JP2005243987A5 - - Google Patents
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- 処理室の内側に配置された試料台上に載置された試料を、前記処理室内に生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置において、
前記処理室内壁面に着脱可能に取り付けられ、かつ、前記プラズマと接する側の表面にＹ ２ Ｏ ３ 、Ｙｂ ２ Ｏ ３ またはＹＦ ３ を主成分とした材料あるいはこれらの混合材から構成された被膜を有する部材を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 処理室の内側に配置された試料台上に載置された試料を、前記処理室内に生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置において、
前記処理室内壁面に着脱可能に取り付けられ、かつ、前記プラズマと接する側の表面を被覆する耐プラズマ性の高い材料またはこれらの混合材から構成された第１の被膜と前記処理室内壁面に取り付けられる側の面を被覆する前記耐プラズマ性の高い材料またはこれらの混合材よりも強度の高い材料からなる第２の被膜とを有する部材を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第１の被膜と前記第２の被膜との境界部では、前記第１の被膜が前記第２の被膜の上面を覆うように被覆されたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項２または３に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第１の被膜がＹ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３ またはＹＦ３ を主成分とした材料あるいはこれらの混合材から構成されたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 処理室の内側に配置された試料台上に載置された試料を、前記処理室内に生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
前記処理室内側に着脱可能に取り付けられ、かつ、表面を皮膜で被覆した部材を有し、該部材の表面の平坦部の被膜より角部の被膜が厚くされたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１または４に記載のプラズマ処理装置であって、
前記Ｙ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３ またはＹＦ３ を主成分とした材料あるいはこれらの混合材から構成された被膜が溶射されて被覆され、該被膜の表面がフッ素樹脂、ＳｉＯ２、ポリイミドまたはシリコーンを用いた封孔処理が施されたことを特徴とするプラズマ処理装置。
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| JP2004052807A JP4181069B2 (ja) | 2004-02-27 | 2004-02-27 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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