JP2006041124A - パターン描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターン描画装置100では、水銀ランプ101からの紫外光を偏光変換光学系103に入射させ、無偏光の光を直線偏光のS波に変換する。紫外光は、偏光ビームスプリッタ105に入射し100%近く反射して上方に進み、1/4波長板106を通過し円偏光となってマイクロミラーデバイス107に入射する。 マイクロミラーデバイスで反射する紫外光の内、パターン露光に寄与する紫外光は真っ直ぐに下方に進み、再度、1/4波長板を通過することでP波となり、偏光ビームスプリッタを100%近く透過し下方に進む。下方に進む紫外光の内、パターン露光に寄与するものは、ピンホール板110を通過して基板114に到達する。
【選択図】図1
Description
101、201 水銀ランプ
102、202 集光ミラー
103 偏光変換光学系
103a、105 偏光ビームスプリッタ
103b 1/2波長板
106 1/4波長板
107、207 マイクロミラーデバイス
108a、108b、208a、208b レンズ
109、209 投影光学系
110 ピンホール板
111、211 マイクロレンズアレイ
112、212 マルチピンホール板
113、213 縮小投影光学系
114、214 基板
204 ミラー
215 ピンホール板212の投影領域
216 露光された領域
UV11、UV12、UV13、UV14、UV15、UV21、UV22、UV23、UV24、UV25 紫外光
Claims (10)
- 紫外光発生部、二次元配列状の微小ミラー(マイクロミラー)、縮小投影光学系、及び無偏光を偏光に変換する偏光変換光学系を含み、前記紫外光発生部から発生した紫外光を、前記偏光変換光学系に入射させてから前記二次元配列状の微小ミラーに入射させることを特徴とするパターン描画装置。
- 前記二次元配列状の微小ミラーで反射した紫外光を、レンズに通して、該レンズの焦点近傍にピンホール板を配置することを特徴とする請求項1に記載のパターン描画装置。
- 前記紫外光発生部がランプであることを特徴とする請求項1に記載のパターン描画装置。
- 前記二次元配列状の微小ミラーで反射した紫外光をマイクロレンズアレイに通過させて、多数のスポット光を発生させ、該スポット光によって、パターン描画することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のパターン描画装置。
- 無偏光の光を発生するランプと、入射する光を個別に反射する微小ミラーからなるマイクロミラーデバイスとを含むパターン描画装置において、前記ランプで発生された無偏光の光を直線偏光に変換する偏光変換光学系を備え、当該偏光変換光学系で変換された直線偏光を前記マイクロミラーデバイスに入射させることを特徴とするパターン描画装置。
- 前記偏光変換光学系は、無偏光の光をS波の直線偏光に変換する光学系であることを特徴とする請求項5記載のパターン描画装置。
- 前記偏光変換光学系と前記マイクロミラーデバイスとの間には、前記偏光変換光学系からの直線偏光を反射し、前記マイクロミラーデバイスで反射された光を透過する光学系が設けられていることを特徴とする請求項5又は6記載のパターン描画装置。
- 前記光学系は、前記偏光変換光学系からの直線偏光を反射し、前記マイクロミラーデバイスで反射された直線偏光を透過する偏光ビームスプリッタを含んでいることを特徴とする請求項7記載のパターン描画装置。
- 前記光学系は前記偏光ビームスプリッタと前記マイクロミラーデバイスとの間に設けられた1/4波長板を備えていることを特徴とする請求項8記載のパターン描画装置。
- 前記偏光変換光学系は複数の偏光ビームスプリッタと、所定位置に設けられた前記偏光ビームスプリッタに取り付けられた1/2波長板とを備えていることを特徴とする請求項6記載のパターン描画装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2004
- 2004-07-26 JP JP2004217676A patent/JP2006041124A/ja active Pending
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