JP2005277209A - パターン露光装置および二次元光像発生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光装置100の光源として、シャワービーム型レーザ1を備え、当該レーザ1は全反射鏡3とピンホール付き出力鏡4とでレーザ共振器を構成している。ピンホール付き出力鏡4には、直径0.3ミクロンの穴が約13.7ミクロンピッチで約786,432個空いている。ピンホール付き出力鏡4から取り出される紫外光線L2は、レンズ7aとレンズ7bとで構成された転写光学系8a、及び偏光ビームスプリッタ6を通過してミラーデバイス11に当たる。
【選択図】図1
Description
2 レーザ管
3 全反射鏡
4 ピンホール付き出力鏡
5 ビーム拡大器
6 偏光ビームスプリッタ
7a、7b、7c、7d、203a、203b レンズ
8a、8b 転写光学系
9 ピンホール板
10 λ/4波長板
11、201 ミラーデバイス
12、209 基板
13 XYステージ
31 石英基板
32 反射板
33 反射防止膜
100、200 パターン露光装置
202 ミラー
204 投影光学系
205 マイクロレンズアレイ
206 ピンホール板
210 ピンホール板206の投影領域
211 露光された領域
L1 レーザ光
L2 紫外光線
L21、L22、L23、L24 紫外光
Claims (10)
- 二次元配列状の微小ミラーによってパターンを形成するパターン露光装置において、多数の紫外光線の発生部を光源として用い、かつ転写光学系を用いて、前記二次元配列状の微小ミラーに対して、前記多数の紫外光線の発生部からの紫外光線を前記転写光学系によって投影させ、かつ前記二次元配列状の微小ミラーで反射した紫外光線によって基板をパターン露光することを特徴とするパターン露光装置。
- 前記多数の紫外光線の発生部が、多数のピンホールを有する反射鏡を出力鏡に用いたレーザを含むことを特徴とする前記請求項1のパターン露光装置。
- 二次元配列状の微小ミラーによってパターンを形成する二次元光像発生装置において、多数の紫外光線の発生部を光源として用い、かつ転写光学系を用いて、前記二次元配列状の微小ミラーに対して、前記多数の紫外光線の発生部からの紫外光線を前記転写光学系によって投影させ、かつ前記二次元配列状の微小ミラーで反射した紫外光線によって二次元光像を出力することを特徴とする二次元光像発生装置。
- 前記多数の紫外光線の発生部が、多数のピンホールを有する反射鏡を出力鏡に用いたレーザを含むことを特徴とする前記請求項3の二次元光像発生装置。
- レーザ共振器を含むレーザにおいて、前記レーザ共振器は全反射鏡と、ピンホール付き出力鏡とによって構成されていることを特徴とするレーザ。
- 請求項5において、前記ピンホール付き出力鏡は基板と、当該基板の一表面上に形成され、ピンホールを規定する反射膜と、前記基板の他方の表面に形成された反射防止膜とを有していることを特徴とするレーザ。
- 請求項6において、前記反射膜に形成されたピンホールの総面積は、全反射鏡との間で内部的に発生されるビームの断面積に比較して、レーザ発振を行なえる程度に小さいことを特徴とするレーザ。
- 請求項7において、前記レーザは前記ピンホール付き出力鏡から、前記ビームよりも細い複数のビームを発生することを特徴とするレーザ。
- レーザ共振器に使用される反射鏡において、複数のピンホールを備えたことを特徴とする反射鏡。
- 請求項9において、基板と、当該基板の一表面上に形成され、ピンホールを規定する反射膜と、前記基板の他方の表面に形成された反射防止膜とを有することを特徴とする反射鏡。
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