JPH075365A - オフアクシス反射屈折型投影光学系 - Google Patents

オフアクシス反射屈折型投影光学系

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JPH075365A
JPH075365A JP5336469A JP33646993A JPH075365A JP H075365 A JPH075365 A JP H075365A JP 5336469 A JP5336469 A JP 5336469A JP 33646993 A JP33646993 A JP 33646993A JP H075365 A JPH075365 A JP H075365A
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JP5336469A
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Pii Shieenmeikaazu Uijiyunando
ピー. シェーンメイカーズ ウイジュナンド
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】本光学系は、第1レンズ群20と、第1ダブル
パス成分群30と、第1凹面ミラー40と、第2レンズ
群50と、第2ダブルパス成分群60と、第2凹面ミラ
ー70と、第3レンズ群80とを具備する。光は、第1
凹面ミラーを通る前と後の夫々で、第1ダブルパス成分
群を通る。同様に、光は、第2凹面ミラーを通る前と後
の夫々で、第2ダブルパス成分群を通る。第1レンズ群
20と第1ダブルパス成分群30と第1凹面ミラー40
と第2レンズ群50とは、協働して中間像平面90に物
体の中間縮小像を形成する。第2ダブルパス成分群60
と第2凹面ミラー70と第3レンズ群80とは、像平面
15に更に縮小された像を形成する。 【効果】設計上の自由度が高まり、大きな開口数と大き
な視野が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般に投影光学系に係わ
り、特にマイクロリソグラフィー用に有用であろう軸外
(オフ・アクシス)の反射屈折型(即ち、レンズとミラ
ーとを含む)縮小光学系に関する。
【0002】
【従来の技術】集積回路素子の大きさは益々小さくなっ
ているので、マイクロリソグラフィー・システムの光学
系に対する要求は益々大きくなって来ている。この光学
系に対する将来の要求に適った解像力特性を達成するに
は、開口数は、現在の公知の光学系の開口数を越える必
要がある。解像力が0.35μmよりも小さい場合に
は、開口数は0.50を越える必要がある。例えば米国
特許第4,685,777号及び第4,701,035
号のような公知技術では、曲面ミラーが光学パワーの大
部分を作り出し、レンズが収差を補正するのに使用され
ている。これらの特許に開示された光学系は夫々、開口
数が0.25及び0.18である。
【0003】或る程度の小型化を図る為に、光路中に曲
面ミラー又は折曲げ用の平面ミラーを導入して、光路を
折曲げることがしばしば行われる。公知の光学系の多く
は、反射後の光路をケルことのないように、光学要素の
一部を欠損し、場合によっては偏心させる必要がある。
このような欠損レンズ要素を使用する場合の問題は、そ
の欠損レンズ要素を光軸にアライメントすることが極め
て難しくなり、かつ偏心等によって大きな収差や誤差が
生ずることである。更に、光学系の製造工程では、欠損
光学系はその表面の精度を維持する為に、非欠損光学要
素に比べて、かなりコストアップを招来する。また、欠
損光学要素の別の問題は、大パワー・レーザーの使用に
よって、光学要素が温度上昇して欠損光学要素に半径方
向に非対称な温度勾配が発生することであり、これによ
って光学系の性能がかなり低下する。
【0004】このような種々の設計上の問題は、光学系
の大開口数化の必要性が高まるにつれて、尚一層解決し
なければならない事項になって来ている。この為には大
径の反射光学要素が必要となり、これはコスト上昇及び
大型化を招来する。更に、大開口数と充分な作動距離
(バック焦点距離)との間での二者択一の対立が存在す
る。また、一般的に、視野絞り又は開口絞り用の空間を
作ることが難しい。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は大開口数(望ま
しくは0.45を越える開口数)の縮小投影光学系を提
供するもので、この光学系は欠損レンズ要素を必要とす
ることなく、ケラレのない光路を有し、かつ視野絞りや
開口絞りや迷光遮断板をアクセス可能な場所に設置する
ことができる。この光学系は複数のモジュールの形で構
成される。
【0006】要約すると、本発明による光学系は、第1
及び第2の縮小段を具備する。この第1の縮小段は、第
1のレンズ群と、第1のダブルパス成分群と、第1の凹
面ミラーと、第2のレンズ群とを有し、第2の縮小段
は、第2のダブルパス成分群と、第2の凹面ミラーと、
第3のレンズ群とを有する。光は、第1の凹面ミラーに
入射する前と入射した後に、第1ダブルパス成分群に夫
々入射する。同様に、光は、第2の凹面ミラーに入射す
る前と入射した後に、第2ダブルパス成分群に夫々入射
する。第1レンズ群と第1ダブルパス成分群と第1凹面
ミラーと第2レンズ群とは協働して、物体の中間縮小像
を中間像平面に形成する。また、第2ダブルパス成分群
と第2凹面ミラーと第3レンズ群は、更に縮小された像
を像平面に形成する。
【0007】いくつかの光学要素は、光路中の他の光学
要素の一部を切欠く、即ち欠損する必要性なく、折曲げ
用平面ミラーを光路中に導入できるように、構成されか
つ互いに協働している。欠損のない、即ち完全直径の光
学要素を使用すれば、アライメントが容易となり、これ
によって、偏心に起因する収差をできるだけ低減するこ
とができる。特定の実施例にあっては、第1の折曲げミ
ラーが第1レンズ群と第1ダブルパス成分群との間に導
入され、第2の折曲げミラーが第2のレンズ群と第2ダ
ブルパス成分群との間に導入される。
【0008】この実施例では第2レンズ群に関連する可
変開口絞りと、中間像近傍に視野絞りとを夫々光路中に
挿入する為の充分な間隙が存在する。この絞りの挿入に
よって、光強度を制御し、迷光を抑制することとができ
ると共に、開口数を上手に調整することができる。第1
のダブルパス成分群は特定の実施例では単一の正光学要
素であり、好ましくは第1凹面ミラーから離間され、こ
れによって第1ダブルパス成分群と第1凹面ミラーとの
組合せは、そのミラーの曲率を強くする必要性なしに、
その焦点距離をかなり短くすることができる。これによ
って、中間像までの光路を短くすることができる。本発
明は、比較的小径の光学要素を使用する実施例の構成に
適し、これによりコスト低減及び小型化を図ることがで
きる。本発明の本質及び種々の利点は、以下の説明及び
図面から更に明らかになるであろう。
【0009】
【実施例】図1は本発明による軸外の反射屈折型の縮小
光学系10の特定な実施例を示した光学図であり、この
縮小光学系の特徴は一本の共通の光軸を有する点であ
る。光学系10の基本的な機能は、物体平面12の軸外
のリング形状視野の縮小像を像平面15に形成すること
である。通常は、上述の物体平面にはレチクルが配置さ
れ、像平面には、ウエハ上のフォトレジスト層が位置
し、このフォトレジスト層にレチクルのパターンが転写
される。この光学系10は、光学要素20a〜20dを
有する第1のレンズ群20と、第1のダブルパス(複
路)成分群30(図示の実施例では単一光学要素)と、
第1の凹面ミラー40と、光学要素50a〜50fを有
する第2のレンズ群50と、光学要素60a〜60cを
有する第2のダブルパス成分群60と、第2の凹面ミラ
ー70と、光学要素80a〜80dを有する第3のレン
ズ群80とを含む。この実施例にあっては、、上述のす
べての要素は、その中心が光軸上にあり、また上述の凹
面ミラーは表面ミラーである。表1は本光学系の構成パ
ラメータを示している。
【0010】本明細書で使用されている用語「ミラー」
は、一枚以上の完全な又は部分的な反射性表面を有する
任意の光学要素を含むものである。また、本明細書で使
用されている用語「レンズ」は、広く使用されている屈
折作用に基づく光学要素に加えて、回折作用に基づく光
学要素を含むものである。ダブルパス成分群の各々は、
上述のミラーの一方に関連し、光はそのダブルパス成分
群を二度通過する。即ち、一度目はその関連するミラー
に向う途中で通過し、二度目はその関連するミラーから
離れる途中で通過する。第1のレンズ群20と第1のダ
ブルパス成分群30との間の光路中には、第1の折曲げ
用平面ミラー85が介在されている。また、第2レンズ
群50と第2ダブルパス成分群60との間の光路中には
第2の折曲げ用平面ミラー87が介在されている。これ
らの折曲げ用ミラー85,87は、光学系を小型化した
い場合に必要であり、本発明の重要な利点の一つは、レ
ンズ要素の端部を欠損する必要なしに、折曲げ用のミラ
ーを配置できることである。
【0011】次に作用を述べると、物体平面12の一点
からの光は、第1レンズ群20及び第1ダブルパス成分
群30を通って、第1凹面ミラー40に入射し、再び第
1ダブルパス成分群30を通って、第2レンズ群50に
入射する。これらの系20,30,40,50は、第1
の縮小段として互いに協働して像領域90に中間縮小像
(これは必ずしも充分に合焦されていない)を形成す
る。この像領域90には視野絞り92を配置することが
好ましい。像領域90からの光は、第2ダブルパス成分
群60を通って第2凹面ミラー70に入射し、再び第2
ダブルパス成分群60を通って第3レンズ群80に入射
する。これらの系60,70,80は、第2の縮小段と
して互いに協働し、更に縮小された像を像平面15に形
成する。
【0012】第1レンズ群20は、パワーの弱い群(本
実施例では正である)であり、光線の発散を低減して、
これによって、第1凹面ミラー40を一層小型化する。
第1レンズ群20はまた、第1凹面ミラー40から物体
平面までの見かけ上の距離を増加させ、これにより第1
凹面ミラー40から中間像までの距離を低減させる。ま
た、第1レンズ群20は、一様照明を充分に実現するよ
うに物体側空間のテレセントリック性を制御する。第1
レンズ群20は更に、光線を光軸からずらし、これは、
光線が第1ダブルパス成分群30を最初に通過する時の
光路と2度目に通過する時の光路とをはっきりと分離す
るのに寄与する。こうして、第1凹面ミラー40からの
反射光を妨げることなく、第1折曲げ用ミラー85を光
路中に導入することが可能となり、また第2レンズ群5
0の所に開口絞り95用の設置空間を形成することがで
きる。最新の研究によると、開口数はレチクル内のター
ゲットの大きさに応じて変更することが望ましいことが
判明した。公知の光学系では、開口絞りは大径のミラー
の所又はその近傍位置に配置されるので、複雑かつ大き
な機構となっていた。これに対して、本発明は、開口絞
りを比較的小型化でき、かつその開口絞りを外部から容
易にアクセス可能な場所に設置することができる利点を
有する。
【0013】第1ダブルパス成分群30は、中位の正の
パワーを有しているが、凹面ミラー40から離間してい
るので、凹面ミラー40のパワーを小さくすることがで
きる。これによって、凹面ミラー40のアライメントの
重要性は低下する。即ち、ミラーはそのパワーが大きい
程、そのアライメント誤差によって収差が大きくなるの
で、凹面ミラー40パワーの低減はアライメント精度の
重要性を低下させる。また、二つの正の光学要素30,
40は分離しているので、その焦点距離は、両者が互い
に近接している場合よりも短くなる。このような両光学
要素30,40の焦点距離の減小によって、中間像まで
の距離が短くなる。ダブルパス成分群30はまた、ミラ
ー40に入射する光線の入射高さを低減するので、ミラ
ー40を小径化することができる。ダブルパス成分群3
0として、正のものを使用することによって上述した種
々の利点が得られるが、負の群を使用することもでき
る。この場合、上述の種々の利点のうちのいくつかは失
われるが、しかしながら開口数が小さい光学系にあって
はそれは重大な問題とはならないであろう。
【0014】第2レンズ群50は、第2ダブルパス成分
群60によってその下流側に生ずる収差をバランス、又
は相殺する。第2レンズ群50の中の最後の要素(50
f)、は、両表面が強くカーブした低パワー要素である
ので、光線を光軸から離れる方向に曲げる。これは、光
線が第2ダブルパス成分群60を最初に通過する時の光
路と2度目に通過する時の光路とをはっきりと分離する
のに寄与する。このような分離によって、第2の折曲げ
用ミラー87を光路中に導入することが可能となる。レ
ンズ群50は本実施例では正であるが、負の群(多分、
強い凹面ミラーと組合わされる)を使用した場合にも、
大きな開口数を除き、上述の利点のすべて又はその大部
分を得ることができる。
【0015】第2ダブルパス成分群60は、第2凹面ミ
ラー70への光線入射高さを低減するので、第2凹面ミ
ラー70として小径のものを使用することができる。更
に、上記正群は、ミラー70から離間しているので、そ
のミラーのパワーを低減することができ、これにより、
上述の第1ダブルパス成分群及び凹面ミラーの場合と同
一の利点が得られる。
【0016】第3レンズ群80は、最終的な結合作用を
行い、像平面15に縮小像を作る。この目的の為に、第
3レンズ群80は、高次の収差を導入することなく、高
パワーを発生する為にアプラナティック面で作られてい
る。もちろん、第2ダブルパス成分群60の要素60a
及び60bは、レンズ群80と協働して、最終結合作用
を行い、全体のパワーに寄与し、こうして第3レンズ群
80の強い曲率に対する要求を緩和する。このように、
要素60a及び60bは、第3レンズ群80に必要とさ
れるパワーを低減するものであるが、更にバック焦点距
離を増大して要素80dとウエハ表面との間の作動距離
を増大するといった有益な効果を奏する。この作動距離
は、アライメント装置や焦点検出装置などの検査装置を
設置できるように、できるだけ大きい(例えば、20mm
のオーダー)方が好ましい。第2ダブルパス成分群と組
合わせて用いられる第3レンズ群の構成は像平面でテレ
セントリック性を呈するように選択される。これの主な
利点は、像平面の位置が変化してもディストーションが
変化しないことである。
【0017】図2A及びBは、開口絞り95における光
線直径の関数として25mmのリング直径での光線収差
(ray aberration)をプロットで示した
ものである。ここにおいて、リング直径は像平面での直
径である。実線は単色収差を示し、破線は色収差(△λ
=0.4nm)を示している。図2Aはタンジェンシャル
(又はメリジオナル)像平面の収差を示し、他方、図2
Bはサジタル像平面の収差を示している。図から分かる
ように、単色収差はもちろんのこと、色収差も充分に補
正されている。
【0018】図3は像平面での光軸からの半径方向距離
の関数として焦点位置をプロットしたもので、物体平面
の光軸上の点からの光は、像平面内の焦点位置ゼロの光
軸上に焦点を結ぶものとする。実線はサジタル・像面湾
曲(sagittal field curvatur
e)を表し、破線はタンジェンシャル像面湾曲を表して
いる。重要な領域は、光軸から約25mmの環状の領域で
あり、図から分かるように焦点のずれは両方向に対して
本質的に同一であり、上述の重要領域において、本質的
に一定である。図4は像平面において光軸からの半径方
向距離の関数としてディストーションをプロットしたも
ので、図から分かるように、ディストーションは光軸上
でゼロであり、非ゼロ、即ちゼロ以外の半径で最大値を
とり、重要領域でゼロに近づく。
【0019】本発明の光学系は、性能上の利点に加え
て、互いに分離したサブ・アッセンブリとして組立て
て、テストすることができるという利点を有する。詳述
すると、第1レンズ群20は第1モジュールとして組立
てることができ、また平面ミラー85と第1ダブルパス
成分群30と第1凹面ミラー40と第2レンズ群50と
は、第2モジュールとして組立てることができ、平面ミ
ラー87と第2ダブルパス成分群60と第2凹面ミラー
70と第3レンズ群80とは、第3モジュールとして組
立てることができる。各モジュールは個々にアライメン
トされてテストされた後に、これらの三つのモジュール
が組立てられ、アライメントされてテストされる。以上
の説明から分かるように、本発明は、構成を複雑化する
ことなく、高性能を達成するという設計思想を提供し、
それを実施するものである。二つのダブルパス成分群を
他の成分に組合わせることによって、設計上の自由度が
高まり、大きな開口数と大きな視野が得られる。以上で
は本発明の特定の実施例を詳細に説明したが、種々の代
替構成や変更例や均等物が使用できるであろう。例えば
上述の特別の光学系は縮小比が4倍(倍率=0.25で
あり、マイクロリソグラフィーの分野に適した値である
が、本発明の設計思想はその他の縮小比であってもよ
い。
【0020】同様に、本発明は非常に大きな開口数(特
定の実施例では0.52)を達成することができるが、
このような大きな値を必要としない分野も存在するであ
ろう。このような場合には、高開口数の要求を緩和する
ことによって、視野をもっと大きくし、かつ性能を高め
ることができるであろう。換言すると、本発明の特徴で
ある入射光線と出射光線との間のクリアランス、即ち間
隙によって開口数と視野サイズとの間のトレード・オフ
が解決される。
【0021】更に、凹面ミラー40及び70は上述の実
施例では表面ミラーであったが、これらの凹面ミラー4
0及び70の一方又は両方を裏面ミラーとして構成する
こともでき、この場合には夫々のダブルパス成分群3
0,60の一部と一体化することもできる。この一体化
の場合、光学要素を互いに離間したときの利点の代り
に、アライメントしなければならない光学要素の数が減
少するといった利点が生まれる。
【0022】更に、上述の実施例は、波長が193nm
の時に、最適化されるものであったが、本発明は他の波
長にも適用することができる。また、波長が異なると、
硝材の屈折率も多少異なることは言うまでもないが、し
かし、幾何学的パラメータはこれに対応して容易に変更
することができるであろう。従って、上述の説明は、特
許請求の範囲によって規定される本発明の範囲を何ら限
定するものではない。
【表1】 半径 間隔 ガラス 12 153.00 20a −173.46 34.94 融解石英 −583.83 1.32 20b −612.37 33.81 融解石英 9348.44 52.67 20c −428.30 40.93 フッ化カルシウム −272.31 0.07 20d −4463.59 84.98 フッ化カルシウム −307.47 366.93 85 −60.00 ミラー 30 1564.95 −35.09 融解石英 763.73 −349.21 40 1068.80 349.21 ミラー 30 763.73 35.09 融解石英 1564.95 5.50 95 10.03 開口絞り 50a −166.48 22.01 融解石英 123.58 6.67 50b 433.27 16.77 フッ化カルシウム −194.82 0.53 50c 130.16 42.24 フッ化カルシウム −147.54 2.90 50d −123.86 13.90 融解石英 126.71 0.06 50e 126.80 42.92 フッ化カルシウム −122.03 5.95 50f 152.27 39.66 融解石英 93.10 248.96 87 0.00 ミラー 60a 1697.31 −42.98 フッ化カルシウム 234.64 −0.03 60b −977.41 −32.13 フッ化カルシウム 712.21 −299.77 60c 292.38 −22.46 フッ化カルシウム −41452.45 −159.75 70 545.98 159.75 ミラー 60c −41452.45 22.46 フッ化カルシウム 292.38 299.77 60b 712.21 32.13 フッ化カルシウム −977.41 0.03 60a 234.64 42.98 フッ化カルシウム 1697.31 35.00 80a 89.94 30.38 融解石英 64.79 1.94 80b 67.58 41.81 フッ化カルシウム 238.06 0.06 80c 119.03 7.03 融解石英 49.97 1.97 80d 48.60 24.19 フッ化カルシウム 371.17 15 20.59 像 NA=0.52 縮小率=0.25×
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による投影光学系を示した光学的概略図
【図2】Aは図1の平面での光線収差曲線を示す収差図
Bは図1の平面に垂直な光線収差曲線を示す収差図
【図3】像直径の全体におけるアスティグマティック補
正のプロット曲線を示した図
【図4】像直径の全体におけるディストーションのプロ
ット曲線を示した図
【符号の説明】
12 物体平面 15 像平面 20 第1のレンズ群 30 第1のダブルパス成分群 40 第1の凹面ミラー 50 第2のレンズ群 60 第2のダブルパス成分群 70 第2の凹面ミラー 80 第3のレンズ群 90 中間像平面

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】物体の縮小像を作る反射屈折型の縮小投影
    光学系において、 第1のレンズ群と、 第1のダブルパス成分群と、 第1の凹面ミラーと、 第2のレンズ群と、 第2のダブルパス成分群と、 第2の凹面ミラーと、 第3のレンズ群と、 を前記物体側からの光路順に具備し、 前記第1ダブルパス成分群は、前記第1凹面ミラーに入
    射した後の光が自身に再度入射するように配置され、 前記第1レンズ群と前記第1ダブルパス成分群と前記第
    1凹面ミラーと前記第2レンズ群とは、縮小された大き
    さの中間像を中間像平面に形成し、 前記第2ダブルパス成分群は、前記第2凹面ミラーに入
    射した後の光が自身に再度入射するように配置され、 前記第2ダブルパス成分群と前記第2凹面ミラーと前記
    第3レンズ群とは、更に縮小された大きさの像を像平面
    に形成することを特徴とする光学系。
  2. 【請求項2】前記第2レンズ群の近傍にて光軸を中心と
    して配置された可変開口絞りを更に具備することを特徴
    とする請求項1に記載の光学系。
  3. 【請求項3】前記第1レンズ群と前記第1ダブルパス成
    分群との間に配置された折曲げ用ミラーを更に具備する
    ことを特徴とする請求項1に記載の光学系。
  4. 【請求項4】前記第2レンズ群と前記第2ダブルパス成
    分群との間に配置された折曲げ用ミラーを更に具備する
    ことを特徴とする請求項1に記載の光学系。
  5. 【請求項5】前記中間像平面の近傍に配置された視野絞
    りを更に具備することを特徴とする請求項1に記載の光
    学系。
  6. 【請求項6】前記第1ダブルパス成分群は正であり、前
    記第1凹面ミラーは前記第1ダブルパス成分群から空間
    的に分離されていることを特徴とする請求項1に記載の
    光学系。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005183982A (ja) * 2003-12-18 2005-07-07 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP2007013179A (ja) * 2005-07-01 2007-01-18 Carl Zeiss Smt Ag リソグラフィ投影対物レンズの補正方法およびリソグラフィ投影対物レンズ

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5668673A (en) * 1991-08-05 1997-09-16 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system
US5592329A (en) * 1993-02-03 1997-01-07 Nikon Corporation Catadioptric optical system
JP3747958B2 (ja) * 1995-04-07 2006-02-22 株式会社ニコン 反射屈折光学系
JPH09311278A (ja) 1996-05-20 1997-12-02 Nikon Corp 反射屈折光学系
US6157497A (en) * 1993-06-30 2000-12-05 Nikon Corporation Exposure apparatus
US5499139A (en) * 1993-10-01 1996-03-12 Hughes Aircraft Company Ultra-wide field of view, broad spectral band helmet visor display optical system
JP3395801B2 (ja) * 1994-04-28 2003-04-14 株式会社ニコン 反射屈折投影光学系、走査型投影露光装置、及び走査投影露光方法
US5559629A (en) * 1994-08-19 1996-09-24 Tamarack Scientific Co., Inc. Unit magnification projection system and method
USRE38438E1 (en) 1994-08-23 2004-02-24 Nikon Corporation Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same
JPH08179204A (ja) 1994-11-10 1996-07-12 Nikon Corp 投影光学系及び投影露光装置
JP3454390B2 (ja) 1995-01-06 2003-10-06 株式会社ニコン 投影光学系、投影露光装置及び投影露光方法
JPH08203812A (ja) * 1995-01-30 1996-08-09 Nikon Corp 反射屈折縮小投影光学系及び露光装置
US6512631B2 (en) * 1996-07-22 2003-01-28 Kla-Tencor Corporation Broad-band deep ultraviolet/vacuum ultraviolet catadioptric imaging system
US6157498A (en) * 1996-06-19 2000-12-05 Nikon Corporation Dual-imaging optical system
US6631036B2 (en) 1996-09-26 2003-10-07 Carl-Zeiss-Stiftung Catadioptric objective
USRE42570E1 (en) 1996-09-26 2011-07-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric objective
US6169627B1 (en) * 1996-09-26 2001-01-02 Carl-Zeiss-Stiftung Catadioptric microlithographic reduction objective
US6097537A (en) * 1998-04-07 2000-08-01 Nikon Corporation Catadioptric optical system
US5986824A (en) * 1998-06-04 1999-11-16 Nikon Corporation Large NA projection lens system with aplanatic lens element for excimer laser lithography
DE69933973T2 (de) * 1998-07-29 2007-06-28 Carl Zeiss Smt Ag Katadioptrisches optisches system und damit ausgestattete belichtungsvorrichtung
US6995930B2 (en) * 1999-12-29 2006-02-07 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective with geometric beam splitting
TW538256B (en) 2000-01-14 2003-06-21 Zeiss Stiftung Microlithographic reduction projection catadioptric objective
WO2002044786A2 (en) * 2000-11-28 2002-06-06 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection system for 157 nm lithography
EP1118910B1 (en) * 2000-01-20 2007-06-20 ASML Netherlands B.V. Microlithography projection apparatus
US6842298B1 (en) 2000-09-12 2005-01-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Broad band DUV, VUV long-working distance catadioptric imaging system
US7136234B2 (en) * 2000-09-12 2006-11-14 Kla-Tencor Technologies Corporation Broad band DUV, VUV long-working distance catadioptric imaging system
US7136159B2 (en) * 2000-09-12 2006-11-14 Kla-Tencor Technologies Corporation Excimer laser inspection system
FR2818757B1 (fr) * 2000-12-22 2003-03-21 Cit Alcatel Architecture optique de telescope d'observation et en particulier pour observation de la terre a partir d'un satellite
US20040075894A1 (en) * 2001-12-10 2004-04-22 Shafer David R. Catadioptric reduction objective
US7639419B2 (en) * 2003-02-21 2009-12-29 Kla-Tencor Technologies, Inc. Inspection system using small catadioptric objective
US7672043B2 (en) * 2003-02-21 2010-03-02 Kla-Tencor Technologies Corporation Catadioptric imaging system exhibiting enhanced deep ultraviolet spectral bandwidth
US7646533B2 (en) * 2003-02-21 2010-01-12 Kla-Tencor Technologies Corporation Small ultra-high NA catadioptric objective
US7869121B2 (en) 2003-02-21 2011-01-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Small ultra-high NA catadioptric objective using aspheric surfaces
US7884998B2 (en) 2003-02-21 2011-02-08 Kla - Tencor Corporation Catadioptric microscope objective employing immersion liquid for use in broad band microscopy
US7180658B2 (en) * 2003-02-21 2007-02-20 Kla-Tencor Technologies Corporation High performance catadioptric imaging system
US6989936B2 (en) * 2003-03-07 2006-01-24 Canon Kabushiki Kaisha Variable power optical system
US7085075B2 (en) 2003-08-12 2006-08-01 Carl Zeiss Smt Ag Projection objectives including a plurality of mirrors with lenses ahead of mirror M3
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
US20080151364A1 (en) 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
KR20170129271A (ko) 2004-05-17 2017-11-24 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈
US20060026431A1 (en) * 2004-07-30 2006-02-02 Hitachi Global Storage Technologies B.V. Cryptographic letterheads
TW200801578A (en) * 2006-06-21 2008-01-01 Canon Kk Projection optical system
US8665536B2 (en) * 2007-06-19 2014-03-04 Kla-Tencor Corporation External beam delivery system for laser dark-field illumination in a catadioptric optical system
ES2397679T3 (es) * 2009-08-05 2013-03-08 Nordin, Harald E. Espiga dental
US11567309B2 (en) 2019-07-25 2023-01-31 Raytheon Company On-axis four mirror anastigmat telescope

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2585009A (en) * 1945-08-02 1952-02-12 Farnsworth Res Corp Concentric optical system
US2664026A (en) * 1949-11-03 1953-12-29 American Optical Corp Reflecting type image forming lens system
SU553569A1 (ru) * 1955-07-23 1977-04-05 Концентрический светосильный безаберрационный симметричный репродукционный зеркально-линзовый объектив дл фототелеграфных аппаратов
US3062101A (en) * 1959-05-29 1962-11-06 Perkin Elmer Corp Anastigmatic catoptric systems
US3455623A (en) * 1966-03-04 1969-07-15 Te Co The Optical objective forming an intermediate image and having primary and subsidiary conjugate focal planes
NL6701520A (ja) * 1967-02-01 1968-08-02
US3748015A (en) * 1971-06-21 1973-07-24 Perkin Elmer Corp Unit power imaging catoptric anastigmat
US3821763A (en) * 1971-06-21 1974-06-28 Perkin Elmer Corp Annular field optical imaging system
US3827778A (en) * 1971-12-13 1974-08-06 Hughes Aircraft Co Dual imaging concentric optics
US4293186A (en) * 1977-02-11 1981-10-06 The Perkin-Elmer Corporation Restricted off-axis field optical system
SU637772A1 (ru) * 1977-06-24 1978-12-15 Предприятие П/Я Р-6495 Проекционный объектив
US4241390A (en) * 1978-02-06 1980-12-23 The Perkin-Elmer Corporation System for illuminating an annular field
US4395095A (en) * 1981-05-20 1983-07-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Optical system for infrared tracking
US4469414A (en) * 1982-06-01 1984-09-04 The Perkin-Elmer Corporation Restrictive off-axis field optical system
US4812028A (en) * 1984-07-23 1989-03-14 Nikon Corporation Reflection type reduction projection optical system
US4701035A (en) * 1984-08-14 1987-10-20 Canon Kabushiki Kaisha Reflection optical system
US4779966A (en) * 1984-12-21 1988-10-25 The Perkin-Elmer Corporation Single mirror projection optical system
JPS61156737A (ja) * 1984-12-27 1986-07-16 Canon Inc 回路の製造方法及び露光装置
US4711535A (en) * 1985-05-10 1987-12-08 The Perkin-Elmer Corporation Ring field projection system
GB8612609D0 (en) * 1986-05-23 1986-07-02 Wynne C G Optical imaging systems
US4772107A (en) * 1986-11-05 1988-09-20 The Perkin-Elmer Corporation Wide angle lens with improved flat field characteristics
US4747678A (en) * 1986-12-17 1988-05-31 The Perkin-Elmer Corporation Optical relay system with magnification
US4953960A (en) * 1988-07-15 1990-09-04 Williamson David M Optical reduction system
US5114238A (en) * 1990-06-28 1992-05-19 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Infrared catadioptric zoom relay telescope

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005183982A (ja) * 2003-12-18 2005-07-07 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP2007013179A (ja) * 2005-07-01 2007-01-18 Carl Zeiss Smt Ag リソグラフィ投影対物レンズの補正方法およびリソグラフィ投影対物レンズ

Also Published As

Publication number Publication date
US5323263A (en) 1994-06-21

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