JP2006165581A - リソグラフィ装置のための均一性補正 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】2つのより長い辺及び2つのより短い辺を有する長方形照明スリットにおける放射線分布の均一性を改善するための均一性補正モジュールであって、照明スリットの各より長い辺に沿って配列された複数の可動ブレードと、流体を含むチャンバと、を含み、前記可動ブレードは前記流体中に少なくとも部分的に浸漬され、且つ、各ブレードの屈折率と前記流体の屈折率の間の差は各ブレードの表面における大幅な反射及び屈折を防止するために十分小さい均一性補正モジュール。
【選択図】図2
Description
(例えば、UV放射線などの)放射線の投影ビームPBを供給するための照明システム(イルミネータ)ILと、
(例えば、マスクなどの)パターン形成デバイスMAを支持するための、且つ、物品PLに関してパターン形成デバイスを正確に位置決めするための第1の位置決め器PMに接続された(例えば、マスク・テーブルなどの)第1の支持部構造体MTと、
(例えば、レジストがコーティングされたウェハなどの)基板Wを保持するための、且つ、物品PLに関して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め器PWに接続された(例えば、ウェハ・テーブルなどの)基板テーブルWTと、
パターン形成デバイスMAにより投影ビームPBに与えられたパターンを基板Wの(例えば、1つ又は複数のダイを含む)目標部分C上に画像形成するための(例えば、屈折性投影レンズなどの)投影システムPLと、を含む。
・フィールド内に影及び/又は明るい縞を作り出す辺縁部をフィンガが有する。
・フィンガ間の隙間が光漏れ−明るい縞を引き起こすことがある。
・フィンガが非常に薄くなければならず、且つ、作成するのが困難なことがある。
側面からフィールドを侵害することは著しい楕円性を引き起こす。もしフィンガがフィールドに十分深く挿入されていれば、楕円性は害を被らないが、光の損失は重大となる。
BD ビーム送達システム
C 目標部分
CO 集光器
G 隙間
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
M1、M2 マスク位置合わせマーク
MA パターン形成デバイス
MT 支持部構造体
P1、P2 基板位置合わせマーク
PB 投影ビーム
PL 投影システム
PM、PW 位置決め器
SO 放射線源
W 基板
WT 基板テーブル
1、24、40 均一性補正モジュール
2、4、6、8 ブレード
12 三角形表面
14、44 チャンバ
20 先端
22 基部
26 スリット
28、30、42 フィンガ
32、34 カバー
36 水
Claims (32)
- 2つのより長い辺及び2つのより短い辺を有する長方形照明スリットにおける放射線分布の均一性を改善するための均一性補正モジュールであって、
前記照明スリットの各より長い辺に沿って配列された複数の可動ブレードと、
流体を含むチャンバと、を含み、
前記可動ブレードは前記流体中に少なくとも部分的に浸漬され、且つ、各ブレードの屈折率と前記流体の屈折率の間の差は各ブレードの表面における著しい反射及び屈折を防止するために十分小さい均一性補正モジュール。 - 各ブレードの屈折率と前記流体の屈折率の間の差は0.15未満である請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 前記流体の屈折率及び前記ブレードの屈折率は前記放射線の波長において実質的に等しい請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 前記ブレードは水晶、溶融シリカ、フッ化カルシウム、スピネット、又は、サファイヤのグループの1つ又は複数を含む請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 前記流体が水である請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 各ブレードは少なくとも1つの表面上に光吸収コーティングをさらに含む請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 前記光吸収コーティングは漸進的な形で変化し、そのため、吸収の程度は前記照明スリットの中央からの距離が増加するにつれて高まる請求項6に記載の均一性補正モジュール。
- 前記照明スリットの中央に最も近い各ブレードの端部における吸収の程度は0%である請求項5に記載の均一性補正モジュール。
- 各ブレードは、前記モジュールの光軸の方向で見たとき、三角形である請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 各ブレードは細長い長方形の形状を有する請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 各ブレードは前記照明スリットの縦軸に垂直な軸に沿って配列されている請求項10に記載の均一性補正モジュール。
- 各ブレードは前記照明スリットの縦軸に垂直な方向に対して傾斜された軸に沿って配列されている請求項10に記載の均一性補正モジュール。
- 前記照明スリットの中央に最も近い各ブレードの端部は前記照明スリットの縦軸に実質的に平行である請求項12に記載の均一性補正モジュール。
- 前記ブレードの上流に所在する透明頂部カバー及び前記ブレードの下流に所在する透明底部カバーをさらに含む請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 吸収性コーティングは、前記ブレード間の光漏れを低減するために、隣接したブレード間の位置において頂部カバー又は底部カバーに塗布されている請求項14に記載の均一性補正モジュール。
- 前記液体は前記ブレードよりも高吸収性である請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 前記ブレードの上流に所在する透明頂部カバー及び前記ブレードの下流に所在する透明底部カバーが設けられ、各ブレードと頂部カバーの間の、及び、各ブレードと底部カバーの間の距離が0.05mmと0.1mmの間である請求項16に記載の均一性補正モジュール。
- 前記ブレードは透明である請求項16に記載の均一性補正モジュール。
- 前記液体は0.1から0.3cm−1の吸収係数を有する請求項16に記載の均一性補正モジュール。
- 前記ブレードは前記照明スリットの縦軸に垂直な方向を基準として1つの角度に傾斜され、且つ、前記照明スリットの中央に最も近い各ブレードの端部は前記照明スリットの縦軸に実質的に平行である請求項16に記載の均一性補正モジュール。
- 前記ブレードには、相補的な突起及び溝が前記ブレードに沿って設けられ、放射線が前記ブレードも通過することなく前記均一性補正モジュールを通過することを防止するために、各突起は個々の溝内に嵌合する請求項16に記載の均一性補正モジュール。
- 前記照明スリットの同じ側の隣接したブレードの辺縁部はV字型の輪郭を有し、且つ、各ブレードの前記辺縁部に沿ったV字型突起は、放射線が前記ブレードも通過することなく前記均一性補正モジュールを通過することを防止するために、隣接したブレードの辺縁部に沿ったV字型溝に嵌合する請求項16に記載の均一性補正モジュール。
- 各フィンガの上流側辺縁部から下流側辺縁部までの各フィンガの厚さは1mmと4mmの間である請求項16に記載の均一性補正モジュール。
- 各フィンガの辺縁部は研磨されている請求項16に記載の均一性補正モジュール。
- 液体を前記チャンバ内に導入し、且つ、使用中に液体をチャンバから除去するための循環システムをさらに含む請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 各ブレードは水晶基板により支持された不透明部材を含む請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 前記不透明部材は金属箔を含む請求項26に記載の均一性補正モジュール。
- 前記液体は、前記液体による光の吸収のレベルに影響を及ぼす少なくとも1つの添加物を含む請求項1に記載の均一性補正モジュール。
- 放射線の投影ビームを供給するための照明システムと、
パターン形成デバイスを支持するための支持構造体であって、前記パターン形成デバイスは前記投影ビームにその断面においてパターンを与えるように機能する支持構造体と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分上に投影するための投影システムと、
均一性補正モジュールであって、
前記投影ビームの各辺に沿って配列された複数の可動ブレードと、
流体を含むチャンバと、を含み、
前記可動ブレードは前記流体に少なくとも部分的に浸漬され、且つ、各ブレードの屈折率と前記流体の屈折率の間の差は各ブレードの表面における大幅な反射及び屈折を防止するために十分に小さい均一性補正モジュールと、を含むリソグラフィ装置。 - 前記均一性補正モジュールは前記パターン形成デバイスの上方に所在する請求項29に記載のリソグラフィ装置。
- 照明ビームの均一性を高める方法であって、
前記照明ビームを生成するステップと、
前記照明ビームの各辺に沿って流体中に少なくとも部分的に浸漬された複数の可動ブレードを、前記ブレードが前記照明ビームの光の少なくとも一部を遮断し、それにより、前記照明ビームの均一性を高めるように、位置決めするステップと、を含む方法。 - デバイス製造方法であって、
放射線のビームにそのビームの断面においてパターンをパターン形成するステップと、
基板の目標部分上に前記放射線のビームを投影するステップと、
前記投影ビームの各辺に沿って流体中に少なくとも部分的に浸漬された複数の可動ブレードを、前記ブレードが前記投影ビームの光の少なくとも一部を遮断し、それにより、前記投影ビームの均一性を高めるように、位置決めするステップと、を含む方法。
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