JP2005322904A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系、パターン形成装置を支持するように構成された支持体、基板テーブル及び投影システムを含む。さらに本リソグラフィ装置は、照明系にEUV放射を提供するための複数のEUV放射源、及び各EUV放射源からのEUV放射を放射の中間ビームに変換するように構成された分配手段を含む。放射の中間ビームは、ミラー表面によって分配手段から第1の方向に向けられる。分配手段は回転駆動式ミラー配列をさらに含み、その回転軸はミラー表面に対して非平行である。
【選択図】図2
Description
(1)ステップ・モードでは、投影ビームに与えられたパターン全体を1回でターゲット部分Cに投影する間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを本質的に静止した状態に保つ(すなわち、ただ1回の静止露光)。次に、異なるターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTをX及び/又はY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モードでは、ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを同期して走査する(すなわち、ただ1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの拡大(縮小)率、及び像の反転特性によって決まる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の(走査方向の)高さが決定される。
(3)他のモードでは、ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、プログラム可能なパターン形成装置を保持しながらマスク・テーブルMTを本質的に静止した状態に保ち、基板テーブルWTを移動又は走査させる。このモードでは、一般にパルス式の放射源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、又は走査中の連続する放射パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成装置が必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及した種類のプログラム可能ミラー・アレイなど、プログラム可能なパターン形成装置を利用するマスクレス・リソグラフィに簡単に適用することができる。
Claims (15)
- 放射ビームを提供するように構成された照明系と、
パターン形成装置を支持するように構成された支持体であって、前記パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターンの形成されたビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記照明系にEUV放射を提供するように構成された複数のEUV放射源と、
前記複数のEUV放射源のそれぞれからのEUV放射を、放射の中間ビームに変換するように構成された分配器であって、前記放射の中間ビームがミラー表面によって前記分配器から第1の方向に向けられ、前記分配器が前記ミラー表面に対して非平行な回転軸を有する回転駆動式ミラー配列を含む分配器とを含むリソグラフィ装置。 - 前記複数のEUV放射源がパルス式EUV放射源であり、複数のパルス式EUV放射源及び前記分配器が連続したパルスを第1の方向に提供するように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記複数のEUV放射源が、円形配列で配置されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記回転駆動式ミラー配列の回転軸が実質的に第1の方向に一致している請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記分配器が平坦なミラー組立体を含み、ミラー表面が回転軸と交差している請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記分配器が複数のミラー表面を有する回転ドラムを含み、前記ミラー表面のそれぞれが、前記複数のEUV放射源のうちの1つからのEUV放射を第1の方向に転換するように位置調整されている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記複数のミラー表面が、前記回転ドラムの回転軸から所定の距離に配置されている請求項6に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記ミラー表面が多層ミラーを含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記ミラー表面が斜入射ミラーを含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記EUV放射源のそれぞれに対して提供されるコレクタであって、EUV放射源からの放射を前記ミラー表面上の中間焦点に集めるように構成されたコレクタをさらに有する請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 基板を提供する段階と、
照明系を用いて放射ビームを提供する段階と、
パターン形成手段を用いて投影ビームの断面にパターンを与える段階と、
パターンの形成された放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する段階と、
複数のEUV放射源を用いて前記照明系にEUV放射を提供する段階と、
前記複数のEUV放射源のそれぞれからのEUV放射を、放射の中間ビームに分配する段階であって、前記放射の中間ビームを第1の方向に向ける段階と、
回転駆動式ミラー配列に配置されたミラー表面によって各EUV放射源からのEUV放射を分配する段階であって、前記回転駆動式ミラー配列が前記ミラー表面に対して非平行な回転軸を有する段階とを含むデバイス製造方法。 - 前記EUV放射源がパルス式EUV放射源であり、前記パルス式EUV放射源に同期させた前記回転駆動式ミラー配列を駆動して、連続したパルスを第1の方向に提供する段階をさらに含む請求項11に記載されたデバイス製造方法。
- 実質的に第1の方向に一致する回転軸を中心にして、前記回転駆動式ミラー配列を回転させる段階をさらに含む請求項12に記載されたデバイス製造方法。
- 各EUV放射源からのEUV放射を複数のミラー表面を有する回転ドラムによって分配する段階であって、前記ミラー表面のそれぞれが前記複数のEUV放射源のうちの1つからのEUV放射を第1の方向に転換する段階をさらに含む請求項11に記載されたデバイス製造方法。
- 各EUV放射源からの放射を前記ミラー表面上の中間焦点に集束させる段階をさらに含む請求項11に記載されたデバイス製造方法。
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