CN104656380B - 一种曝光装置和光路控制装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种曝光装置及光路控制装置。所述曝光装置用于对位于不同曝光区的至少两个待曝光产品进行同时曝光，所述曝光装置包括：光发生组件，用于生成第一光线；光路控制单元，与掩膜版配合，利用所述第一光线产生投射到所述至少两个待曝光产品的待曝光区域的第二光线。所述光路控制装置用于曝光装置，包括所述光路控制单元。

Description

一种曝光装置和光路控制装置

技术领域

本发明涉及液晶显示产品技术领域，尤其涉及一种曝光装置和光路控制装置。

背景技术

曝光装置是生产显示器的过程中会使用到的重要装置。现有技术的曝光装置大多存在两个基台，曝光时，待曝光产品从一个基台被输送到另一个基台，在所述另一个基台上进行曝光。这样，光源照射一次，只能曝光一个待曝光产品，同一时间只能对一个基台上的待曝光产品进行曝光，效率低。如今随着显示器的市场需求量的增加，提高待曝光产品的曝光效率、提高曝光产品的生产效率变得尤为重要。

发明内容

有鉴于此，本申请提供一种曝光装置和光路控制装置，能够提高待曝光产品的曝光效率，提高生产率。

基于上述目的本发明提供的一种曝光装置，所述曝光装置用于对位于不同曝光区的至少两个待曝光产品进行同时曝光，所述曝光装置包括：

光发生组件，用于生成第一光线；

光路控制单元，与掩膜版配合，利用所述第一光线产生投射到所述至少两个待曝光产品的待曝光区域的第二光线。

可选的，所述光路控制单元具体包括：

第一反射镜：用于对所述光发生组件产生的第一光线进行分离，生成第二子光线；

第二反射镜：用于将所述第二子光线反射到设定方向，生成投射到所述至少两个待曝光产品的待曝光区域的第二光线；

所述设定方向为投射到待曝光区域的方向。

可选的，所述第一反射镜为半透半反射镜。

可选的，当所述待曝光区域为两个时，所述半透半反射镜设置于其透射面与第一光线的投射方向呈第一角度的位置，其反射第一光线形成的第二子光线用于生成投射到一个待曝光区域的第二光线，其透射第一光线形成的第二子光线用于生成投射到另一个待曝光区域的第二光线；

所述第二反射镜至少包括第一平面镜，设置在于所述半透半反射镜平行的位置，用于将所述半透半反射镜所反射所述第一光线生成的第二子光线反射到所述设定方向，形成投射到所述一个待曝光区域的第二光线；

所述第一角度大于0°且小于90°。

可选的，所述第二反射镜还包括第二平面镜、第三平面镜；

所述第二平面镜设置于与所述半透半反射镜的透射面呈第二角度的位置，用于将所述半透半反射镜透射所述第一光线生成的第二子光线反射；

所述第三平面镜设置于与所述第二平面镜平行的位置，用于将所述第二平面镜反射的光线进行反射，形成所述投射到另一个待曝光区域的第二光线；

所述第二角度大于45°且小于135°。

可选的，所述第一反射镜为平面镜。

可选的，当所述待曝光区域为两个时，所述第一反射镜用于将所述光发生组件产生的第一光线分成两部分；所述第一反射镜包括第四平面镜和第五平面镜；所述第二反射镜包括第六平面镜和第七平面镜；

所述第四平面镜和第五平面镜的背面与第一光线的投射方向的夹角为第三角度，用于将所述光发生组件产生的第一光线平均分成两部分第二子光线，并同时使得这两部分光线照射方向改变第四角度；

所述第六平面镜和第七平面镜分别设置在与所述第四平面镜和第五平面镜平行的位置，分别用于将所述第四平面镜和第五平面镜反射的光线反射到所述设定方向，形成用于投射到所述两个待曝光区域的第二光线；

所述第三角度大于0°且小于90°；所述第四角度为第三角度的余角的二倍。

可选的，所述装置的掩膜版设置于光路控制单元和待曝光产品之间，所述第二光线经过所述掩膜版投射到待曝光产品；

或，所述掩膜版设置于光发生组件中，光发生组件中的光源产生的光线经过光路调整组件、掩膜版形成所述第一光线。

同时，本发明提供一种光路控制装置，用于曝光装置，包括本发明任意一项实施例所提供的光路控制单元。

从上面所述可以看出，本发明提供的曝光装置及光路控制装置，能够将光源发出的光线在投射到待曝光区域之前将光线分成至少两部分，从而能够同时将至少两个待曝光产品进行曝光，提高了曝光效率。同时，本发明实施例采用简单的光学部件实现光路控制单元的光路控制功能，具有成本低、制造简单的有益效果。

附图说明

图1为本发明一种实施例的曝光装置示意图；

图2为本发明另一实施例的第一反射镜示意图；

图3为本发明另一实施例的光路控制单元结构示意图；

图4为本发明又一实施例的光路控制单元示意图。

具体实施方式

为了给出有效的实现方案，本发明提供了下述实施例，以下结合说明书附图对本发明实施例进行说明。

本发明首先提供一种曝光装置，结构如图1所示，所述曝光装置用于对位于不同曝光区的至少两个待曝光产品进行同时曝光，所述曝光装置包括：

光发生组件101，用于生成第一光线；

光路控制单元102，与掩膜版1016配合，利用所述第一光线产生投射到所述至少两个待曝光产品的待曝光区域103、104的第二光线。图1中箭头方向为光发生组件投射来的光线方向。

从上面所述可以看出，本发明所提供的曝光装置，具备光路控制单元102，能够将第一光线分成至少两部分，投射到至少两个待曝光区域，使得位于所述至少两个待曝光区域的待曝光产品得到曝光，从而在产生一次所述第一光线之后，能够曝光至少两个待曝光产品，使得曝光率得到提高，生产率也能够提高至少两倍。

在本发明具体实施例中，所述发光组件101可以是一个单独的光源，也可以包括必要的光汇聚、扩散、简单光路改变单元等。

在本发明具体实施例中，所述光路控制单元102可以是反射镜组合、透视镜组合或者透视镜与反射镜的组合。例如，如图2所示，所述光路控制单元102可以包括两个相同的反射镜，这两个反射镜在边缘处相互连接，且这两个反射镜的平面呈一定夹角，反射面朝向光照射来的方向，将该光路控制单元设置在合适的位置，使得发光组件101发射的光照射到该光路控制单元时，能够分成两部分，照射到不同方向，从而最终投射到两个不同的待曝光区域。

在本发明一些实施例中，仍然参照图1，所述光路控制单元102具体包括：

第一反射镜：用于对所述光发生组件产生的第一光线进行分离，生成第二子光线；

第二反射镜：用于将所述第二子光线反射到设定方向，生成投射到所述至少两个待曝光产品的待曝光区域的第二光线。

在本发明具体实施例中，第一反射镜可以是单独的反射镜或反射镜的组合，也可以是透视镜和反射镜的组合。

在本发明具体实施例中，第二反射镜为单独的反射镜或反射镜的组合。

在本发明一些实施例中，所述第一反射镜为半透半反射镜1021。采用半透半反射镜1021将光发生组件101所产生的光中的一半透射过去，另一半反射使其光路改变，形成两部分子光线，采用必要的光路方向调整部件，例如平面镜，将所述两部分子光线的光路调整到恰好能够照射到待曝光区域，形成第二光线。

采用半透半反射镜作为第一反射镜，可以简化光路设计，同时能够使得光发生组件产生的第一光线分成两部分，从而能够产生投射到至少两个待曝光区域的光线，使得曝光率提高至少一倍。

在本发明其它实施例中，可以将半透半反射镜透射的光线和反射的光线分别再采用半透半反射镜或者反射镜组合使其再分成两部分，从而使得更多的待曝光产品能够同时曝光。

在本发明一些实施例中，仍然参照图1，当所述待曝光区域为两个时，所述半透半反射镜设置于其透射面与所述第一光线的投射方向呈第一角度的位置，其反射第一光线形成的第二子光线用于生成投射到一个待曝光区域的第二光线，其透射第一光线形成的第二子光线用于生成投射到另一个待曝光区域的第二光线；

所述第二反射镜至少包括第一平面镜1022，设置在于所述半透半反射镜平行的位置，用于将所述半透半反射镜所反射所述第一光线生成的第二子光线反射到所述设定方向，形成投射到所述一个待曝光区域的第二光线；

所述第一角度大于0°且小于90°。

为了避免第一反射镜将光发生组件发生的光反射回第一光线投射的反方向或者因其透射面或反射面的设置方向与第一光线平行而无法透射或反射第一光线，因此所述半透半反射镜与第一光线的投射方向之间的夹角应当为上市第一角度。

在本发明具体实施例中，由于第一光线经过半透半反射镜透射之后的光线投射方向与第一光线的投射方向相同，因此，可以不再设置反射镜改变其投射方向。但是在一些情况下为了适应整个曝光设备的尺寸，可以将半透半反射镜透射的那一部分光线通过平面镜改变投射方向。

基于上述理由，在本发明一些实施例中，所述第二反射镜还包括第二平面镜1023、第三平面镜1024；

所述第二平面镜1023设置于与所述半透半反射镜的透射面呈第二角度的位置，用于将所述半透半反射镜透射所述第一光线生成的第二子光线反射；

所述第三平面镜1024设置于与所述第二平面镜1023平行的位置，用于将所述第二平面镜1023反射的光线进行反射，形成所述投射到另一个待曝光区域的第二光线；

所述第二角度大于45°且小于135°。

根据所述半透半反射镜1021的设置角度，第二平面镜1023的设置方向应当与所述半透半反射镜1021的透射面呈第二角度，以避免第二平面镜1023将半透半反射镜1021透射的光线按照投射方向反射回去，以及第二平面镜1023的反射面与半透半反射镜1021的透射光线投射方向平行而无法反射。

在本发明一些实施例中，所述第一反射镜为平面镜。

在本发明具体实施例中，所述第一反射镜也可以是如图2所示的平面镜的组合。这些平面镜组合中的平面镜朝向光发生组件发生的光照射来的方向，并且其中每个平面镜将照射到该平面镜上的光线投射角度改变一定角度，每两个平面镜对光线投射角度的改变情况均不相同，从而这些平面镜反射的光线能够产生投射到不同待曝光区域的第二光线。图2中箭头方向为光发生组件投射来的光线方向。

在本发明一些实施例中，参照图3，当所述待曝光区域为两个时，所述第一反射镜用于将所述光发生组件产生的第一光线分成两部分；所述第一反射镜包括第四平面镜1025和第五平面镜1026；所述第二反射镜包括第六平面镜1027和第七平面镜1028；

所述第四平面镜1025和第五平面镜1026的背面与第一光线的投射方向的夹角为第三角度，用于将所述光发生组件产生的第一光线平均分成两部分第二子光线，并同时使得这两部分光线照射方向改变第四角度；

所述第六平面镜1027和第七平面镜1028分别设置在与所述第四平面镜和第五平面镜平行的位置，分别用于将所述第四平面镜1025和第五平面镜1026反射的光线反射到所述设定方向，形成用于投射到所述两个待曝光区域的第二光线；

所述第三角度大于0°且小于90°；所述第四角度为第三角度的余角的二倍。图3中箭头方向为光发生组件投射来的光线方向。

在本发明具体实施例中，当第一反射镜为平面镜组合时，其设置方式还可以如图4所示，第四平面镜4025和第五平面镜4026设置在恰当的位置从而光发生组件产生的第一光线能够等量地投射到第四平面镜4025和第五平面镜4026上，同时还有等量的光线从第四平面镜4025和第五平面镜4026之间穿过，从而第一光线被分成等量的三份。第二反射镜包括第六平面镜4027和第七平面镜4028，通过与第四平面镜4025平行相对设置的第六平面镜4027将第四平面镜4025反射的光投射到第一待曝光区域，通过与第五平面镜4026平行相对设置的第七平面镜4028将第五平面镜4026反射的光投射到第二待曝光区域，从第四平面镜4025和第五平面镜4026之间的空隙中穿过的光线投射到第三待曝光区域，从而能够对至少三个待曝光产品进行曝光。图4中箭头方向为光发生组件投射来的光线方向。

在本发明一些实施例中，所述装置的掩膜版设置于光路控制单元和待曝光产品之间，所述第二光线经过所述掩膜版投射到待曝光产品；

或，所述掩膜版设置于光发生组件中，光发生组件中的光源产生的光线经过光路调整组件、掩膜版形成所述第一光线。

在现有技术的一种曝光装置中，包括光源、近光源平面镜、蝇眼、凹面镜、远光源平面镜、掩膜版，其中，光源发出的光线经过近光源平面镜、蝇眼、凹面镜、远光源平面镜、掩膜版，投射到待曝光区域。近光源平面镜、蝇眼、凹面镜、远光源平面镜用于对光源发射出的光进行平均化处理、扩散到设定面积、改变光线投射方向。

仍然参照图1，在本发明一种具体实施例中，所述光发生组件101包括光源1011、近光源平面镜1012、蝇眼1013、凹面镜1014、远光源平面镜1015、掩膜版1016，在掩膜版1016之后，设置光路控制单元102。

在本发明另外的具体实施例中，当光源发出的光线在投射到待曝光区域之前依次经过近光源平面镜、蝇眼、凹面镜、远光源平面镜、掩膜版时，所述光路控制单元可以设置在光源之后、掩膜版之前的任意两个部件之间，例如，光路控制单元可以设置在光源之后，光源发出的第一光线经过光路控制单元分成至少两部分第二光线，这至少两部分第二光线再经过各自的近光源平面镜、蝇眼、凹面镜、远光源平面镜、掩膜版投射到待曝光区域。在一般状况下，当光路控制单元之后还需设置必要的光学部件(如掩膜版)时，光路控制单元之后的部件的设置套数应当与待曝光区域对应；例如，光路控制单元设置在蝇眼之后，那么光源、近光源平面镜、蝇眼只需要设置一套，若光线经过光路控制单元被分成两部分，那么光路控制单元之后的凹面镜、远光源平面镜、掩膜版则需分别设置两个。图1所示的实施例，是精简部件的最佳设置方式。

进一步，本发明还提供一种光路控制装置，用于曝光装置，包括本发明任意一项实施例所提供的光路控制单元。

从上面所述可以看出，本发明提供的曝光装置及光路控制装置，能够将光源发出的光线在投射到待曝光区域之前将光线分成至少两部分，从而能够同时将至少两个待曝光产品进行曝光，提高了曝光效率。同时，本发明实施例采用简单的光学部件实现光路控制单元的光路控制功能，具有成本低、制造简单的有益效果。

应当理解，本说明书所描述的多个实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (3)

1.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置用于对位于不同曝光区的至少两个待曝光产品进行同时曝光，所述曝光装置包括：

光发生组件，用于生成第一光线；

光路控制单元，与掩膜版配合，利用所述第一光线产生投射到所述至少两个待曝光产品的待曝光区域的第二光线；

所述光路控制单元具体包括：

第一反射镜：用于对所述光发生组件产生的第一光线进行分离，生成第二子光线；

第二反射镜：用于将所述第二子光线反射到设定方向，生成投射到所述至少两个待曝光产品的待曝光区域的第二光线；

所述设定方向为投射到待曝光区域的方向；

所述第一反射镜为半透半反射镜；

所述待曝光区域为两个，所述半透半反射镜设置于其透射面与第一光线的投射方向呈第一角度的位置，其反射第一光线形成的第二子光线用于生成投射到一个待曝光区域的第二光线，其透射第一光线形成的第二子光线用于生成投射到另一个待曝光区域的第二光线；

所述第二反射镜至少包括第一平面镜，设置在于所述半透半反射镜平行的位置，用于将所述半透半反射镜所反射所述第一光线生成的第二子光线反射到所述设定方向，形成投射到所述一个待曝光区域的第二光线；

所述第一角度大于0°且小于90°；

所述第二反射镜还包括第二平面镜、第三平面镜；

所述第二平面镜设置于与所述半透半反射镜的透射面呈第二角度的位置，用于将所述半透半反射镜透射所述第一光线生成的第二子光线反射；

所述第三平面镜设置于与所述第二平面镜平行的位置，用于将所述第二平面镜反射的光线进行反射，形成所述投射到另一个待曝光区域的第二光线；

所述第二角度大于45°且小于135°；

所述半透半反射镜的一条边缘与所述第二平面镜的一条边缘相连接。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置的掩膜版设置于光路控制单元和待曝光产品之间，所述第二光线经过所述掩膜版投射到待曝光产品；

或，所述掩膜版设置于光发生组件中，光发生组件中的光源产生的光线经过光路调整组件、掩膜版形成所述第一光线。

3.一种光路控制装置，用于曝光装置，其特征在于，包括至少一组如权利要求1或2所述的光路控制单元。