JP2006186366A - リソグラフィ装置、照明系及びデブリ捕捉システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置において放射ソースにより放射発生時に放たれるデブリ粒子を捕捉するデブリ捕捉システムは、第1組のチャネルと第2組のチャネルとを含む。第1組の各チャネルは、放射ソースからの放射がそこを通って伝播することを可能にし、デブリ粒子を捉える内壁を有する。第2組のチャネルは、放射の伝播方向に対し第1組の下流側に位置する。第2組の各チャネルは、放射ソースからの放射がやはりそこを通って伝播することを可能にし、デブリ粒子を捉える内壁を有する。ガス供給部及びガス排出部は、第1組のチャネルと第2組のチャネルとの間に、放射ソースからの放射の伝播方向に実質的に交差する純流動方向を有するガス流を提供するように構成される。
【選択図】図2
Description
D デブリ捕捉システム
IL 照明系
PS 投影系
B 放射ビーム
MA パターニング装置
M1、M2 マスク位置合わせマーク
MT 支持構造
PM 第1の位置決め装置
W 基板
P1、P2 基板位置合わせマーク
C 目標部分
WT 基板テーブル
WT 第2の位置決め装置
IF1、IF2 位置センサ
R 放射
RE 放射入口
IW 内壁
FS 第1組
C チャネル
F ガス流
GS ガス供給部
GR ガス排出部
SS 第2組
RX 放射出口
Claims (45)
- リソグラフィ装置であって、
放射発生のためのソースと、放射発生とともに放たれた少なくともいくらかのデブリ粒子を捕捉するためのデブリ捕捉システムとを含み、放射ビームを調整するように構成された照明系と、
前記調整された放射ビームをパターニングするためのパターニング装置と、
前記パターニングされた放射ビームを基板の目標部分上に投影するための投影系とを含み、
前記デブリ捕捉システムが、
(i)第1組のチャネルであって、前記第1組の各チャネルが、そこを通って前記ソースからの放射が伝播することを可能にし、デブリ粒子を捉えるための内壁を有する第1組のチャネルと、
(ii)前記放射の伝播方向に対し、前記第1組のチャネルの下流側に位置する第2組のチャネルであって、前記第2組の各チャネルが、やはりそこを通って前記ソースからの放射が伝播することを可能にし、デブリ粒子を捉えるための内壁を有する第2組のチャネルと、
(iii)前記第1組のチャネルと前記第2組のチャネルとの間に、前記放射の前記伝播方向と実質的に交差する純流動方向を有するガス流を提供するように構成されたガス供給部及びガス排出部とを含むリソグラフィ装置。 - 少なくとも前記ソースの動作中、前記第1組のチャネルと前記第2組のチャネルとの間に、前記第1組のチャネルの放射入口ガス圧及び/又は前記第2組のチャネルの放射出口ガス圧よりはるかに高いガス圧を確定かつ維持するように、前記デブリ捕捉システムが構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部に、前記純流動方向がほぼ垂直となるガス流を提供するように、前記デブリ捕捉システムが構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部が、フォイル又はプレートによって形成される、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2組のチャネルの内壁のうちの1つが、前記第2組のチャネルの内壁のうち少なくとも他の1つにほぼ平行である、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2組のチャネルの各内壁が、実質的に平面である、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2組のチャネルの各チャネルが有する、前記放射の前記伝播方向にほぼ垂直な断面が、閉幾何形状である、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2組のチャネルの各チャネルが、前記ソースに合致する上部を有する仮想円錐にほぼ合致する、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部に、前記純流動方向がほぼ平行となるガス流を提供するように、前記デブリ捕捉システムが構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部が、フォイル又はプレートで形成される、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1組のチャネルの内壁のうち1つが、前記第1組のチャネルの少なくとも他の1つの内壁にほぼ平行である、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1組のチャネルの各内壁がほぼ平面である、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1組のチャネルの各チャネルが有する、前記放射の前記伝播方向にほぼ垂直な断面が、閉幾何形状である、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1組のチャネルの各チャネルが、前記ソースに合致する上部を有する仮想円錐にほぼ合致する、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ソースを通って延びる仮想線に合致する軸を中心に、前記デブリ捕捉システムが回転可能である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置において放射ビームを調整するように構成された照明系であって、
放射発生のためのソースと、
放射発生とともに放たれた少なくともいくらかのデブリ粒子を捕捉するためのデブリ捕捉システムとを含み、
前記デブリ捕捉システムが、
(i)第1組のチャネルであって、前記第1組の各チャネルが、そこを通って前記ソースからの放射が伝播することを可能にし、デブリ粒子を捉えるための内壁を有する第1組のチャネルと、
(ii)前記放射の伝播方向に対し、前記第1組のチャネルの下流側に位置する第2組のチャネルであって、前記第2組の各チャネルが、やはりそこを通って前記ソースからの放射が伝播することを可能にし、デブリ粒子を捉えるための内壁を有する第2組のチャネルと、
(iii)前記第1組のチャネルと前記第2組のチャネルとの間に、前記放射の前記伝播方向と実質的に交差する純流動方向を有するガス流を提供するように構成されたガス供給部及びガス排出部とを含む照明系。 - 少なくとも前記ソースの動作中、前記第1組のチャネルと前記第2組のチャネルとの間に、前記第1組のチャネルの放射入口ガス圧及び/又は前記第2組のチャネルの放射出口の動作中ガス圧よりはるかに高いガス圧を確定かつ維持するように、前記デブリ捕捉システムが構成される、請求項16に記載の照明系。
- 前記第2組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部に、前記純流動方向がほぼ垂直となるガス流を提供するように、前記デブリ捕捉システムが構成される、請求項16に記載の照明系。
- 前記第2組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部が、フォイル又はプレートによって形成される、請求項18に記載の照明系。
- 前記第2組のチャネルの内壁のうち1つが、前記第2組のチャネルの内壁のうち少なくとも他の1つにほぼ平行である、請求項18に記載の照明系。
- 前記第2組のチャネルの各内壁がほぼ平面である、請求項20に記載の照明系。
- 前記第2組のチャネルの各チャネルが有する、前記放射の前記伝播方向にほぼ垂直な断面が、閉幾何形状である、請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2組のチャネルの各チャネルが、前記ソースに合致する上部を有する仮想円錐にほぼ合致する、請求項18に記載の照明系。
- 前記第1組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部に、前記純流動方向がほぼ平行となるガス流を提供するように、前記デブリ捕捉システムが構成される、請求項16に記載の照明系。
- 前記第1組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部が、フォイル又はプレートで形成される、請求項24に記載の照明系。
- 前記第1組のチャネルの内壁のうち1つが、前記第1組のチャネルの少なくとも他の1つの内壁にほぼ平行である、請求項24に記載の照明系。
- 前記第1組のチャネルの各内壁がほぼ平面である、請求項26に記載の照明系。
- 前記第1組のチャネルの各チャネルが有する、前記放射の前記伝播方向にほぼ垂直な断面が、閉幾何形状である、請求項24に記載の照明系。
- 前記第1組のチャネルの各チャネルが、前記ソースに合致する上部を有する仮想円錐にほぼ合致する、請求項24に記載の照明系。
- 前記ソースを通って延びる仮想線に合致する軸を中心に、前記デブリ捕捉システムが回転可能である、請求項16に記載の照明系。
- リソグラフィ装置において放射ソースによる放射発生とともに放たれたデブリ粒子の少なくともいくらかを捕捉するためのデブリ捕捉システムであって、
第1組のチャネルであって、前記第1組の各チャネルが、そこを通って放射ソースからの放射が伝播することを可能にし、デブリ粒子を捉えるための内壁を有する第1組のチャネルと、
前記放射の伝播方向に対し、前記第1組のチャネルの下流側に位置する第2組のチャネルであって、前記第2組の各チャネルが、やはりそこを通って前記放射ソースからの放射が伝播することを可能にし、デブリ粒子を捉えるための内壁を有する第2組のチャネルと、
前記第1組のチャネルと前記第2組のチャネルとの間に、放射ソースからの前記放射の前記伝播方向と実質的に交差する純流動方向を有するガス流を提供するように構成されたガス供給部及びガス排出部とを含むデブリ捕捉システム。 - 少なくとも放射ソースの動作中、前記第1組のチャネルと前記第2組のチャネルとの間に、前記第1組のチャネルの放射入口ガス圧及び/又は前記第2組のチャネルの放射出口ガス圧よりはるかに高いガス圧を確定かつ維持するように、前記デブリ捕捉システムが構成される、請求項31に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第2組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部に、前記純流動方向がほぼ垂直となるガス流を提供するように、前記デブリ捕捉システムが構成される、請求項31に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第2組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部が、フォイル又はプレートによって形成される、請求項33に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第2組のチャネルの内壁のうち1つが、前記第2組のチャネルの内壁のうち少なくとも他の1つにほぼ平行である、請求項33に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第2組のチャネルの各内壁がほぼ平面である、請求項35に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第2組のチャネルの各チャネルが有する、放射ソースによって発生された前記放射の前記伝播方向にほぼ垂直な断面が、閉幾何形状である、請求項33に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第2組のチャネルの各チャネルが、仮想円錐にほぼ合致し、使用の際は、前記円錐の上部が、放射ソースに合致する、請求項33に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第1組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部に、前記純流動方向がほぼ平行となるガス流を提供するように、前記デブリ捕捉システムが構成される、請求項31に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第1組のチャネルの内壁のうちの1つの少なくとも一部が、フォイル又はプレートで形成される、請求項39に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第1組のチャネルの内壁のうち1つが、前記第1組のチャネルの少なくとも他の1つの内壁にほぼ平行である、請求項39に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第1組のチャネルの各内壁がほぼ平面である、請求項41に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第1組のチャネルの各チャネルが有する、放射ソースによって発生された前記放射の前記伝播方向にほぼ垂直な断面が、閉幾何形状である、請求項39に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記第1組のチャネルの各チャネルが、仮想円錐にほぼ合致し、使用の際は、前記円錐の上部が、放射ソースに合致する、請求項39に記載のデブリ捕捉システム。
- 前記デブリ捕捉システムが、軸を中心に回転可能である、請求項31に記載のデブリ捕捉システム。
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