JP2009147321A - リソグラフィ装置およびリソグラフィ方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板のターゲット部分上にパターン付けされた放射ビームを投影するように構成されるリソグラフィ装置が開示され、このリソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成される照明システムILであって、使用時にこの照明システムILによって実質的に一定の瞳孔で照明される面内に配置される均一性補正システム16を有する照明システムILを備える。
【選択図】図5
Description
− 放射ビームPB(例えばUV放射またはDUV放射)を調整するための照明システム(照明システム)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、アイテムPLに対してパターニングデバイスを正確に位置決めするための第1の位置決めデバイスPMに連結される、支持構造体(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持し、アイテムPLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決めデバイスPWに連結される、基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− 基板Wの(例えば1つまたは複数のダイを含む)ターゲット部分C上に、パターニングデバイスMAによって放射ビームPBに与えられたパターンの像を形成するように構成される投影システム(例えば屈折型投影レンズ)PLと
を備える。
Claims (20)
- 放射ビームを調整するように構成される照明システムであって、使用時に当該照明システムによって実質的に一定の瞳孔で照明される面内に配置される均一性補正システムを備える、照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを与えるように構成されるパターニングデバイスを保持するように構成される支持構造体と、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上にパターン付けされた前記放射ビームを投影するように構成される投影システムと
を備える、リソグラフィ装置。 - 前記均一性補正システムは、使用時に前記照明システムによって一定の瞳孔で照明される面内に配置される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性補正システムは、前記照明システムのフィールドレンズ群の焦点面内に配置される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性補正システムは、前記放射ビームを横切る状態へ、かつ、前記放射ビームを横切る状態から移動可能である複数のフィンガーを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数のフィンガーは、前記放射ビームの一方の側のみに配置される、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムおよび前記投影システム内に透過型光学系を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性補正システムに隣接して配置されるパターニングデバイスマスキングブレードをさらに備える、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングデバイスマスキングブレードは、前記照明システムのフィールド面から20ミリメートル未満に配置される、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターニングデバイスマスキングブレードは、前記フィールド面から10ミリメートル未満に配置される、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明システムおよび前記投影システムは反射型光学系を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性補正システムは、使用時に、前記パターニングデバイスが前記リソグラフィ装置のフィールド面から離隔するように、前記パターニングデバイス支持構造体に隣接して配置される、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- フィールドファセットミラーをさらに備え、前記フィールドファセットミラーのファセットが、前記パターニングデバイスと前記フィールド面との間の離隔により生じるデフォーカスを考慮して、前記放射ビームのフィールドが前記投影システムの受容フィールド内に収まるような寸法を有する、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィールド面は、前記フィールドファセットミラーのファセットの像が使用時に形成される面を含む、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性補正システムは、前記パターニングデバイスが使用時に前記パターニングデバイス支持構造体により保持される位置から60ミリメートル未満に配置される、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性補正システムは、前記パターニングデバイスが使用時に前記パターニングデバイス支持構造体により保持される位置から40ミリメートル未満に配置される、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性補正システムは、前記パターニングデバイスが使用時に前記パターニングデバイス支持構造体により保持される位置から20ミリメートル未満に配置される、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性補正システムと前記パターニングデバイス支持構造体との間に配置されるパターニングデバイスマスキングブレードをさらに備える、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを調整するように構成される照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを与えるように構成されるパターニングデバイスを保持するように構成される支持構造体と、
前記放射ビームの強度を調節するように構成され、前記照明システムのフィールド面にまたは前記照明システムのフィールド面に隣接して配置される均一性補正システムと、
前記放射ビームの少なくとも一部分をマスキングするように構成され、前記照明システムのフィールド面内には配置されないパターニングデバイスマスキングブレードと、
基板を保持するように構成される基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上にパターン付けされた前記放射ビームを投影するように構成される投影システムと
を備える、リソグラフィ装置。 - 放射ビームを生成するステップと、
リソグラフィ装置の照明システムに前記放射ビームを通過させるステップと、
パターニングデバイス上に前記放射ビームを方向付けて、前記放射ビームにパターン付けするステップと、
パターン付けされた前記放射ビームを、前記リソグラフィ装置の投影システムを介して基板上に投影するステップと
を含み、前記放射ビームの強度が、前記照明システムにより実質的に一定の瞳孔で照明される均一性補正システムによって調節される、リソグラフィ方法。 - 前記均一性補正システムは、前記照明システムによって一定の瞳孔で照明される、請求項19に記載の方法。
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