JP2005260216A5 - - Google Patents
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- 導電性を示す半導体膜を形成し、
前記導電性を示す半導体膜上に撥液表面を有する領域を形成し、
前記撥液表面を有する領域の一部にレーザビーム直接描画装置を用いてレーザ光を照射して、親液表面を有する領域を形成し、
前記親液表面を有する領域にマスクパターンを形成し、
前記マスクパターンを用いて前記撥液表面を有する領域及び前記導電性を示す半導体膜をエッチングして、ソース領域及びドレイン領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 半導体領域を形成し、
前記半導体領域上に撥液表面を有する領域を形成し、
前記撥液表面を有する領域の一部にレーザビーム直接描画装置を用いてレーザ光を照射して、親液表面を有する領域を形成し、
前記親液表面を有する領域にマスクパターンを形成し、
前記マスクパターンで囲まれる領域に導電性を示す半導体領域を形成して、ソース領域及びドレイン領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 半導体領域を形成し、
前記半導体領域上に撥液表面を有する領域を形成し、
前記撥液表面を有する領域の一部にレーザビーム直接描画装置を用いてレーザ光を照射して、親液表面を有する領域を形成し、
前記親液表面を有する領域に導電性を示す半導体領域を形成して、ソース領域及びドレイン領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項２または請求項３において、前記導電性を示す半導体領域は塗布法により形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
- 請求項１乃至請求項の４のいずれか一項において、前記撥液表面を有する領域は塗布法により形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
- 請求項４または請求項５において、前記塗布法は、液滴吐出法、インクジェット法、スピンコート法、ロールコート法、スロットコート法、又はディップ法であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005034425A JP4754841B2 (ja) | 2004-02-13 | 2005-02-10 | 半導体装置の作製方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004037461 | 2004-02-13 | ||
| JP2004037461 | 2004-02-13 | ||
| JP2005034425A JP4754841B2 (ja) | 2004-02-13 | 2005-02-10 | 半導体装置の作製方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005260216A JP2005260216A (ja) | 2005-09-22 |
| JP2005260216A5 true JP2005260216A5 (ja) | 2008-02-14 |
| JP4754841B2 JP4754841B2 (ja) | 2011-08-24 |
Family
ID=35085599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005034425A Expired - Fee Related JP4754841B2 (ja) | 2004-02-13 | 2005-02-10 | 半導体装置の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4754841B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101217182B1 (ko) * | 2006-07-28 | 2012-12-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 기판, 이의 제조방법 및 이를 갖는표시패널 |
| US7738050B2 (en) * | 2007-07-06 | 2010-06-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Liquid crystal display device |
| GB2490165A (en) * | 2011-04-21 | 2012-10-24 | Cpi Innovation Services Ltd | Organic thin film transistor with crystal grain variation compensated by shape of source and drain electrodes |
| JP5830930B2 (ja) * | 2011-05-19 | 2015-12-09 | ソニー株式会社 | 半導体素子および電子機器 |
| WO2013042562A1 (en) * | 2011-09-22 | 2013-03-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| WO2013080900A1 (en) * | 2011-12-02 | 2013-06-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
| US9490048B2 (en) * | 2012-03-29 | 2016-11-08 | Cam Holding Corporation | Electrical contacts in layered structures |
| KR102140302B1 (ko) | 2013-09-06 | 2020-08-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 유기 발광 표시 장치 제조용 포토 마스크 |
| WO2019102788A1 (ja) * | 2017-11-27 | 2019-05-31 | 東レ株式会社 | 半導体素子およびその製造方法、ならびに無線通信装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4042098B2 (ja) * | 2002-04-22 | 2008-02-06 | セイコーエプソン株式会社 | デバイスの製造方法 |
| JP2003318401A (ja) * | 2002-04-22 | 2003-11-07 | Seiko Epson Corp | デバイスの製造方法、デバイス、表示装置、および電子機器 |
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2005
- 2005-02-10 JP JP2005034425A patent/JP4754841B2/ja not_active Expired - Fee Related
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