JP2005183982A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明によれば、投影系の中間焦点またはその近傍に配置された放射線減衰器、またはマスキング・ブレードなどの可変開口システムを含むリソグラフィ装置が提供される。放射線減衰器や可変開口システムの他に、中間焦点に測定システムを配置することもできる。照明系内のレチクルの近くではなく、投影系の中間焦点に1つまたは複数のそうしたシステムを配置することによってより広い空間を利用できるようになるため、設計上の制約が少なくなり、その結果、設計コストが低減される。
【選択図】図2
Description
(1)ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTを本質的に静止した状態に保ち、それと同時に投影ビームに与えられたパターン全体をターゲット部分Cの上に1回で投影する(すなわち、ただ1回の静止露光)。次いで、異なるターゲット部分Cを露光することができるように、基板テーブルWTをXおよび/またはY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モードでは、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTを同期して走査し、それと同時に、投影ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cの上に投影する(すなわち、ただ1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影系PLの拡大(縮小)率、および像の反転特性によって決まる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の(走査方向の)高さが決定される。
(3)他のモードでは、プログラム可能なパターン形成構造を保持しながらマスク・テーブルMTを本質的に静止した状態に保ち、投影ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cの上に投影するとともに、基板テーブルWTを移動または走査する。このモードでは、一般にパルス式の放射線源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、または走査中の連続する放射線パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成構造が必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したタイプのプログラマブル・ミラー・アレイなど、プログラム可能なパターン形成構造を利用するマスクレス・リソグラフィに簡単に適用することができる。
IF1、IF2 位置センサ
IL 照明系、照明器
MA パターン形成構造、マスク
MT 支持構造、オブジェクト・テーブル、マスク・テーブル
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
PB 投影ビーム
PL 投影系、レンズ
PM、PW 位置決め装置
P1、P2 基板アライメント・マーク
SO 放射線源
W 基板
WT 基板テーブル、オブジェクト・テーブル
1 リソグラフィ装置
2 放射線システム
3 放射線ユニット
11、12、13、14、18、19 反射要素
17 パターンビーム
21、23 中間焦点
25 放射線減衰器
31、32 マスキング・ブレード
36 露光領域
38 レチクル
51、52 フィールド外の領域
61 強度モニタ・センサ
68 均一性補正装置
70 ブレード
93 流速計
94 電圧源
Claims (20)
- 放射線の投影ビームを提供するように構成された照明系と、
パターン形成構造を支持するように構成された支持構造であって、前記パターン形成構造は前記投影ビームの断面にパターンを形成するように構成されている支持構造と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターンビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するように構成された、中間焦点を有する投影系と
を有するリソグラフィ装置であって、
前記パターンビームを減衰させるように構成された少なくとも1つの放射線減衰器、
前記パターンビームの少なくとも一部を通過させるように構成された少なくとも1つの可変開口システム、および
前記パターンビームの強度を測定するように構成された少なくとも1つの放射線測定システム
のうちの少なくとも1つを、前記中間焦点またはその近傍に有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記少なくとも1つの可変開口システムが、前記パターンビームの一部をマスクするように構成された少なくとも2つのマスキング・ブレードを有している請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つの放射線減衰器が、前記パターンビームの一部を遮るように構成された複数のブレードを備えた均一性補正装置を有し、該均一性補正装置が、基板上における前記パターンビームの強度の均一性を高めるように構成されている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性補正装置が、特定位置における前記パターンビームの放射線透過率を動的に調整するように構成されている請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射線測定システムが強度モニタ・センサを有する請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記強度モニタ・センサがダイオード・センサを有する請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記少なくとも1つの放射線減衰器が、前記パターンビームの強度を測定するように構成されている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パターンビームの強度を決定するために、前記少なくとも1つの放射線減衰器の要素の電気的特性を測定するように構成された電気回路をさらに有している請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 放射線の投影ビームが5〜20nmの範囲の波長を有する請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置のための、中間焦点を有する投影系において、
パターンビームを減衰させるように構成された少なくとも1つの放射線減衰器、
パターンビームの少なくとも一部を通過させるように構成された少なくとも1つの可変開口システム、および
パターンビームの強度を測定するように構成された少なくとも1つの放射線測定システム
のうちの少なくとも1つを、前記中間焦点またはその近傍に有することを特徴とする投影系。 - デバイス製造方法であって、
投影系を用いて、放射線のパターンビームを基板のターゲット部分の上に投影するステップと、
前記投影系の中間焦点またはその近傍で、前記パターンビームを減衰させるステップと、
前記投影系の中間焦点またはその近傍で、前記パターンビームの少なくとも一部を通過させるステップと、
前記投影系の中間焦点またはその近傍で、前記パターンビームの強度を測定するステップと
を含むデバイス製造方法。 - 請求項11にしたがって製造されるデバイス。
- 放射線の投影ビームを提供する手段と、
前記投影ビームの断面にパターンを形成するためのパターン形成手段を支持する手段と、
基板を保持する手段と、
前記パターンビームを前記基板のターゲット部分の上に投影する手段であって、中間焦点を有する手段と
を有するリソグラフィ装置であって、
前記パターンビームを減衰させる手段、
前記パターンビームの少なくとも一部を通過させる手段、および
前記パターンビームの強度を測定する手段
のうちの少なくとも1つを、前記中間焦点またはその近傍に有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記減衰手段が、前記パターンビームの一部をマスクするように構成された少なくとも2つのマスキング・ブレードを有している請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 前記減衰手段が、基板上における前記パターンビームの強度の均一性を高める手段を有している請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性を高める手段が、前記パターンビームの一部を遮るように構成された複数のブレードを有している請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記均一性を高める手段は、特定位置における前記パターンビームの放射線透過率を動的に調整する請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定手段が強度モニタ・センサを有している請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 前記強度モニタ・センサがダイオード・センサを有している請求項18に記載のリソグラフィ装置。
- 前記減衰手段が、前記パターンビームの強度を決定するために、前記減衰手段の要素の電気的特性を測定するように構成された電気回路を有している請求項13に記載のリソグラフィ装置。
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