JP2006140470A - 放射システム、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及び、それらにより製造されたデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射を多重化するための放射システムは2つの放射副線源を含む。副線源は各々特定の量の放射を供給する。システムは反射面を備えた部材をさらに含む。面は、面が副線源からの放射を受光し、かつ、この放射を結合する形で配列されている。放射副線源は同時に、又は、交番して動作することができる。面は濾過又は拡大(縮小)などの機能を行なうことができる。
【選択図】図2
Description
1.ステップ・モードにおいて、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは基本的に静止に保たれる一方、放射のビームに与えられたパターン全体が1度に目標部分C上に投影される(すなわち、単一の静止露光)。続いて、基板テーブルWTはX及び/又はYの方向にずらされ、そのため、異なった目標部分Cを露光することができる。ステップ・モードにおいて、露光領域の最大サイズは単一の静止露光で画像形成される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいて、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期して走査される一方、放射のビームに与えられたパターンは目標部分C上に投影される(すなわち、単一の動的露光)。マスク・テーブルMTを基準とした基板テーブルWTの速度及び方向は投影システムPLの拡大(縮小)及び画像反転の特性により決定される。スキャン・モードにおいて、露光領域の最大サイズは単一の動的露光において目標部分の(非走査方向における)幅を制限するのに対し、走査の動きの長さは目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.他のモードにおいて、マスク・テーブルMTは基本的に静止に保たれ、プログラム可能なパターン形成デバイスを保持し、基板テーブルWTは、放射のビームに与えられたパターンが目標部分C上に投影される間、移動又は走査される。このモードにおいて、一般に、パルス化された線源が採用され、プログラム可能なパターン形成デバイスは基板テーブルWTの各移動の後、又は、走査中の連続した放射パルス間に必要に応じて更新される。このモードの動作は、上記に言及した如くのタイプのプログラム可能なミラー・アレイなどのプログラム可能なパターン形成デバイスを利用するマスクレス・リソグラフィに直ちに適用することができる。
PM、PW 位置決めデバイス
IF1、IF2 位置決めセンサ
IL 照明器
MA マスク
MT マスク・テーブル
PB 放射のビーム
PS 投影システム
SO 線源
W 基板
WT 基板テーブル
3、5 放射副線源
7、9 集光器
11、11a、11b、13、13a、13b、18、33、34 ビーム
17、19 反射面
21 光学系
31 開口
M1、M2 マスク位置合わせマーク
P1、P2 基板位置合わせマーク
PL 投影システム
15 部材
Claims (22)
- 放射を多重化するための放射システムであって、
放射を供給するように構成された第1の放射源と、
放射を供給するように構成された第2の放射源と、
第1の反射面及び第2の反射面を持つ光学部材を含み、
前記第1の反射面は第1の放射源から第1の量の放射を受光し、かつ、前記第1の量を反射するように構成され、前記第2の反射面は第2の放射源から第2の量の放射を受光し、かつ、前記第2の量を反射するように構成されている放射システム。 - 前記光学部材は円錐形又は多角形の断面を含む請求項1に記載の放射システム。
- 前記第1の反射面及び前記第2の反射面の少なくとも1つはそれぞれ前記第1の量及び前記第2の量にすれすれの入射に位置決めされている請求項1に記載の放射システム。
- 前記第1の放射源は前記第2の放射源と実質的に同時に動作するように構成されている請求項1に記載の放射システム。
- 前記第1の放射源は前記第2の放射源と交番して動作するように構成されている請求項1に記載の放射システム。
- 前記第1の放射源及び前記第2の放射源の少なくとも1つは放電プラズマ、Zピンチ放電プラズマ、放電生成プラズマ(DPP)、レーザ生成プラズマ(LPP)及び緻密プラズマ焦点、紫外(UV)放射源、極紫外(EUV)放射源、X線放射源、粒子ビームを発生する放射源、イオン・ビームを発生する放射源、又は、電子ビームを発生する放射源を含む請求項1に記載の放射システム。
- 前記第1の反射面及び前記第2の反射面の少なくとも1つはスペクトル純化フィルタ、表面コーティング、格子、特定の吸収、又は、回折構造を含む請求項1に記載の放射システム。
- 前記第1の反射面及び前記第2の反射面の少なくとも1つは湾曲されている請求項1に記載の放射システム。
- 前記さらなる第1の方向から前記第1の量を、及び、前記さらなる第2の方向から前記第2の量を受光するように構成された光学系をさらに含む請求項1に記載の放射システム。
- 前記光学系は積分器又はスクランブラを含む請求項9に記載の放射システム。
- 前記第1の量及び前記第2の量は互いに平行に反射される請求項10に記載の放射システム。
- リソグラフィ装置であって、
放射のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターン形成デバイスを支持するように構成された支持部であって、前記パターン形成デバイスは前記放射のビームの断面において前記放射のビームにパターンを与えるように構成されている支持部と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板の目標部分上に前記パターン形成されたビームを投影するように構成された投影システムと、
放射を多重化するための放射システムであって、
放射を供給するように構成された第1の放射源と、
放射を供給するように構成された第2の放射源と、
第1の反射面及び第2の反射面を備えた光学部材と、を含む放射システムを含み、
前記第1の反射面は前記第1の放射源から第1の量の放射を受光し、かつ、前記第1の量を反射するように構成され、並びに、前記第2の反射面は前記第2の放射源から第2の量の放射を受光し、かつ、前記第2の量を反射するように構成されているリソグラフィ装置。 - 前記光学部材は円錐形又は多角形の断面を含む請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の反射面及び前記第2の反射面の少なくとも1つはそれぞれ前記第1の量及び前記第2の量にすれすれの入射に位置決めされている請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の放射源は前記第2の放射源と実質的に同時に動作するように構成されている請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の放射源は前記第2の放射源と交番して動作するように構成されている請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の放射源及び前記第2の放射源の少なくとも1つは放電プラズマ、Zピンチ放電プラズマ、放電生成プラズマ(DPP)、レーザ生成プラズマ(LPP)及び緻密プラズマ焦点、紫外(UV)放射源、極紫外(EUV)放射源、X線放射源、粒子ビームを発生する放射源、イオン・ビームを発生する放射源、又は、電子ビームを発生する放射源を含む請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の反射面及び前記第2の反射面の少なくとも1つはスペクトル純化フィルタ、表面コーティング、格子、特定の吸収、又は、回折構造を含む請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の反射面及び前記第2の反射面の少なくとも1つは湾曲されている請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
第1の量の放射を供給する工程と
第2の量の放射を供給する工程と
前記第1の量の放射を反射する工程と、
前記第2の量の放射を反射する工程と、
による放射のビームを供給する工程と、
前記放射のビームの断面において前記放射のビームをパターンでパターン形成する工程と、
基板の目標部分上に前記パターン形成された放射のビームを投影する工程と、を含むデバイス製造方法。 - 請求項20に記載の方法により製造されたデバイス。
- 放射を多重化するための放射システムであって、
放射を供給するように構成された第1の放射源と、
放射を供給するように構成された第2の放射源と、
第1の反射面及び第2の反射面を備えた反射器構造体と、を含み、
前記第1の反射面は前記第1の放射源から第1の量の放射を受光するように構成され、並びに、前記第2の反射面は前記第2の放射源から第2の量の放射を受光し、かつ、前記第2の量を反射するように構成されている放射システム。
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