JP2007324592A - 対象物表面の所定の照明領域をeuv照射によって照らすための照明システム - Google Patents
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Abstract
集積回路を製造するためのマイクロリソグラフィーにおいて、マスク乃至レチクル形態の対象物をEUV照射によって照らすために使用される公知の照明システム及びそれらを備えた投影露光システムを指定サイズのEUVにより処理能力が増加する乃至所定のEUV処理能力によりサイズが減少されるよう、更に発達させることである。
【解決手段】
光学軸の方向にEUV照射を集束するコレクタ、二次光源を発生するための第一光学要素、上記二次光源の位置に配置された第二光学要素及び第一光学要素と合わせて最大5つとなる更なる光学要素をコレクターと照明領域の間に備える照明システムにおいて、光学要素と光学軸が60°よりも大きいか30°よりも小さい入射角で交わり、光学軸の少なくとも一つの軸部分が少なくとも二つの光学要素の間において照明主要面に対して傾斜していることを特徴とする、照明システムによって成し遂げられる。
【選択図】図2
Description
Claims (15)
- 対象物表面(3)の所定の照明領域(2)をEUV照射によって照らすための照明システムであり、
−光源(8)によって発されるEUV照射(5)を光学軸(7)、即ち、それに沿って連続する光学要素(10、11、13、14、15;10、11、15;10、11、13、15)に従ってEUV照射(5)が導かれる光学軸(7)、の方向において反射によって集束するコレクタ(9)を備え、
−照明システム(1)内で二次光源(11a)を発生するための第一光学要素(10)を備え、
−第一光学要素(10)が発生する二次光源(11a)の位置において、第一光学要素(10)によって反射されるEUV照射(5)を光学軸(7)に沿って誘導し、かつ第一光学要素(10)を、対象物表面(3)と同一の空間を占める画面(4a)内に配置された照明領域(2)内へ結像する、第二光学要素(11)を備える、
照明システムにして、
−コレクタ(9)と照明領域(2)の間に最大5つの反射する光学要素(10、11、13、14、15;10、11、15;10、11、13、15)が配置され、反射する光学要素(10、11、13、14、15;10、11、15;10、11、13、15)と光学軸(7)が60°よりも大きい又は30°よりも小さい入射角で交わり、
−光学軸の光源軸部分(19)乃至照明主要面(18)上における光学軸の上記光源軸部分(19)の投影と、光学軸の領域軸部分(17)乃至照明主要面(18)上における光学軸の領域軸部分(17)の投影間の偏向軸角度は30°よりも大きく、上記光源軸部分(19)はコレクタ(9)と第一光学要素の間を走り、上記光源軸部分(19)の投影は画面(4a)上に垂直に存在し、かつ上記画面(4a)内において画面(4a)と共に90°よりも小さい角度を囲む光学軸の領域軸部分(17)が光学装置の最後の要素(15)と照明領域(2)の間を走る、
照明システムにおいて、
光学軸の少なくとも一つの軸部分(20;21;21、22、20;19;19、21;19、22、21)が少なくとも二つの光学要素(13、14;10、11;10、11、13、14;9、10;9、10、11;9、10、11、13)の間において照明主要面(18)に対して傾斜していることを特徴とする、照明システム。 - 照明領域(2)のサイズが少なくとも100mm2であることを特徴とする、請求項1に記載の照明システム。
- 第二光学要素(11)が光学装置(12)、即ち更なる光学要素(13、14、15;15;13、15)を含み、かつ第一光学要素(10)によって反射されたEUV照射(5)を光学軸(7)に沿って誘導する光学装置(12)の一部であり、対象物表面(3)と同一空間を占める画面(4a)内に配置される照明領域(2)内で第一光学要素を結像することを特徴とする、請求項1及び2のいずれか一項に記載の照明システム。
- −光学装置(12)が、少なくとも二つの更なる光学要素、即ち第三光学要素(13)及び第四光学要素(14)を第二光学要素(11)の後に含み、
−光学装置(12)の第三光学要素(13)と第四光学要素(14)の間において、照明主要面(18)に対して、光学軸の軸部分(20)が傾斜している、
ことを特徴とする、請求項3に記載の照明システム。 - −光学装置(12)が少なくとも二つの更なる光学要素、即ち第三光学要素(13)及び第四光学要素(14)を第二光学要素(11)の後に含み、
−第一光学要素(10)と第二光学要素(11)の間において、照明主要面(18)に対して、光学軸の軸部分(21)傾斜している、
ことを特徴とする、請求項3又は4に記載の照明システム。 - 光学装置(12)の第二光学要素(11)と第三光学要素(13)間の軸部分(22)が、照明主要面(18)に対して傾斜していることを特徴とする、請求項4又は5に記載の照明システム。
- −第二光学要素(11)の後に、最大で二つの更なる光学要素(15;13、15)、特に明確には、一つの更なる光学要素(15)が備えられ、
−照明主要面(18)に対して傾斜している、コレクタ(9)と第一光学要素(10)間の光学軸の軸部分(19)が備えられ、
−プラズマ光源であるEUV照射(5)の光源(8)、及び、
−特に、EUV照射(5)がコレクタ上において明確には一つの反射によって、乃至多くても二つの反射によって集束されるような形態にあるコレクタが備えられる、
ことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の照明システム。 - 第一光学要素(10)と第二光学要素(11)間の光学軸の軸部分(21)が照明主要面(18)に対して傾斜していることを特徴とする、請求項7に記載の照明システム。
- −光学装置(12)が、第二光学要素(11)に加えて、明確には二つの更なる光学要素、即ち第三光学要素(13)及び更なる光学要素(15)を含み、
−コレクタ(9)と第一光学要素(10)間の光学軸の軸部分(19)及び、第二光学要素(11)と第三光学要素(13)間の光学軸の軸要素(22)が、照明主要面(18)に対して傾斜している、
ことを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の照明システム。 - 対象物表面(3)の所定の照明領域(2)をEUV照射によって照らすための照明システムであり、
−光源(8)によって発されるEUV照射(5)を光学軸(7)、即ち、それに沿って連続する光学要素(10、11、13、14、15;10、11、15;10、11、13、15)に従ってEUV照射(5)が導かれる光学軸(7)、の方向において反射によって集束するコレクタ(9)を備え、
−照明システム(1)内で二次光源(11a)を発生するための第一光学要素(10)を備え、
−第一光学要素(10)が発生する二次光源(11a)の位置において、第一光学要素(10)によって反射されるEUV照射(5)を光学軸(7)に沿って誘導し、かつ第一光学要素(10)を、対象物表面(3)と同一の空間を占める画面(4a)内に配置された照明領域(2)内へ結像する、第二光学要素(11)を備える、
照明システムにして、
−コレクタ(9)と照明領域(2)の間に最大5つの反射する光学要素(10、11、13、14、15;10、11、15;10、11、13、15)が配置され、反射する光学要素(10、11、13、14、15;10、11、15;10、11、13、15)と光学軸(7)が60°よりも大きい又は30°よりも小さい入射角で交わり、
−光学軸の光源軸部分(19)乃至照明主要面(18)上における光学軸の上記光源軸部分(19)の投影と、光学軸の領域軸部分(17)乃至照明主要面(18)上における光学軸の領域軸部分(17)の投影間の偏向軸角度は30°よりも大きく、上記光源軸部分(19)はコレクタ(9)と第一光学要素の間を走り、上記光源軸部分(19)の投影は画面(4a)上に垂直に存在し、かつ上記画面(4a)内において画面(4a)と共に90°よりも小さい角度を囲む光学軸の領域軸部分(17)が光学装置の最後の要素(15)と照明領域(2)の間を走り、
−光学装置(12)が、第二光学要素(11)に加えて、明確には3つの更なる光学要素、即ち第三光学要素(13)、第四光学要素(14)及び第五光学要素(15)を含み、
−光学軸(7)が、第三光学要素(13)、第四光学要素(14)と第五光学要素(15)と60°よりも大きな入射角で交わる、
照明システム。 - 照明の開口数が、少なくとも0.02、好ましくは少なくとも0.03であることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の照明システム。
- 照明領域(2)のサイズが、少なくとも500mm2、好ましくは少なくとも800mm2であることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか一項に記載の照明システム。
- 請求項1〜12のいずれか一項に係る照明システムを備えた、投影露光システム。
- 微細構造を持った構成部品のマイクロリソグラフの製造方法にして、次のステップ、
−感光性材料の層が少なくとも所定の領域に塗布されている、回路基板(16b)の用意、
−結像される構造を有するレチクル(4)の用意、
−請求項13に係る投影露光システムの用意、
−上記投影露光システムを用いて、上記回路基板(16b)の上記感光性材料の層領域上における上記レチクル(4)の少なくとも一部分の投影、
を備える、製造方法。 - 請求項14に係る方法に従って製造された、構造を持った構成部品。
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