤)、硬化促進剤等を含んでも良い。
また、第1の接着剤層4を構成する材料と、第2の接着剤層7を構成する材料とは、同じであっても異なっていても良いが、同じであることが好ましい。これにより、屈曲性を特に向上することができる。
前記フレキシブル配線板には、補強用部材、電磁波保護部材等を適宜追加しても良い。
前記樹脂組成物には、前記熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、無機充填材等の他に、樹脂硬化剤(特にエポキシ樹脂硬化剤)、硬化促進剤等を含んでも良い。
前記樹脂組成物には、前記熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、無機充填材等の他に、樹脂硬化剤(特にエポキシ樹脂硬化剤)、硬化促進剤等を含んでも良い。
このようなフレキシブル配線板は、光学式記録媒体用装置、印刷装置、ヒンジ部を有する電子機器(具体的には、携帯電話、ノート型パソコン、携帯情報端末等)に好適に用いられる。特に折り畳み式電子機器ヒンジ部において配線密度が高い両面配線が可能で、ヒンジ部の様な屈曲部の曲率半径が常に変化する動作に於いても優れた耐屈曲性を発揮する。
以下、本発明を実施例および比較例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(実施例1)
1.基材
基材には、弾性率[A]が7.5GPaであるポリイミド基材(デュポン社製、パイララックスAX、厚さ25μm)を用いた。
(実施例1)
1.基材
基材には、弾性率[A]が7.5GPaであるポリイミド基材(デュポン社製、パイララックスAX、厚さ25μm)を用いた。
2.被覆層
被覆層には、ポリイミドフィルム(鐘淵化学工業株式会社製、アピカルNPI、厚さ12.5μm)を用いた。
被覆層には、ポリイミドフィルム(鐘淵化学工業株式会社製、アピカルNPI、厚さ12.5μm)を用いた。
3.接着剤層
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)19重量%、ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量285g/eq)13重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)21重量%、分子末端以外の分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム(エポキシ当量200g/eq)6重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)13重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム20重量%、シリカ8重量%配合し接着剤ワニスを作製した。得られた接着剤ワニスを、ポリイミドフィルム(鐘淵化学工業(株)製 アピカル)上に固形分で厚み15μmになるように塗布し、80℃にて15分乾燥し、Bステージ状態とした。接着剤層の弾性率は、0.6GPaであった。
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)19重量%、ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量285g/eq)13重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)21重量%、分子末端以外の分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム(エポキシ当量200g/eq)6重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)13重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム20重量%、シリカ8重量%配合し接着剤ワニスを作製した。得られた接着剤ワニスを、ポリイミドフィルム(鐘淵化学工業(株)製 アピカル)上に固形分で厚み15μmになるように塗布し、80℃にて15分乾燥し、Bステージ状態とした。接着剤層の弾性率は、0.6GPaであった。
4.フレキシブル配線板の製造
基材の両面に回路幅、回路間隔が各々0.07mmとなり、かつ両面の回路が千鳥に配置されるような回路を作成した。両面の回路はスルーホールを介して電気的に接合させた。この配線板の両面に上記接着剤層を有する被覆層(カバーレイ)を貼り合わせ、温度170℃、圧力4MPaの条件下で60分プレスしてフレキシブル配線板を作製した。
基材の両面に回路幅、回路間隔が各々0.07mmとなり、かつ両面の回路が千鳥に配置されるような回路を作成した。両面の回路はスルーホールを介して電気的に接合させた。この配線板の両面に上記接着剤層を有する被覆層(カバーレイ)を貼り合わせ、温度170℃、圧力4MPaの条件下で60分プレスしてフレキシブル配線板を作製した。
(実施例2)
基材の弾性率が6.5GPaであるポリイミド基材(三井化学社製ネオフレックス)を使用した以外は、実施例1と同様にした。
基材の弾性率が6.5GPaであるポリイミド基材(三井化学社製ネオフレックス)を使用した以外は、実施例1と同様にした。
(実施例3)
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)18重量%、ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量285g/eq)12重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)20重量%、分子末端以外の分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム(エポキシ当量200g/eq)9重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)12重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム20重量%、シリカ8重量%配合して、樹脂ワニスを作製した。
なお、得られた接着剤層の弾性率は0.35GPaであった。
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)18重量%、ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量285g/eq)12重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)20重量%、分子末端以外の分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム(エポキシ当量200g/eq)9重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)12重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム20重量%、シリカ8重量%配合して、樹脂ワニスを作製した。
なお、得られた接着剤層の弾性率は0.35GPaであった。
(実施例4)
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)23重量%、ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量285g/eq)15重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)12重量%、分子末端以外の分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム(エポキシ当量200g/eq)4重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)15重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム21重量%、シリカ9重量%配合して、樹脂ワニスを作製した。
なお、得られた接着剤層の弾性率は2.5GPaであった。
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)23重量%、ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量285g/eq)15重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)12重量%、分子末端以外の分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム(エポキシ当量200g/eq)4重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)15重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム21重量%、シリカ9重量%配合して、樹脂ワニスを作製した。
なお、得られた接着剤層の弾性率は2.5GPaであった。
(実施例5)
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)20重量%、ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量285g/eq)14重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)22重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)14重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム22重量%、シリカ8重量%配合して、樹脂ワニスを作製した。
なお、得られた接着剤層の弾性率は2.7GPaであった。
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)20重量%、ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量285g/eq)14重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)22重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)14重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム22重量%、シリカ8重量%配合して、樹脂ワニスを作製した。
なお、得られた接着剤層の弾性率は2.7GPaであった。
(実施例6)
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
実施例1の接着剤層にビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)32重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)21重量%、分子末端以外の分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム(エポキシ当量200g/eq)6重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)13重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム21重量%、シリカ8重量%配合して、樹脂ワニスを作製した。
なお、得られた接着剤層の弾性率は0.3GPaであった。
接着剤層を構成する樹脂ワニスを以下のようにした以外は、実施例1と同様にした。
実施例1の接着剤層にビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)32重量%、フェノキシ樹脂(重量平均分子量30000)21重量%、分子末端以外の分子鎖中にグリシジル基を有するブタジエンゴム(エポキシ当量200g/eq)6重量%、エポキシ樹脂硬化剤(当量比0.7)13重量%を配合したものをメチルエチルケトン及びジメチルホルムアミドに溶解混合した。さらに、無機充填剤として水酸化アルミニウム21重量%、シリカ8重量%配合して、樹脂ワニスを作製した。
なお、得られた接着剤層の弾性率は0.3GPaであった。
(比較例1)
基材の弾性率が4.7GPaであるポリイミド基材(新日鐵化学社製エスパネックス)を使用した以外は、実施例1と同一にした。
基材の弾性率が4.7GPaであるポリイミド基材(新日鐵化学社製エスパネックス)を使用した以外は、実施例1と同一にした。
各実施例および比較例で得られたフレキシブル配線板について下記の評価を行なった。評価項目を内容と共に示す。得られた結果を表1に示す。
1.屈曲性(耐折寿命)
屈曲性は、得られたフレキシブル配線板を携帯電話のヒンジ部分を再現した治具に取り付け回路が断線するまで屈曲試験を行なった。なお回路断線の判定は、回路抵抗上昇率で判定した。屈曲試験は、7万回以上を合格として10万回まで実施した。
1.屈曲性(耐折寿命)
屈曲性は、得られたフレキシブル配線板を携帯電話のヒンジ部分を再現した治具に取り付け回路が断線するまで屈曲試験を行なった。なお回路断線の判定は、回路抵抗上昇率で判定した。屈曲試験は、7万回以上を合格として10万回まで実施した。
2.接着性
接着性は、ピール強度で評価した。
接着性は、ピール強度で評価した。
3.可とう性
可とう性は、実施例1で得られたフレキシブル配線板を基準(100)として、ガーレ式柔軟性評価法で比較した。
可とう性は、実施例1で得られたフレキシブル配線板を基準(100)として、ガーレ式柔軟性評価法で比較した。
4.難燃性
難燃性は、UL94試験で評価した。
難燃性は、UL94試験で評価した。
表から明らかなように、実施例1〜6は、屈曲性の評価において6.5万回以上の寿命を有しており、屈曲性と耐折寿命に優れていることが示された。
また、実施例1〜4および6は、ピール強度に優れており、接着性にも優れていることが示された。
また、実施例1〜6は、可とう性および難燃性にも優れていた。
また、実施例1〜4および6は、ピール強度に優れており、接着性にも優れていることが示された。
また、実施例1〜6は、可とう性および難燃性にも優れていた。
本発明のフレキシブル配線板は、ヒンジ部を有する折り畳み式電話等の電子機器に好適に用いることができ、フレキシブル配線板に優れた屈曲特性と高密度配線が可能となる。
1 基板
2 第1の導体回路
21 第1の配線
21a 第1の配線
21b 第1の配線
21c 第1の配線
21d 第1の配線
21e 第1の配線
21f 第1の配線
22a 空隙部
22b 空隙部
22c 空隙部
22d 空隙部
22e 空隙部
22f 空隙部
3 第1の被覆層
4 第1の接着剤層
5 第2の導体回路
51 第2の配線
51a 第2の配線
51b 第2の配線
51c 第2の配線
51d 第2の配線
51e 第2の配線
51f 第2の配線
51g 第2の配線
52a 空隙部
52b 空隙部
52c 空隙部
52d 空隙部
52e 空隙部
52f 空隙部
6 第2の被覆層
7 第2の接着剤層
10 フレキシブル配線板
2 第1の導体回路
21 第1の配線
21a 第1の配線
21b 第1の配線
21c 第1の配線
21d 第1の配線
21e 第1の配線
21f 第1の配線
22a 空隙部
22b 空隙部
22c 空隙部
22d 空隙部
22e 空隙部
22f 空隙部
3 第1の被覆層
4 第1の接着剤層
5 第2の導体回路
51 第2の配線
51a 第2の配線
51b 第2の配線
51c 第2の配線
51d 第2の配線
51e 第2の配線
51f 第2の配線
51g 第2の配線
52a 空隙部
52b 空隙部
52c 空隙部
52d 空隙部
52e 空隙部
52f 空隙部
6 第2の被覆層
7 第2の接着剤層
10 フレキシブル配線板
Claims (9)
- 少なくとも片面に導体回路が形成された基材と、被覆層と、前記導体回路と前記被覆層との間に設けられる接着層とを有するフレキシブル配線板であって、
前記基材の弾性率[A]が6.5〜10[GPa]であることを特徴とするフレキシブル配線板。 - 前記基材は、主としてポリイミド樹脂で構成されているものである請求項1に記載のフレキシブル配線板。
- 前記接着剤層の弾性率[B]は、前記基材の弾性率[A]の1/20以上である請求項1または2にフレキシブル配線板。
- 前記接着剤層の弾性率は、0.3[GPa]以上である請求項1ないし3のいずれかに記載のフレキシブル配線板。
- 前記接着剤層は、第1のエポキシ樹脂と、前記第1のエポキシ樹脂と異なる第2のエポキシ樹脂とを含む樹脂組成物で構成されるものである請求項1ないし4のいずれかに記載のフレキシブル配線板。
- 前記樹脂組成物は、さらにエラストマーを有するものである請求項5に記載のフレキシブル配線板。
- 前記エラストマ−は、分子鎖中にグリシジル基をするブタジエンゴムである請求項6に記載のフレキシブル配線板。
- ヒンジ部を有する電子機器に用いられるものである請求項1ないし7のいずれかに記載のフレキシブル配線板。
- 請求項1ないし8のいずれかに記載のフレキシブル配線板を有することを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004097473A JP2005286085A (ja) | 2004-03-30 | 2004-03-30 | フレキシブル配線板および電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004097473A JP2005286085A (ja) | 2004-03-30 | 2004-03-30 | フレキシブル配線板および電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005286085A true JP2005286085A (ja) | 2005-10-13 |
Family
ID=35184128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004097473A Pending JP2005286085A (ja) | 2004-03-30 | 2004-03-30 | フレキシブル配線板および電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005286085A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008098613A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-04-24 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | フレキシブルプリント回路板 |
KR100981942B1 (ko) | 2007-03-26 | 2010-09-13 | 가부시키가이샤 아리사와 세이사쿠쇼 | 플렉시블 프린트 배선판 및 그 플렉시블 프린트 배선판을이용한 슬라이드식 휴대 전화 단말 |
WO2012020677A1 (ja) * | 2010-08-09 | 2012-02-16 | 新日鐵化学株式会社 | 繰返し屈曲用途向けフレキシブル回路基板、これを用いた電子機器及び携帯電話 |
JP2020198417A (ja) * | 2019-06-05 | 2020-12-10 | Tdk株式会社 | プリント配線基板およびその製造方法 |
-
2004
- 2004-03-30 JP JP2004097473A patent/JP2005286085A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008098613A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-04-24 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | フレキシブルプリント回路板 |
KR100981942B1 (ko) | 2007-03-26 | 2010-09-13 | 가부시키가이샤 아리사와 세이사쿠쇼 | 플렉시블 프린트 배선판 및 그 플렉시블 프린트 배선판을이용한 슬라이드식 휴대 전화 단말 |
WO2012020677A1 (ja) * | 2010-08-09 | 2012-02-16 | 新日鐵化学株式会社 | 繰返し屈曲用途向けフレキシブル回路基板、これを用いた電子機器及び携帯電話 |
JP5858915B2 (ja) * | 2010-08-09 | 2016-02-10 | 新日鉄住金化学株式会社 | 繰返し屈曲用途向けフレキシブル回路基板、これを用いた電子機器及び携帯電話 |
JP2020198417A (ja) * | 2019-06-05 | 2020-12-10 | Tdk株式会社 | プリント配線基板およびその製造方法 |
JP7342433B2 (ja) | 2019-06-05 | 2023-09-12 | Tdk株式会社 | プリント配線基板およびその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101471232B1 (ko) | 전자 부품용 접착제 조성물 및 이를 이용한 전자 부품용 접착제 시트 | |
US6274821B1 (en) | Shock-resistive printed circuit board and electronic device including the same | |
JP5131109B2 (ja) | 電子部品用接着剤組成物およびそれを用いた電子部品用接着剤シート | |
JP5109411B2 (ja) | 電子機器用接着剤組成物およびそれを用いた電子機器用接着剤シート、電子部品 | |
CN106256862B (zh) | 树脂组合物 | |
JP5266696B2 (ja) | 電子機器用接着剤組成物およびそれを用いた電子機器用接着剤シート | |
CN110494493A (zh) | 树脂组合物 | |
JP2009144052A (ja) | プリント回路板用樹脂組成物、支持基材付き絶縁層、積層板およびプリント回路板 | |
JP2003298196A (ja) | プリント配線板用誘電体フィルム、多層プリント基板および半導体装置 | |
JP4277614B2 (ja) | フレキシブルプリント配線板用樹脂組成物およびカバーレイ | |
JP2005286085A (ja) | フレキシブル配線板および電子機器 | |
JP2007211143A (ja) | 樹脂組成物、カバーレイフィルム、および金属張積層板。 | |
JP2006339295A (ja) | 可撓性回路基板 | |
JP4455406B2 (ja) | コネクタケーブル | |
JP2007077247A (ja) | 樹脂組成物およびそれを用いたカバーレイフィルム、金属張積層板 | |
JP2005105159A (ja) | 樹脂組成物、カバーレイおよびフレキシブルプリント配線板 | |
JP2007112848A (ja) | 樹脂組成物およびそれを用いたカバーレイフィルム、金属張積層板 | |
JP4967359B2 (ja) | 樹脂組成物、樹脂フィルム、層間接着材および多層回路板 | |
JP4433689B2 (ja) | フレキシブルプリント配線板用樹脂組成物 | |
JP2005340270A (ja) | 積層板用プリプレグ、積層板並びにそれを用いたフレキシブルプリント配線板及びフレックスリジッドプリント配線板 | |
JP4433693B2 (ja) | 樹脂組成物、カバーレイ、フレキシブルプリント配線板用金属張積層板およびフレキシブルプリント配線板 | |
KR102190760B1 (ko) | 커넥터 및 플렉시블 배선판 | |
JP2009111033A (ja) | フレックスリジッドプリント配線板 | |
JP2007238769A (ja) | 樹脂組成物、樹脂フィルム、カバーレイフィルムおよびフレキシブルプリント回路板 | |
KR100912918B1 (ko) | 수지 부착 금속박 및 다층 인쇄 회로판 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20090825 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20100105 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |