JP2005249912A - レーザビーム照射装置及びレーザ加工装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ホモジナイザやズーム等の複雑な光学系を使用しないで、縦横比の異なる断面形状のビームを有効に利用して、レーザを効率良く照射し、加工時間を短縮する。
【解決手段】ビーム断面の長手方向を変化させる手段(光路切換装置20、プリズム40、光ファイババンドル50)をビーム光路中に設ける。
【選択図】図2
【解決手段】ビーム断面の長手方向を変化させる手段(光路切換装置20、プリズム40、光ファイババンドル50)をビーム光路中に設ける。
【選択図】図2
Description
本発明は、レーザビーム照射装置及びレーザ加工装置に係り、特に、エキシマレーザ加工装置において、半導体用基板等の四角形状に並んだ穴を加工する際に用いるのに好適な、出力ビーム断面の縦方向と横方向の寸法が異なるビームを対象物に照射するためのレーザビーム照射装置、及び、これを利用したレーザ加工装置に関する。
特許文献1に示されるように、ビーム断面が長方形のレーザビームを用いるエキシマレーザ加工装置が実用化されている。
一般に、エキシマレーザから出射された直後のビーム断面形状は、縦×横の寸法が1:2.5程度の横長の比率となっている。従って、横方向に並んだ穴は、一括加工エリアを大きくとることができるが、縦方向に並んだパターンの場合、ビームの縦方向に加工穴が並んでいるため、加工エリアがビームサイズに制約され、大きくとることができない。例えば、図1に示す如く、加工穴14が縦方向と横方向に並んだような加工パターンが混在する場合、横方向のパターンは、ビーム12の長手と同じ方向となるため、ビームを有効に利用することができる。しかし、縦方向に並んだパターンの場合は、加工エリアを大きく取ることができないため、例えば1穴ずつの加工となり、加工時間が長くなる。
このような場合、ホモジナイザ等の特殊なビーム整形用光学系を使用して、(1)ビームを正方形に整形し、縦・横が同じエリアで加工できるようにしたり、あるいは、(2)ズームにより縦横比を変えて加工することも考えられるが、ホモジナイザやズームのような特殊な光学系を使用すると、その光学系のコストも高く、又、精密な加工のための調整作業が煩雑になり、ダウンタイムが増えるという問題点を有する。
本発明は、前記従来の問題点を解消するべくなされたもので、比較的簡単な光学系で、縦横比の異なる断面形状のビームを有効に利用して、レーザを効率良く照射し、加工時間を短縮することを課題とする。
本発明は、ビーム断面の縦方向と横方向の寸法が異なるビームを対象物に照射するためのレーザビーム照射装置において、ビーム断面の長手方向を変化させる光路切換手段を、ビーム光路中に設けることにより、前記課題を解決したものである。
本発明は、又、前記のレーザビーム照射装置を備えたことを特徴とするレーザ加工装置を提供するものである。
本発明によれば、ホモジナイザやズーム等の複雑な光学系を用いることなく、ビームの方向を変えることにより、縦長及び横長の両方の加工パターンに対して照射エリアを大きく取って、レーザを効率良く照射し、加工時間を短縮することが可能となる。
以下図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
本発明の第1実施形態は、図2に示す如く、例えば縦×横の寸法が1:2.5程度の横長の比率となっている長方形ビーム12を発生するエキシマレーザ(以下、単にレーザと称する)10を用いて、図示しない半導体基板を加工するためのエキシマレーザ加工装置において、ビーム12の方向を横長のまま加工対象に照射するための第1の光路と前記ビーム12の方向を縦長に切り換えて加工対象に照射するための第2の光路とを切り換えるための光路切換装置20と、該光路切換装置20によって切り換えられたビームの方向に合わせて横長加工用パターン(以下、単に横長パターンと称する)30Aと縦長加工用パターン(以下、単に縦長パターンと称する)30Bを切り換えるためのパターン切換マスク30とを備えたものである。
前記光路切換装置20は、ミラー駆動機構23によって光路中に出し入れされる第1の反射ミラー22と、該第1の反射ミラー22によって図の上方向に反射されたビーム12を再び水平方向に反射するための第2の反射ミラー24と、前記第1の反射ミラー22が光路外に出されたときにビーム12を反射する第3の反射ミラー26と、ミラー駆動機構29によって、前記第2の反射ミラー24により反射されたビーム、あるいは、前記第3の反射ミラー26により反射されたビームのいずれか一方を、パターン切換マスク30の方向に反射するための第4の反射ミラー28A、28Bとにより構成される。
前記パターン切換マスク30は、その切換機構31によって、横長のビーム12Aに適した横長パターン30Aと、縦長のビーム12Bに適した縦長パターン30Bを切り換えるようにされている。
以下作用を説明する。
まずエキシマレーザ10から出射されるビーム12を横長のまま加工対象に照射したい場合には、図2に実線で示した如く、ミラー駆動機構23により第1の反射ミラー22を光路中に挿入し、第2の反射ミラー24により反射されたビームが、横長のままパターン切換マスク30に入射されるよう、ミラー駆動機構29で第4の反射ミラー28Aを光路中に挿入すると共に、マスク切換機構31により、パターン切換マスク30の横長パターン30Aを光路中に挿入する。すると、エキシマレーザ10によって発生された横長のビーム12が、そのまま、横長パターン30Aを通して、加工対象に照射される。
一方、縦長のビーム12Bを用いたい場合には、図3に示す如く、ミラー駆動機構23により第1の反射ミラー22を光路外に外し、第3の反射ミラー26により反射されたビーム12が、長手方向を横長から縦長に変換して、パターン切換マスク30に入射されるよう、ミラー駆動機構29で第4の反射ミラー28Bを光路中に挿入すると共に、マスク切換機構31により、パターン切換マスク30の縦長パターン30Bを光路中に挿入する。これにより、縦長のビーム12Bが、縦長パターン30Bを通して、加工対象に照射される。
なお、前記実施形態においては、パターン切換マスク30上のパターンが横長30A、縦長30Bそれぞれ1種類ずつであったが、図4に示す変形例のように、例えば穴数を変えた複数のパターンを、縦長、横長のそれぞれに用意して、適応性を更に高めることも可能である。
次に、プリズム40を用いてビーム12の方向を回転するようにした、本発明の第2実施形態を図5に示す。
本実施形態によれば、プリズム回転機構41によりプリズム40を回転することで、ビーム12の長手方向を任意の方向に回転することができる。
次に、光ファイババンドル50を用いてビーム12の長手方向を変えるようにした、本発明の第3実施形態を図6に示す。
本実施形態においても、光ファイバ回動機構51により光ファイババンドル50の出射側50Aを回動することで、ビーム12の長手方向を任意の方向に回動することができる。
前記実施形態においては、本発明が、半導体用基板を加工するエキシマレーザ加工装置に適用されていたが、本発明の適用対象はこれに限定されず、ビーム照射装置一般に適用可能である。
10…エキシマレーザ
12…レーザビーム
12A…横長ビーム
12B…縦長ビーム
20…光路切換装置
22、24、26、28…反射ミラー
23、29…ミラー駆動機構
30…パターン切換マスク
30A…横長パターン
30B…縦長パターン
31…パターン切換機構
40…プリズム
41…プリズム回転機構
50…光ファイババンドル
51…光ファイバ回動機構
12…レーザビーム
12A…横長ビーム
12B…縦長ビーム
20…光路切換装置
22、24、26、28…反射ミラー
23、29…ミラー駆動機構
30…パターン切換マスク
30A…横長パターン
30B…縦長パターン
31…パターン切換機構
40…プリズム
41…プリズム回転機構
50…光ファイババンドル
51…光ファイバ回動機構
Claims (3)
- ビーム断面の縦方向と横方向の寸法が異なるビームを対象物に照射するためのレーザビーム照射装置において、
ビーム断面の長手方向を変化させる光路切換手段が、ビーム光路中に設けられていることを特徴とするレーザビーム照射装置。 - 前記光路切換手段によって切り換えられたビームの方向に合わせてパターンを切り換えるパターン切換マスクが、更に設けられていることを特徴とする請求項1記載のレーザビーム照射装置。
- 請求項1又は2に記載のレーザビーム照射装置を備えたことを特徴とするレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004057238A JP2005249912A (ja) | 2004-03-02 | 2004-03-02 | レーザビーム照射装置及びレーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004057238A JP2005249912A (ja) | 2004-03-02 | 2004-03-02 | レーザビーム照射装置及びレーザ加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005249912A true JP2005249912A (ja) | 2005-09-15 |
Family
ID=35030463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004057238A Pending JP2005249912A (ja) | 2004-03-02 | 2004-03-02 | レーザビーム照射装置及びレーザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005249912A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009294247A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ビーム変換器 |
-
2004
- 2004-03-02 JP JP2004057238A patent/JP2005249912A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009294247A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ビーム変換器 |
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