JP2005241859A - 液晶表示装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】 セル内の段差部分に起因して、液晶材料の配向不良が生じた場合であっても、コントラストに優れた液晶表示装置、およびそのような液晶表示装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】 対向配置される第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板および第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含む液晶表示装置およびそのような液晶表示装置を備えた電子機器であって、液晶表示装置の内部に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットと、を一致させる。
【選択図】 図６
【解決手段】 対向配置される第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板および第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含む液晶表示装置およびそのような液晶表示装置を備えた電子機器であって、液晶表示装置の内部に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットと、を一致させる。
【選択図】 図６
Description
本発明は、液晶表示装置および液晶表示装置を備えた電子機器に関する。特に、垂直配向用の液晶材料を用いたノーマリーブラックモードの構成であっても、コントラストに優れた液晶表示装置およびそのような液晶表示装置を備えた電子機器に関する。
従来、画像表示装置として、第１の電極（走査電極と称する場合がある。）を有する第１の基板と、第２の電極（データ電極および画素電極と称する場合がある。）を有する第２の基板と、当該第１の基板および第２の基板の外周面に沿って配置されるとともに、第１の基板および第２の基板を貼り合わせるためのシール材と、第１の基板および第２の基板の間に封入された液晶材料と、から構成された液晶表示装置が多用されている。
すなわち、互いに対向配置される一対の基板の一方に形成した第１の電極と、他方の基板に形成した第２の電極とを、ドットマトリクス状に交差させることによって複数の画素を形成し、それらの画素に印加する電圧をオン、オフさせることによって、当該画素に含まれる液晶材料を通過する光を変調させ、偏光板との関係で、文字等の画像を表示する液晶表示装置が多用されている。
しかしながら、従来の液晶表示装置は、視覚特性が一般に狭いという問題が見られた。
すなわち、互いに対向配置される一対の基板の一方に形成した第１の電極と、他方の基板に形成した第２の電極とを、ドットマトリクス状に交差させることによって複数の画素を形成し、それらの画素に印加する電圧をオン、オフさせることによって、当該画素に含まれる液晶材料を通過する光を変調させ、偏光板との関係で、文字等の画像を表示する液晶表示装置が多用されている。
しかしながら、従来の液晶表示装置は、視覚特性が一般に狭いという問題が見られた。
そこで、動作速度などは従来と同程度なままで、良好な視角特性が得られる垂直配向（ＶＡ）方式の液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１および特許文献２参照。）。
例えば、図２４に示すように、基板表面に垂直配向処理を施した第１および第２の基板間に誘電率異方性が負の液晶７１４を挟持し、かかる液晶７１４の配向が、電圧無印加時にはほぼ垂直に、所定の電圧を印加した時にはほぼ水平となり、さらには所定の電圧より小さい電圧を印加した時には斜めになる液晶表示装置７００がある。より具体的には、ドメイン規制手段として、上側基板の電極７１２を１画素内でスリットを有する電極とし、下側基板の電極７１３の上には突起２０を設けられている。したがって、電圧無印加時には斜面にほぼ垂直に配向し、電圧印加すると斜面付近の配向方向によって周囲の液晶の配向方向が決定される液晶表示装置７００である。
また、図２５に示すように、第１のドメイン規制手段８２０Ａや、第２のドメイン規制手段８２０Ｂとして、具体的に、所定のサイクルでジグザグに屈曲した複数スリット等を、平行配置した液晶表示装置８００である。
特開平１１−２４２２２５号公報（特許請求の範囲、図１）
特開平１１−２５８６０６号公報（特許請求の範囲、図５５）
例えば、図２４に示すように、基板表面に垂直配向処理を施した第１および第２の基板間に誘電率異方性が負の液晶７１４を挟持し、かかる液晶７１４の配向が、電圧無印加時にはほぼ垂直に、所定の電圧を印加した時にはほぼ水平となり、さらには所定の電圧より小さい電圧を印加した時には斜めになる液晶表示装置７００がある。より具体的には、ドメイン規制手段として、上側基板の電極７１２を１画素内でスリットを有する電極とし、下側基板の電極７１３の上には突起２０を設けられている。したがって、電圧無印加時には斜面にほぼ垂直に配向し、電圧印加すると斜面付近の配向方向によって周囲の液晶の配向方向が決定される液晶表示装置７００である。
また、図２５に示すように、第１のドメイン規制手段８２０Ａや、第２のドメイン規制手段８２０Ｂとして、具体的に、所定のサイクルでジグザグに屈曲した複数スリット等を、平行配置した液晶表示装置８００である。
しかしながら、特許文献１や特許文献２に記載された液晶表示装置は、第１の電極または第２の電極に設けたスリットと、基板上の突起等の段差部分と、の平面的な位置関係を制御していなかった。したがって、有効な表示領域における段差部分に起因して液晶の配向不良が生じた場合には、当該配向不良が視認されるとともに、得られる画像のコントラスト性が低いという問題が見られた。
すなわち、図６（ｂ）にモデル的に示すように、有効な表示領域における液晶材料の配向不良の認識面積が相対的に大きいという問題が見られた。
すなわち、図６（ｂ）にモデル的に示すように、有効な表示領域における液晶材料の配向不良の認識面積が相対的に大きいという問題が見られた。
そこで、本発明の発明者は鋭意努力した結果、液晶表示装置の内部に形成された段差部分の一部と、第１の電極や第２の電極に設けたスリットとを平面的に一致させることにより、液晶材料の配向不良が生じた場合であっても、その配向不良を視認させないようにすることができ、得られる画像のコントラスト性が向上することを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、液晶表示装置の内部（セル内）に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分に起因して、液晶材料の配向不良が生じた場合であっても、配向制御用のスリットを利用して、有効な表示領域における配向不良の認識面積を相対的に低減させ、コントラスト性に優れた液晶表示装置、およびそのような液晶表示装置を含む電子機器を提供することを目的とする。
すなわち、本発明は、液晶表示装置の内部（セル内）に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分に起因して、液晶材料の配向不良が生じた場合であっても、配向制御用のスリットを利用して、有効な表示領域における配向不良の認識面積を相対的に低減させ、コントラスト性に優れた液晶表示装置、およびそのような液晶表示装置を含む電子機器を提供することを目的とする。
本発明によれば、対向配置される第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板および第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含む液晶表示装置であって、液晶表示装置の内部に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとを、全面的または部分的に一致させた液晶表示装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方の電極に設けたスリットと、段差部分とを一致させることにより、段差部分に液晶材料の配向不良が生じた場合であっても、有効な表示領域での配向不良の認識面積を効果的に低減させることができる。
すなわち、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方の電極に設けたスリットと、段差部分とを一致させることにより、段差部分に液晶材料の配向不良が生じた場合であっても、有効な表示領域での配向不良の認識面積を効果的に低減させることができる。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、液晶表示装置の内部に設けられた段差部分が、リタデーションを調整するためのマルチギャップによる段差部分であることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、液晶表示装置の内部に設けられた段差部分が、遮光層による段差部分であることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、液晶表示装置の内部に設けられた段差部分が、配向制御のための配向突起による段差部分であることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、液晶表示装置の内部に設けられた段差部分が、層間絶縁膜による段差部分であることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、液晶表示装置の内部に設けられた段差部分が、フォトスペーサによる段差部分であることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、段差部分にテーパが設けてあることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、段差部分の幅を、第１の電極または第２の電極におけるスリットの幅よりも狭くすることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、第１の電極または第２の電極におけるスリットの幅を１〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、スリットが、全体として多角形状または円状（楕円形状や円相当形状を含む。以下、同様である。）をなすことが好ましい。
すなわち、スリットの形状に関して、直線状や曲線状であっても良いが、全体として多角形状または円状とすることにより、ノーマリーブラックモードの構成に適用することが容易となる。
すなわち、スリットの形状に関して、直線状や曲線状であっても良いが、全体として多角形状または円状とすることにより、ノーマリーブラックモードの構成に適用することが容易となる。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、液晶材料が、負の誘電率異方性を有するとともに、液晶表示装置が、ノーマリーブラックモードの構成であることが好ましい。
すなわち、本発明の液晶表示装置によれば、ノーマリーホワイトモードの構成であっても良いが、視野角を効果的に広げたり、コントラストをさらに向上させたりすることができることから、垂直配向用液晶材料を用いるとともに、電圧非印加箇所において配向して、光透過を遮断するノーマリーブラックモードの構成とすることが好ましい。
すなわち、本発明の液晶表示装置によれば、ノーマリーホワイトモードの構成であっても良いが、視野角を効果的に広げたり、コントラストをさらに向上させたりすることができることから、垂直配向用液晶材料を用いるとともに、電圧非印加箇所において配向して、光透過を遮断するノーマリーブラックモードの構成とすることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、第１の電極または第２の電極が、全体として多角形状または円状をなすとともに、その内部に、スリット以外に、非電極形成部を設けることが好ましい。
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、段差部分と、第１の電極または第２の電極のギャップとを、全面的または部分的に一致させることが好ましい。
また、本発明の別の液晶表示装置は、対向配置される第１の基板と、第２の基板と、当該第１の基板および第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含む液晶表示装置であって、第１の基板は、走査電極を備え、第２の基板は、データ電極と、画素電極と、スイッチング素子と、を備え、液晶表示装置の内部に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、走査電極および画素電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとを、全面的または部分的に一致させた液晶表示装置である。
すなわち、第１の基板上の走査電極および第２の基板上の画素電極、あるいはいずれか一方の電極に設けたスリットと、段差部分とを一致させることにより、段差部分に液晶材料の配向不良が生じた場合であっても、有効な表示領域での配向不良の認識面積を効果的に低減させることができる。
すなわち、第１の基板上の走査電極および第２の基板上の画素電極、あるいはいずれか一方の電極に設けたスリットと、段差部分とを一致させることにより、段差部分に液晶材料の配向不良が生じた場合であっても、有効な表示領域での配向不良の認識面積を効果的に低減させることができる。
また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器である。
すなわち、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させた液晶表示装置を備えることにより、結果として、コントラストや視覚特性に優れた電子機器を効率的に提供することができる。
すなわち、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させた液晶表示装置を備えることにより、結果として、コントラストや視覚特性に優れた電子機器を効率的に提供することができる。
以下、図面を参照して、本発明の液晶表示装置および液晶表示装置を備えた電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
［第１実施形態］
第１実施形態は、対向配置される第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板および第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含む液晶表示装置であって、液晶表示装置の内部に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとを、全面的または部分的に一致させた液晶表示装置である。
すなわち、液晶表示装置の内部に設けられたマルチギャップ、配向制御のための配向突起、層間絶縁膜、フォトスペーサ、あるいは各種有機膜や無機膜等の段差部分に起因した液晶材料の配向不良が生じる場合があり、それに伴うコントラストの低下を防止することができる液晶表示装置である。
第１実施形態は、対向配置される第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板および第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含む液晶表示装置であって、液晶表示装置の内部に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとを、全面的または部分的に一致させた液晶表示装置である。
すなわち、液晶表示装置の内部に設けられたマルチギャップ、配向制御のための配向突起、層間絶縁膜、フォトスペーサ、あるいは各種有機膜や無機膜等の段差部分に起因した液晶材料の配向不良が生じる場合があり、それに伴うコントラストの低下を防止することができる液晶表示装置である。
以下、図１〜図２０を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の液晶表示装置として、第１の基板（カラーフィルタ基板と称する場合がある。）および第２の基板（素子基板と称する場合がある。）を用いて構成し、二端子型のアクティブ素子としてのＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えた液晶表示装置を例に採って説明する。
なお、図１〜図４は、第１実施形態の液晶表示装置の概略構成を説明するために供する図である。また、図５〜図７は、段差部分における液晶材料の配向不良の低減状況を説明するために供する図である。また、図８〜図１３は、垂直配向用の液晶材料の配向動作等を説明するために供する図である。また、図１４〜図１７は、各種段差部分と、スリットとの関係を説明するために供する図である。さらに、図１８〜図２０は、第１の基板および第２の基板の製造方法を説明するために供する図である。そして、それぞれの図において、同一の部材を示す場合であっても異なる符合となっている場合があるが、説明が重複するような場合には、適宜、説明を省略してある。
なお、図１〜図４は、第１実施形態の液晶表示装置の概略構成を説明するために供する図である。また、図５〜図７は、段差部分における液晶材料の配向不良の低減状況を説明するために供する図である。また、図８〜図１３は、垂直配向用の液晶材料の配向動作等を説明するために供する図である。また、図１４〜図１７は、各種段差部分と、スリットとの関係を説明するために供する図である。さらに、図１８〜図２０は、第１の基板および第２の基板の製造方法を説明するために供する図である。そして、それぞれの図において、同一の部材を示す場合であっても異なる符合となっている場合があるが、説明が重複するような場合には、適宜、説明を省略してある。
１．液晶表示装置の基本構造
まず、図１〜図２を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の基本構造、すなわち、液晶パネル２００や電極（第１および第２の電極）１９、２０、２６、あるいは位相差板２４０、２５０、および偏光板２４１、２５１等について具体的に説明する。
なお、図１は、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル２００を示す概略斜視図であり、図２は、液晶パネル２００の模式的な概略断面図であり、それぞれ説明の便宜上、上側に第１の基板１２が配置してあり、下側に第２の基板１４が配置してある。
また、図１に示される液晶パネル２００は、上述したように、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることにより、液晶表示装置となる。
なお、本実施形態においてはＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネルを例にとって説明するが、パッシブマトリクス型構造を有する液晶パネルや、第２実施形態で説明するＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）等の非線形素子を用いたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネルであっても良い。
まず、図１〜図２を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の基本構造、すなわち、液晶パネル２００や電極（第１および第２の電極）１９、２０、２６、あるいは位相差板２４０、２５０、および偏光板２４１、２５１等について具体的に説明する。
なお、図１は、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル２００を示す概略斜視図であり、図２は、液晶パネル２００の模式的な概略断面図であり、それぞれ説明の便宜上、上側に第１の基板１２が配置してあり、下側に第２の基板１４が配置してある。
また、図１に示される液晶パネル２００は、上述したように、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることにより、液晶表示装置となる。
なお、本実施形態においてはＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネルを例にとって説明するが、パッシブマトリクス型構造を有する液晶パネルや、第２実施形態で説明するＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）等の非線形素子を用いたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネルであっても良い。
（１）セル構造
図１に示すように、液晶パネル２００は、上側に配置された第１のガラス基板１３を基体とする第１の基板１２と、これに対向配置され、下側に配置された第２のガラス基板２７を基体とする第２の基板１４とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられている。そして、第１の基板１２と、第２の基板１４とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えている。
すなわち、図２の断面図に示すように、第１の基板１２と、第２の基板１４との間に液晶材料２３２が充填されるとともに、密封されていることが好ましい。
図１に示すように、液晶パネル２００は、上側に配置された第１のガラス基板１３を基体とする第１の基板１２と、これに対向配置され、下側に配置された第２のガラス基板２７を基体とする第２の基板１４とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられている。そして、第１の基板１２と、第２の基板１４とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えている。
すなわち、図２の断面図に示すように、第１の基板１２と、第２の基板１４との間に液晶材料２３２が充填されるとともに、密封されていることが好ましい。
（２）電極
図１に示すように、第１のガラス基板１３の内面上には、複数の走査電極を含む第１の電極１９を形成し、第２のガラス基板２７の内面上には、データ電極２６´や画素電極２０を含む第２の電極２６、およびそれらを電気的接続するためのＴＦＤ素子３１を形成することが好ましい。そして、かかる第１の電極１９が、画素電極２０と重なるように第２の電極２６に交差するとともに、当該第１の電極１９と画素電極２０とが重なる領域がマトリクス状に配列され、全体として液晶表示領域（Ａ）を構成することになる。
また、図１に示すように、第２のガラス基板２７は、第１のガラス基板１３よりも外側に張り出してなる基板張出部１４Ｔを有し、この基板張出部１４Ｔ上には、第２の電極２６や入力端子部（外部接続用端子）２１９が形成されていることが好ましい。
図１に示すように、第１のガラス基板１３の内面上には、複数の走査電極を含む第１の電極１９を形成し、第２のガラス基板２７の内面上には、データ電極２６´や画素電極２０を含む第２の電極２６、およびそれらを電気的接続するためのＴＦＤ素子３１を形成することが好ましい。そして、かかる第１の電極１９が、画素電極２０と重なるように第２の電極２６に交差するとともに、当該第１の電極１９と画素電極２０とが重なる領域がマトリクス状に配列され、全体として液晶表示領域（Ａ）を構成することになる。
また、図１に示すように、第２のガラス基板２７は、第１のガラス基板１３よりも外側に張り出してなる基板張出部１４Ｔを有し、この基板張出部１４Ｔ上には、第２の電極２６や入力端子部（外部接続用端子）２１９が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部１４Ｔ上には、これら第２の電極２６および入力端子部（外部接続用端子）２１９に対して導電接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体素子（ＩＣ）２６１が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部１４Ｔの端部には、入力端子部（外部接続用端子）２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板１１０が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部１４Ｔの端部には、入力端子部（外部接続用端子）２１９に導電接続されるように、フレキシブル配線基板１１０が実装されていることが好ましい。
（３）位相差板および偏光板
図１に示される液晶パネル２００は、図２の断面図に示すように、第１の基板１２の所定位置に、位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１が配置されていることが好ましい。
また、第２の基板１４の外面においても、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１が配置されていることが好ましい。
すなわち、このような位相差板（１／４波長板）２５０、２４０、あるいは偏光板２５１、２４１によって、液晶パネル２００に入射する光および透過してくる透過光の位相をそれぞれ調整して、鮮明な画像表示を認識することができる。
図１に示される液晶パネル２００は、図２の断面図に示すように、第１の基板１２の所定位置に、位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１が配置されていることが好ましい。
また、第２の基板１４の外面においても、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１が配置されていることが好ましい。
すなわち、このような位相差板（１／４波長板）２５０、２４０、あるいは偏光板２５１、２４１によって、液晶パネル２００に入射する光および透過してくる透過光の位相をそれぞれ調整して、鮮明な画像表示を認識することができる。
２．第１の基板
（１）基本的構成
第１の基板１２は、図２に示すように、基本的に、透明な第１のガラス基板１３と、着色層１６と、遮光層１８と、走査電極を含む第１の電極１９と、から構成してあることが好ましい。
また、第１の基板１２において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等に使用される半透過反射型の液晶表示装置においては、第１のガラス基板１３と、着色層１６との間に、図２に示すように、画素毎に透過領域と反射領域とを形成するための半透過反射層１８を設けることが好ましい。
さらに、第１の基板１２において、図２に示すように、画素毎に着色層１６が形成され、その上を電気絶縁性のアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる平坦化層（表面保護層あるいはオーバーコート層）２１５により、被覆してあることが好ましい。このようにして、着色層１６と平坦化層（表面保護層）２１５とによってカラーフィルタが形成されることになる。
なお、第１実施形態の液晶表示装置の例では、カラーフィルタを第１のガラス基板１３上に設けてあるが、かかるカラーフィルタを、後述する第２の基板１４上に設けても構わない。
（１）基本的構成
第１の基板１２は、図２に示すように、基本的に、透明な第１のガラス基板１３と、着色層１６と、遮光層１８と、走査電極を含む第１の電極１９と、から構成してあることが好ましい。
また、第１の基板１２において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等に使用される半透過反射型の液晶表示装置においては、第１のガラス基板１３と、着色層１６との間に、図２に示すように、画素毎に透過領域と反射領域とを形成するための半透過反射層１８を設けることが好ましい。
さらに、第１の基板１２において、図２に示すように、画素毎に着色層１６が形成され、その上を電気絶縁性のアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる平坦化層（表面保護層あるいはオーバーコート層）２１５により、被覆してあることが好ましい。このようにして、着色層１６と平坦化層（表面保護層）２１５とによってカラーフィルタが形成されることになる。
なお、第１実施形態の液晶表示装置の例では、カラーフィルタを第１のガラス基板１３上に設けてあるが、かかるカラーフィルタを、後述する第２の基板１４上に設けても構わない。
（２）着色層
また、図２に示す着色層１６は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
かかる着色層は、通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術（エッチング法）によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成することができる。そして、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
また、着色層の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
また、図２に示す着色層１６は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
かかる着色層は、通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術（エッチング法）によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成することができる。そして、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
また、着色層の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
（３）遮光層
また、図２に示すように、画素毎に形成された着色層１６の間の画素間領域に、遮光層（ブラックマトリクスと称する場合もある。）１８を形成することが好ましい。
このような遮光層１８としては、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。また、カーボン等の黒色材料を使用しなくとも優れた遮蔽効果を得ることができることから、加色法を利用して、Ｒ（赤）層、Ｇ（緑）層、Ｂ（青）層の三層構造とすることも好ましい。
また、図２に示すように、画素毎に形成された着色層１６の間の画素間領域に、遮光層（ブラックマトリクスと称する場合もある。）１８を形成することが好ましい。
このような遮光層１８としては、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。また、カーボン等の黒色材料を使用しなくとも優れた遮蔽効果を得ることができることから、加色法を利用して、Ｒ（赤）層、Ｇ（緑）層、Ｂ（青）層の三層構造とすることも好ましい。
（４）半透過反射層
また、図２に示すように、第１のガラス基板１３の表面には、半透過反射層２１２が形成されていることが好ましい。この半透過反射層２１２は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、から構成することが好ましい。また、半透過反射層２１２は、画素毎に、反射面を有する反射部２１２ｒと、開口部２１２ａとを備えることが好ましい。すなわち、反射半透過型の液晶表示装置として、将来的に開口部２１２ａを介して、透過モードで画像表示するとともに、反射領域２１２ｒを利用して、反射モードで画像表示するためである。
また、図２に示すように、第１のガラス基板１３の表面には、半透過反射層２１２が形成されていることが好ましい。この半透過反射層２１２は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、から構成することが好ましい。また、半透過反射層２１２は、画素毎に、反射面を有する反射部２１２ｒと、開口部２１２ａとを備えることが好ましい。すなわち、反射半透過型の液晶表示装置として、将来的に開口部２１２ａを介して、透過モードで画像表示するとともに、反射領域２１２ｒを利用して、反射モードで画像表示するためである。
（５）第１の電極
図２に示すように、平坦化層２１５の上に、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電材料からなる、走査電極としての第１の電極１９を形成することが好ましい。すなわち、かかる第１の電極１９は、図３（ａ）に示すように、複数の透明電極を並列させ、ストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、第１の電極の高さ（厚さ）を１〜２０μｍの範囲内の値とすることが好ましく、２〜１５μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、第１の電極の高さ（厚さ）が１μｍ未満の値となると、電気抵抗の値が過度に大きくなってしまう場合があるためである。一方、第１の電極の高さ（厚さ）が２０μｍを超えると、セルギャップにバラつきが生じたり、あるいは、液晶表示装置の薄型化を図ることが困難になったりする場合があるためである。
また、隣接する第１の電極間の距離を２０〜５０μｍの範囲内の値とすることが好ましく、２２〜４５μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。すなわち、通常、シール材に含まれる導電性粒子の粒径が１０μｍ程度であることを考慮して、隣接する第１の電極間の距離を定めることが好ましい。
図２に示すように、平坦化層２１５の上に、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電材料からなる、走査電極としての第１の電極１９を形成することが好ましい。すなわち、かかる第１の電極１９は、図３（ａ）に示すように、複数の透明電極を並列させ、ストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、第１の電極の高さ（厚さ）を１〜２０μｍの範囲内の値とすることが好ましく、２〜１５μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、第１の電極の高さ（厚さ）が１μｍ未満の値となると、電気抵抗の値が過度に大きくなってしまう場合があるためである。一方、第１の電極の高さ（厚さ）が２０μｍを超えると、セルギャップにバラつきが生じたり、あるいは、液晶表示装置の薄型化を図ることが困難になったりする場合があるためである。
また、隣接する第１の電極間の距離を２０〜５０μｍの範囲内の値とすることが好ましく、２２〜４５μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。すなわち、通常、シール材に含まれる導電性粒子の粒径が１０μｍ程度であることを考慮して、隣接する第１の電極間の距離を定めることが好ましい。
（６）配向膜
また、図２に示すように、第１の電極１９の上には、ポリイミド樹脂等からなる第１の配向膜２１７が形成されていることが好ましい。
この理由は、このような第１の配向膜２１７を設けることにより、第１の基板（カラーフィルタ基板）１２を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料２３２の配向性を電圧印加によって容易に実施することができるためである。
また、図２に示すように、第１の電極１９の上には、ポリイミド樹脂等からなる第１の配向膜２１７が形成されていることが好ましい。
この理由は、このような第１の配向膜２１７を設けることにより、第１の基板（カラーフィルタ基板）１２を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料２３２の配向性を電圧印加によって容易に実施することができるためである。
３．第２の基板
（１）基本構造
図１に示すように、第２の基板１４は、基本的に、透明な第２のガラス基板２７と、データ電極２６´や画素電極２０を含む第２の電極２６と、当該データ電極２６´と画素電極２０とを電気的接続するためのＴＦＤ素子３１と、から構成してあることが好ましい。
なお、図２に示すように、第２の電極２６上には、ポリイミド樹脂等からなる第２の配向膜２２４が形成されており、液晶材料の配向性の制御がなされている。
（１）基本構造
図１に示すように、第２の基板１４は、基本的に、透明な第２のガラス基板２７と、データ電極２６´や画素電極２０を含む第２の電極２６と、当該データ電極２６´と画素電極２０とを電気的接続するためのＴＦＤ素子３１と、から構成してあることが好ましい。
なお、図２に示すように、第２の電極２６上には、ポリイミド樹脂等からなる第２の配向膜２２４が形成されており、液晶材料の配向性の制御がなされている。
（２）第２の電極
また、第２の基板１４には、図３（ｂ）に示すように、データ電極２６´をストライプ状に配置するとともに、当該データ電極２６´に対して、ＴＦＤ素子３１を介して電気的接続されるように画素電極２０を配置して、第２の電極を構成してあることが好ましい。
すなわち、第２の電極２６は、図４にその概略平面図を示すように、素子動作が安定するため、第１のＴＦＤ素子３１ａと、第２のＴＦＤ素子３１ｂとが逆向きに直列配列された、いわゆるバックトウバック構造のＴＦＤ素子３１を含むことが好ましい。より具体的には、第２の電極２６は、これらのＴＦＤ素子３１の一方の端子に接続するデータ電極２６´と、複数のＴＦＤ素子３１の他方の端子に接続する画素電極２０とから構成してあることが好ましい。そして、上述のとおり、それぞれの画素電極は、第１の基板上の走査電極と重なるように配置されており、所望の画素電極と走査電極との間に電圧を印加することにより、表示領域に画像が表示されることとなる。
また、第２の電極２６は、図３（ｂ）に示すように、シール材２３０の外側であって、第１のガラス基板２７における基板張出し部１４Ｔまで延設されていることが好ましい。
なお、隣接する第２の電極間の距離や高さについては、上述した第１の電極と同様の内容とすることができる。
また、第２の基板１４には、図３（ｂ）に示すように、データ電極２６´をストライプ状に配置するとともに、当該データ電極２６´に対して、ＴＦＤ素子３１を介して電気的接続されるように画素電極２０を配置して、第２の電極を構成してあることが好ましい。
すなわち、第２の電極２６は、図４にその概略平面図を示すように、素子動作が安定するため、第１のＴＦＤ素子３１ａと、第２のＴＦＤ素子３１ｂとが逆向きに直列配列された、いわゆるバックトウバック構造のＴＦＤ素子３１を含むことが好ましい。より具体的には、第２の電極２６は、これらのＴＦＤ素子３１の一方の端子に接続するデータ電極２６´と、複数のＴＦＤ素子３１の他方の端子に接続する画素電極２０とから構成してあることが好ましい。そして、上述のとおり、それぞれの画素電極は、第１の基板上の走査電極と重なるように配置されており、所望の画素電極と走査電極との間に電圧を印加することにより、表示領域に画像が表示されることとなる。
また、第２の電極２６は、図３（ｂ）に示すように、シール材２３０の外側であって、第１のガラス基板２７における基板張出し部１４Ｔまで延設されていることが好ましい。
なお、隣接する第２の電極間の距離や高さについては、上述した第１の電極と同様の内容とすることができる。
４．段差部分とスリットとの位置関係
（１）一致性
図５に例示するように、液晶パネル３００のセル構造の内部に設けられるとともに、液晶材料３３０と直接的または間接的に接する段差部分３１７ｂと、第１の電極３１７に設けたスリット３１７ａとを、全面的または部分的に一致させることを特徴とする。すなわち、液晶表示装置において、画像の視覚特性等を向上させるために、第１の電極に含まれる走査電極または第２の電極に含まれる画素電極にスリットを形成して、配向制御をする場合があるが、かかる電極に設けられたスリットと、段差部分とを、全面的または部分的に一致させたものである。
この理由は、セル構造の内部の段差部分と、第１の電極に設けたスリットと、を全面的または部分的に一致させることにより、段差部分に起因して液晶材料の配向不良が発生した場合であっても、本来的に画像が表示されない電極のスリットを利用して、当該配向不良を視認させないようにできるためである。そして、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができ、結果として、コントラスト性に優れた液晶表示装置を提供することができる。より具体的には、例えば、かかる段差部分と、第１の電極のスリットとを２０〜１００％の範囲で、全面的または部分的に一致させることにより、各種液晶表示装置のコントラストを１〜３５％程度向上させることができることが判明している。
なお、図５は、開口部３１２ａを有する半透過反射層３１２によって形成されたすべての透過領域において、向かって右側の段差部分と、第１の電極３１７に設けたスリット３１７ａと、を一致させた例を示している。また、図５において、上述の図２中に示す部材と同一の部材であっても符号を変更してある場合がある。
（１）一致性
図５に例示するように、液晶パネル３００のセル構造の内部に設けられるとともに、液晶材料３３０と直接的または間接的に接する段差部分３１７ｂと、第１の電極３１７に設けたスリット３１７ａとを、全面的または部分的に一致させることを特徴とする。すなわち、液晶表示装置において、画像の視覚特性等を向上させるために、第１の電極に含まれる走査電極または第２の電極に含まれる画素電極にスリットを形成して、配向制御をする場合があるが、かかる電極に設けられたスリットと、段差部分とを、全面的または部分的に一致させたものである。
この理由は、セル構造の内部の段差部分と、第１の電極に設けたスリットと、を全面的または部分的に一致させることにより、段差部分に起因して液晶材料の配向不良が発生した場合であっても、本来的に画像が表示されない電極のスリットを利用して、当該配向不良を視認させないようにできるためである。そして、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができ、結果として、コントラスト性に優れた液晶表示装置を提供することができる。より具体的には、例えば、かかる段差部分と、第１の電極のスリットとを２０〜１００％の範囲で、全面的または部分的に一致させることにより、各種液晶表示装置のコントラストを１〜３５％程度向上させることができることが判明している。
なお、図５は、開口部３１２ａを有する半透過反射層３１２によって形成されたすべての透過領域において、向かって右側の段差部分と、第１の電極３１７に設けたスリット３１７ａと、を一致させた例を示している。また、図５において、上述の図２中に示す部材と同一の部材であっても符号を変更してある場合がある。
また、図５においては、第１の基板に段差部分が形成されるとともに、当該段差部分と、第１の電極に含まれる走査電極に設けたスリットとを一致させた例を示しているが、対向する第２の基板に段差部分が形成されるとともに、当該段差部分と、第２の電極に含まれる画素電極等のスリットとを一致させることも好ましく、あるいは、第１の基板に形成された段差部分と、第２の電極に含まれる画素電極等に設けたスリットと、を一致させることも好ましい。すなわち、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けられた、電極内部に開口を有する孔型や、電極のエッジ部から形成された切り欠き型などの形状を有するスリットと、配向不良の原因となる段差部分と、を一致させることにより、配向不良の一部を視認させないようにして、コントラスト性に優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、第１の電極のスリットとは、基本的には走査電極のスリットを意味し、第２の電極のスリットとは、基本的には画素電極のスリットを意味するが、それらに限られるものではなく、それ以外の電極に形成されるスリットを含む場合がある。
なお、第１の電極のスリットとは、基本的には走査電極のスリットを意味し、第２の電極のスリットとは、基本的には画素電極のスリットを意味するが、それらに限られるものではなく、それ以外の電極に形成されるスリットを含む場合がある。
ここで、図６（ａ）および（ｂ）を参照して、配向不良の認識面積の低下についてより詳細に説明する。図６（ａ）は、重ね合わせのブラックマトリクス等の段差部分（図示せず）と、第１の電極３１７（または第２の電極に含まれる画素電極等）に設けたスリット３１７ａと、が一部一致している例であって、図６（ｂ）は、同様の段差部分（図示せず）と、第１の電極３１７または第２の電極に設けたスリットとが全く一致していない例である。図６（ａ）および（ｂ）において、段差部分と平面的に重なる位置に電極のスリットを設けていない箇所では、配向不良２３２が点状列として認識されている。
図６（ａ）に示す例では、段差部分と、電極に設けたスリットとを一部一致させているために、かかる段差部分に相当する領域においては、液晶材料の配向不良が視認されることがない。すなわち、電極のスリットが設けられた領域においては、もともと表示が認識されることがないために、段差部分に配向不良が発生した場合であっても、かかる配向不良が視認されないこととなる。また、このように構成することにより、画像非認識領域と配向不良領域との合計面積を相対的に減少させることもできる。そして、このように構成した場合には、液晶材料の配向不良２３２の認識面積を相対的に低下させることができるために、液晶材料の配向不良２３２の影響を少なくして、コントラスト性を向上させることができることも理解できる。より具体的には、図６（ａ）に示すように、段差部分（図示せず）の片側と、電極に設けたスリット３１７ａとを一致（約５０％の一致）させることにより、図６（ｂ）に示すように、段差部分（図示せず）と、電極に設けたスリット３１７ａとが全く一致していない場合と比較して、液晶表示装置におけるコントラストが５〜１５％程度向上することが判明している。
それに対して、図６（ｂ）に示す例では、図６（ａ）の場合と比較して、画像非認識領域である電極のスリット３１７ａが設けられた領域の面積自体は差がないものの、点状列として認識される、段差部分による液晶材料の配向不良２３２´が発生した領域（配向不良領域）の面積は広くなっている。したがって、有効な表示領域での画像認識領域（配向正常領域）の面積が狭くなっており、また、液晶材料の配向不良２３２の影響を受けて、コントラスト性が低くなることが理解できる。
図６（ａ）に示す例では、段差部分と、電極に設けたスリットとを一部一致させているために、かかる段差部分に相当する領域においては、液晶材料の配向不良が視認されることがない。すなわち、電極のスリットが設けられた領域においては、もともと表示が認識されることがないために、段差部分に配向不良が発生した場合であっても、かかる配向不良が視認されないこととなる。また、このように構成することにより、画像非認識領域と配向不良領域との合計面積を相対的に減少させることもできる。そして、このように構成した場合には、液晶材料の配向不良２３２の認識面積を相対的に低下させることができるために、液晶材料の配向不良２３２の影響を少なくして、コントラスト性を向上させることができることも理解できる。より具体的には、図６（ａ）に示すように、段差部分（図示せず）の片側と、電極に設けたスリット３１７ａとを一致（約５０％の一致）させることにより、図６（ｂ）に示すように、段差部分（図示せず）と、電極に設けたスリット３１７ａとが全く一致していない場合と比較して、液晶表示装置におけるコントラストが５〜１５％程度向上することが判明している。
それに対して、図６（ｂ）に示す例では、図６（ａ）の場合と比較して、画像非認識領域である電極のスリット３１７ａが設けられた領域の面積自体は差がないものの、点状列として認識される、段差部分による液晶材料の配向不良２３２´が発生した領域（配向不良領域）の面積は広くなっている。したがって、有効な表示領域での画像認識領域（配向正常領域）の面積が狭くなっており、また、液晶材料の配向不良２３２の影響を受けて、コントラスト性が低くなることが理解できる。
また、段差部分と、第１の電極における隣接する電極の間隙、すなわち、ギャップと、を部分的に一致させることも好ましい。例えば、図７に示すように、画素の片側に形成され、配向不良が生じている段差部分（図示せず）と、第１の電極に設けたスリット３１７ａとを部分的に一致させるとともに、画素のもう一方の片側に形成され、配向不良が生じている段差部分（図示せず）と、第１の電極のギャップ３１７ｃと、をさらに一致させることも好ましい。
この理由は、このように第１の電極のスリットのみならず、ギャップについても配向不良が生じている段差部分（図示せず）と一致させることにより、画像が表示されないギャップを利用して、当該段差部分に相当する領域の液晶材料に配向不良が発生した場合であっても、視認されないようにすることができるためである。
したがって、図７に示すように、段差部分において、画像非認識領域である第１の電極に設けたスリット３１７ａおよび第１の電極のギャップ３１７ｃによって、それぞれ液晶材料に配向不良が発生した場合であっても、視認されないようにすることができる。すなわち、有効な表示領域での液晶材料の配向不良２３２の認識面積をさらに相対的に低下することができ、コントラスト性をより向上させることができる。
この理由は、このように第１の電極のスリットのみならず、ギャップについても配向不良が生じている段差部分（図示せず）と一致させることにより、画像が表示されないギャップを利用して、当該段差部分に相当する領域の液晶材料に配向不良が発生した場合であっても、視認されないようにすることができるためである。
したがって、図７に示すように、段差部分において、画像非認識領域である第１の電極に設けたスリット３１７ａおよび第１の電極のギャップ３１７ｃによって、それぞれ液晶材料に配向不良が発生した場合であっても、視認されないようにすることができる。すなわち、有効な表示領域での液晶材料の配向不良２３２の認識面積をさらに相対的に低下することができ、コントラスト性をより向上させることができる。
また、図５に例示するように、セル構造の内部に設けられた段差部分３１７ｂにテーパを設けて、斜面とすることが好ましい。
この理由は、このような段差部分とすることにより、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットを精度良く形成することができるためである。逆に言うと、テーパが設けられておらず、段差部分が垂直壁であるとすると、第１の電極等に設けたスリットを形成するためのレジストを精度良く、かつ優れた密着力を有するように形成することが困難であり、結果として、かかるスリットを精度良く形成することが困難なためである。
したがって、段差部分３１７ｂにテーパを設けることにより、電極に設けたスリットと、段差部分とを正確に一致させることができ、結果として、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
なお、テーパを設けるにあたって、より具体的には、テーパ（斜面）の角度を４５〜８５°の範囲内の値とすることが好ましく、テーパの角度を５０〜８０°の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
この理由は、このような段差部分とすることにより、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットを精度良く形成することができるためである。逆に言うと、テーパが設けられておらず、段差部分が垂直壁であるとすると、第１の電極等に設けたスリットを形成するためのレジストを精度良く、かつ優れた密着力を有するように形成することが困難であり、結果として、かかるスリットを精度良く形成することが困難なためである。
したがって、段差部分３１７ｂにテーパを設けることにより、電極に設けたスリットと、段差部分とを正確に一致させることができ、結果として、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
なお、テーパを設けるにあたって、より具体的には、テーパ（斜面）の角度を４５〜８５°の範囲内の値とすることが好ましく、テーパの角度を５０〜８０°の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
また、段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとを一致させるに際して、段差部分の幅を、第１の電極または第２の電極におけるスリットの幅よりも狭くすることが好ましい。
この理由は、このように段差部分の幅と、電極に設けたスリットの幅を関連付けることにより、電極に設けたスリットによって、液晶材料の配向不良を十分に覆うことができるためである。したがって、このように段差部分の幅と、電極に設けたスリットの幅を関連付けることにより、有効な表示領域での配向不良を効果的に低減させることができる。
ただし、液晶材料の配向不良の幅がライン状に形成された場合、その幅は、段差部分の幅よりも０．５〜１μｍ程度大きい場合がある。
したがって、段差部分の幅を、第１の電極に含まれる走査電極または第２の電極に含まれる画素電極等におけるスリットの幅よりも、少なくとも１〜２μｍ狭くすることがより好ましく、２．５〜３μｍ程度狭くすることがより好ましい。
この理由は、このように段差部分の幅と、電極に設けたスリットの幅を関連付けることにより、電極に設けたスリットによって、液晶材料の配向不良を十分に覆うことができるためである。したがって、このように段差部分の幅と、電極に設けたスリットの幅を関連付けることにより、有効な表示領域での配向不良を効果的に低減させることができる。
ただし、液晶材料の配向不良の幅がライン状に形成された場合、その幅は、段差部分の幅よりも０．５〜１μｍ程度大きい場合がある。
したがって、段差部分の幅を、第１の電極に含まれる走査電極または第２の電極に含まれる画素電極等におけるスリットの幅よりも、少なくとも１〜２μｍ狭くすることがより好ましく、２．５〜３μｍ程度狭くすることがより好ましい。
また、段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとを一致させるに際して、電極に設けたスリットの幅を１〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このような電極に設けたスリットの幅とすることにより、段差部分に配向不良が発生した場合であっても、確実に視認されないようにすることができるためである。すなわち、段差部分にテーパを設けた場合であっても、その幅としては、１〜２μｍ程度の場合が多く、電極に設けたスリットの幅が１〜１０μｍであれば、当該領域の液晶材料に配向不良が発生した場合であっても、視認されないようにすることができる。
また、このような電極に設けたスリットの幅であれば、液晶材料の配向性を適切に制御することができるためである。
この理由は、このような電極に設けたスリットの幅とすることにより、段差部分に配向不良が発生した場合であっても、確実に視認されないようにすることができるためである。すなわち、段差部分にテーパを設けた場合であっても、その幅としては、１〜２μｍ程度の場合が多く、電極に設けたスリットの幅が１〜１０μｍであれば、当該領域の液晶材料に配向不良が発生した場合であっても、視認されないようにすることができる。
また、このような電極に設けたスリットの幅であれば、液晶材料の配向性を適切に制御することができるためである。
また、段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとを一致させるに際して、図８（ａ）および（ｂ）に示すように、負の誘電率異方性を有する垂直配向用の液晶材料２３２を使用することが好ましい。
この理由は、電圧非印加箇所において配向して非透過状態となる、いわゆるノーマリーブラックモードに適した垂直配向用の液晶材料を使用することにより、視覚特性が向上するとともに、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させて、コントラストについても向上させることができるためである。
逆に言うと、垂直配向用の液晶材料でなく、ノーマリーホワイトモードに適した液晶材料を使用した場合には、電圧印加箇所において配向して非透過状態となるため、有効な表示領域での配向不良が生じやすくなるばかりか、電極に設けたスリットとを一致させることが困難となる場合があるためである。
また、図８（ａ）および（ｂ）に示す負の誘電率異方性を有する垂直配向用の液晶材料２３２を使用するとともに、電極における電極１９、２０の形態を考慮することにより、図９（ａ）に矢印Ａで示すように、電極間に斜め電界を発生させることができる。より具体的には、第１の電極１９における走査電極または第２の電極２６における画素電極２０が、全体として多角形状または円状をなすとともに、その内部にスリット以外に、非電極形成部２０´を設けることが好ましい。あるいは、図１０に示すように、第１の電極または第２の電極の電極形状に対応させて、電極が存在しないスリット３１７ａを形成し、さらに、電極のほぼ中央付近に、電極が存在しない非電極形成部２０ｃを設けることが好ましい。
この理由は、例えば、図９（ｂ）に示すように、第１の電極１９における走査電極または第２の電極２６における画素電極２０を全体として多角形状または円状とするだけでは、図９（ａ）に矢印Ａ´で示すように、電極１９、２０の間に、効果的に斜め電界が発生しない場合があるためである。
したがって、非電極形成部２０´の外形を円形、楕円形、多角形状等にするとともに、電極が実質的に存在しない箇所を、第１の電極１９における走査電極または第２の電極２６における画素電極２０の中心付近に形成することが好ましい。
なお、垂直配向とは、基本的には、液晶材料が基板に対して垂直方向に立った状態を意味するが、例えば、図８（ａ）に示す配向突起３２０ａや、スリット等によって配向制御した場合において、斜め方向に傾いて立った状態も含むものとする。
この理由は、電圧非印加箇所において配向して非透過状態となる、いわゆるノーマリーブラックモードに適した垂直配向用の液晶材料を使用することにより、視覚特性が向上するとともに、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させて、コントラストについても向上させることができるためである。
逆に言うと、垂直配向用の液晶材料でなく、ノーマリーホワイトモードに適した液晶材料を使用した場合には、電圧印加箇所において配向して非透過状態となるため、有効な表示領域での配向不良が生じやすくなるばかりか、電極に設けたスリットとを一致させることが困難となる場合があるためである。
また、図８（ａ）および（ｂ）に示す負の誘電率異方性を有する垂直配向用の液晶材料２３２を使用するとともに、電極における電極１９、２０の形態を考慮することにより、図９（ａ）に矢印Ａで示すように、電極間に斜め電界を発生させることができる。より具体的には、第１の電極１９における走査電極または第２の電極２６における画素電極２０が、全体として多角形状または円状をなすとともに、その内部にスリット以外に、非電極形成部２０´を設けることが好ましい。あるいは、図１０に示すように、第１の電極または第２の電極の電極形状に対応させて、電極が存在しないスリット３１７ａを形成し、さらに、電極のほぼ中央付近に、電極が存在しない非電極形成部２０ｃを設けることが好ましい。
この理由は、例えば、図９（ｂ）に示すように、第１の電極１９における走査電極または第２の電極２６における画素電極２０を全体として多角形状または円状とするだけでは、図９（ａ）に矢印Ａ´で示すように、電極１９、２０の間に、効果的に斜め電界が発生しない場合があるためである。
したがって、非電極形成部２０´の外形を円形、楕円形、多角形状等にするとともに、電極が実質的に存在しない箇所を、第１の電極１９における走査電極または第２の電極２６における画素電極２０の中心付近に形成することが好ましい。
なお、垂直配向とは、基本的には、液晶材料が基板に対して垂直方向に立った状態を意味するが、例えば、図８（ａ）に示す配向突起３２０ａや、スリット等によって配向制御した場合において、斜め方向に傾いて立った状態も含むものとする。
なお、画素電極等の電極が、全体として多角形状または円状をなす場合、例えば、図１０（ｂ）に示すように、画素ごとに２〜５個の多角形状領域または円状領域２０ａを形成し、電気接続箇所２０ｂを介してそれらを直列的に電気的接続することがより好ましい。
この理由は、このような形態の画素電極等とすることにより、一つの画素において、液晶材料の配向制御が容易になるとともに、斜め電界をさらに効率的に発生させることができるためである。
一方、図１３に示すように、画素ごとに第１の電極における走査電極または第２の電極２６における画素電極２０が、一つの多角形状または円状をなすとともに、一部にスリット３１７ａが形成してあり、それぞれ液晶材料（図示せず）をはさんで配置することも好ましい。
この理由は、このような形態の画素電極等とすることにより、一つの画素において、液晶材料の配向制御が容易になるとともに、斜め電界をさらに効率的に発生させることができるためである。
一方、図１３に示すように、画素ごとに第１の電極における走査電極または第２の電極２６における画素電極２０が、一つの多角形状または円状をなすとともに、一部にスリット３１７ａが形成してあり、それぞれ液晶材料（図示せず）をはさんで配置することも好ましい。
（２）マルチギャップによる段差部分
セル構造の内部に設けられた段差部分が、上述した図５に示すように、液晶材料におけるリタデーションを調整するためのマルチギャップによる段差部分であることが好ましい。すなわち、反射領域および透過領域の双方でリタデーションの最適化を図ることができ、画像表示の視認性を向上させることができるためである。
より具体的には、半透過反射型の液晶表示装置では、図５に示すように、開口部３１２ａを有する半透過反射層３１２によって反射領域と透過領域が形成される。そして、透過モードで表示を行う際には、液晶パネル３００に入射した光が、液晶層３３０を１回のみ通過して外部に出射されるのに対して、反射モードで表示を行う際には、液晶パネル３００に入射した光が、反射層３１２によって反射される前後２回にわたり液晶層３３０を通過して外部に出射される。そして、画像表示の視認性を向上させるためには、液晶層３１２における屈折率の差と、液晶層３１２の層厚の積であるリタデーションを適正化することが効果的である。しかし、反射領域と透過領域とでは、液晶層３１２を通過する回数が異なるために、すべての領域においてセルギャップを均一化した構造では、双方のリタデーションを最適化することができない。したがって、反射領域と透過領域とでセルギャップが異なるマルチギャップ構造とすることにより、双方の領域のリタデーションを同時に最適化することができる。
ただし、かかるマルチギャップ構造を構成した場合には、反射領域と透過領域の境界線に沿って、段差部分が形成されることとなるために、かかる段差部分に起因して、液晶材料に配向不良が発生する場合がある。
したがって、リタデーションを調整するためのマルチギャップ構造を構成する段差部分と、配向制御するために第１の電極等に設けたスリットとを一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の発生を相対的に低減させることができる。
したがって、本発明によれば、リタデーションの調整と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
セル構造の内部に設けられた段差部分が、上述した図５に示すように、液晶材料におけるリタデーションを調整するためのマルチギャップによる段差部分であることが好ましい。すなわち、反射領域および透過領域の双方でリタデーションの最適化を図ることができ、画像表示の視認性を向上させることができるためである。
より具体的には、半透過反射型の液晶表示装置では、図５に示すように、開口部３１２ａを有する半透過反射層３１２によって反射領域と透過領域が形成される。そして、透過モードで表示を行う際には、液晶パネル３００に入射した光が、液晶層３３０を１回のみ通過して外部に出射されるのに対して、反射モードで表示を行う際には、液晶パネル３００に入射した光が、反射層３１２によって反射される前後２回にわたり液晶層３３０を通過して外部に出射される。そして、画像表示の視認性を向上させるためには、液晶層３１２における屈折率の差と、液晶層３１２の層厚の積であるリタデーションを適正化することが効果的である。しかし、反射領域と透過領域とでは、液晶層３１２を通過する回数が異なるために、すべての領域においてセルギャップを均一化した構造では、双方のリタデーションを最適化することができない。したがって、反射領域と透過領域とでセルギャップが異なるマルチギャップ構造とすることにより、双方の領域のリタデーションを同時に最適化することができる。
ただし、かかるマルチギャップ構造を構成した場合には、反射領域と透過領域の境界線に沿って、段差部分が形成されることとなるために、かかる段差部分に起因して、液晶材料に配向不良が発生する場合がある。
したがって、リタデーションを調整するためのマルチギャップ構造を構成する段差部分と、配向制御するために第１の電極等に設けたスリットとを一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の発生を相対的に低減させることができる。
したがって、本発明によれば、リタデーションの調整と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
また、図５に示すマルチギャップによる段差部分は、反射領域における着色層３１４（３１４Ｒ、３１４Ｇ、３１４Ｂ）の厚さと、透過領域における着色層３１３（３１３Ｒ、３１３Ｇ、３１３Ｂ）の厚さとの調整によって設けてあるが、かかる着色層の厚さの調整に制限されることなく、後述する層間絶縁膜等の厚さの調節によっても、マルチギャップ構造を構成することができる。
すなわち、例えば、上述したように垂直配向用液晶材料を用いて、ノーマリーブラックモードの液晶表示装置を構成する場合、まず、図１０（ａ）に示すように、多角形状の露出部を有する層間絶縁膜や保護層３１６を形成することが好ましい。次いで、エッチング等により、図１０（ｂ）に示すような形態の複数の多角形状領域２０ａ、スリット３１７ａおよび非電極形成部２０ｃを形成する。
したがって、図１０（ｃ）に示すように、層間絶縁膜や保護層３１６の上に所定形状の電極が形成され、図１１にその断面図を示すように、スリット３１７ａおよび非電極形成部２０ｃを備えた光透過部に対応した電極と、非電極形成部２０ｃのみを備えた電極を有するマルチギャップ構造を構成することもできる。
なお、図１２に別の態様のマルチギャップによる段差部分を示すが、ＴＦＤ素子３１が設けてある基板側の電極に連なる画素電極２０を、複数の多角形状領域または円状領域から形成するとともに、画素電極２０を一部露出させた層間絶縁膜や保護層３１６を形成して、マルチギャップ構造を構成することも好ましい。
すなわち、半透過反射型の液晶表示装置における反射領域においては、画素電極２０上に層間絶縁膜や保護層３１６を形成して、セルギャップを狭くするとともに、透過領域においては、画素電極２０上に層間絶縁膜や保護層３１６を形成せず、セルギャップを広くして、液晶材料のリタデーションを調整することが好ましい。
そして、図示しないものの、画素電極２０の一部と、層間絶縁膜や保護層３１６の段差部分とが重なる場合には、それに対応させて、画素電極２０の一部にスリットを設けることが好ましい。
すなわち、例えば、上述したように垂直配向用液晶材料を用いて、ノーマリーブラックモードの液晶表示装置を構成する場合、まず、図１０（ａ）に示すように、多角形状の露出部を有する層間絶縁膜や保護層３１６を形成することが好ましい。次いで、エッチング等により、図１０（ｂ）に示すような形態の複数の多角形状領域２０ａ、スリット３１７ａおよび非電極形成部２０ｃを形成する。
したがって、図１０（ｃ）に示すように、層間絶縁膜や保護層３１６の上に所定形状の電極が形成され、図１１にその断面図を示すように、スリット３１７ａおよび非電極形成部２０ｃを備えた光透過部に対応した電極と、非電極形成部２０ｃのみを備えた電極を有するマルチギャップ構造を構成することもできる。
なお、図１２に別の態様のマルチギャップによる段差部分を示すが、ＴＦＤ素子３１が設けてある基板側の電極に連なる画素電極２０を、複数の多角形状領域または円状領域から形成するとともに、画素電極２０を一部露出させた層間絶縁膜や保護層３１６を形成して、マルチギャップ構造を構成することも好ましい。
すなわち、半透過反射型の液晶表示装置における反射領域においては、画素電極２０上に層間絶縁膜や保護層３１６を形成して、セルギャップを狭くするとともに、透過領域においては、画素電極２０上に層間絶縁膜や保護層３１６を形成せず、セルギャップを広くして、液晶材料のリタデーションを調整することが好ましい。
そして、図示しないものの、画素電極２０の一部と、層間絶縁膜や保護層３１６の段差部分とが重なる場合には、それに対応させて、画素電極２０の一部にスリットを設けることが好ましい。
（３）遮光層による段差部分
セル構造の内部に設けられた段差部分が、図１４（ａ）に示すように、遮光層（ブラックマトリクス）３１３による段差部分３１７ｂであることが好ましい。
すなわち、隣接する画素間において、光の混色を防止するために、遮光層３１８を設けている。そして、工程数を減少させるために、ＲＧＢ等に対応した着色層３１８Ｒ、３１８Ｇ、３１８Ｂを形成する際に、それぞれのいくつかの層を重ねて、遮光層を構成する場合がある。したがって、そのような重ね合わせ構造による遮光層３１８を形成した場合、高さが他の着色層よりも高くなるため、端部に段差部分３１７ｂが生じることになる。
よって、隣接する画素間において、重ね合わせ構造の遮光層３１８を設けることにより、配向不良が生じた場合であっても、かかる配向不良（図示せず）と、第１の電極等に設けたスリット３１７ａとを一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
逆に、図１４（ｂ）に示すように、重ね合わせ構造による遮光層３１８´を設けて、それに起因した配向不良（図示せず）と、第１の電極等に設けたスリット３１７ａ´とが、全く一致していない場合には、有効な表示領域での配向不良の認識を低減させることができないことが理解される。
したがって、本発明によれば、図１４（ａ）に示すように構成することにより、遮光層３１８による混色防止効果と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
セル構造の内部に設けられた段差部分が、図１４（ａ）に示すように、遮光層（ブラックマトリクス）３１３による段差部分３１７ｂであることが好ましい。
すなわち、隣接する画素間において、光の混色を防止するために、遮光層３１８を設けている。そして、工程数を減少させるために、ＲＧＢ等に対応した着色層３１８Ｒ、３１８Ｇ、３１８Ｂを形成する際に、それぞれのいくつかの層を重ねて、遮光層を構成する場合がある。したがって、そのような重ね合わせ構造による遮光層３１８を形成した場合、高さが他の着色層よりも高くなるため、端部に段差部分３１７ｂが生じることになる。
よって、隣接する画素間において、重ね合わせ構造の遮光層３１８を設けることにより、配向不良が生じた場合であっても、かかる配向不良（図示せず）と、第１の電極等に設けたスリット３１７ａとを一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
逆に、図１４（ｂ）に示すように、重ね合わせ構造による遮光層３１８´を設けて、それに起因した配向不良（図示せず）と、第１の電極等に設けたスリット３１７ａ´とが、全く一致していない場合には、有効な表示領域での配向不良の認識を低減させることができないことが理解される。
したがって、本発明によれば、図１４（ａ）に示すように構成することにより、遮光層３１８による混色防止効果と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
（４）配向突起による段差部分
セル構造の内部に設けられた段差部分が、図１５（ａ）に示すように、配向制御のための配向突起３２０ａによる段差部分であることが好ましい。
すなわち、液晶材料の配向性は、主として配向膜によって制御されているが、さらにその配向性を高めるために、配向膜の表面に、三角錐等の断面形状を有する配向突起を設ける場合がある。したがって、そのような配向突起を設けた場合、所定の高さを有するため、端部に段差部分が生じることになる。
よって、図１５（ａ）に示すように、配向制御のための配向突起３２０ａを設けることに起因して、配向不良が生じた場合であっても、かかる配向不良（図示せず）と、第１の電極または第２の電極に設けたスリット３２１ａと、を一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
逆に、図１５（ｂ）に示すように、配向制御のための配向突起３２０ａ´を設けて、それに起因した配向不良（図示せず）と、第１の電極等に設けたスリット３２１ａ´とが、全く一致していない場合には、有効な表示領域での配向不良の認識を低減させることができないことになる。
したがって、本発明によれば、図１５（ａ）に示すように構成することにより、配向制御のための配向突起３２０ａによる液晶材料の配向性の向上と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、上述したように垂直配向用の液晶材料を用いて、ノーマリーブラックモードの液晶表示装置を構成する場合には、垂直配向用の液晶材料を、複数のドメインごとに配向制御することが可能になるため、かかる配向制御のための配向突起を設けることが極めて有効である。
セル構造の内部に設けられた段差部分が、図１５（ａ）に示すように、配向制御のための配向突起３２０ａによる段差部分であることが好ましい。
すなわち、液晶材料の配向性は、主として配向膜によって制御されているが、さらにその配向性を高めるために、配向膜の表面に、三角錐等の断面形状を有する配向突起を設ける場合がある。したがって、そのような配向突起を設けた場合、所定の高さを有するため、端部に段差部分が生じることになる。
よって、図１５（ａ）に示すように、配向制御のための配向突起３２０ａを設けることに起因して、配向不良が生じた場合であっても、かかる配向不良（図示せず）と、第１の電極または第２の電極に設けたスリット３２１ａと、を一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
逆に、図１５（ｂ）に示すように、配向制御のための配向突起３２０ａ´を設けて、それに起因した配向不良（図示せず）と、第１の電極等に設けたスリット３２１ａ´とが、全く一致していない場合には、有効な表示領域での配向不良の認識を低減させることができないことになる。
したがって、本発明によれば、図１５（ａ）に示すように構成することにより、配向制御のための配向突起３２０ａによる液晶材料の配向性の向上と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、上述したように垂直配向用の液晶材料を用いて、ノーマリーブラックモードの液晶表示装置を構成する場合には、垂直配向用の液晶材料を、複数のドメインごとに配向制御することが可能になるため、かかる配向制御のための配向突起を設けることが極めて有効である。
（５）層間絶縁膜による段差部分
セル構造の内部に設けられた段差部分が、図１６に示すように、層間絶縁膜４１５による段差部分４１７ｂであることが好ましい。
すなわち、セル内の電気絶縁性や機械的強度を高める等の理由から、所定箇所に層間絶縁膜４１５を設ける場合がある。この層間絶縁膜４１５において、下地等の影響により、端部に段差部分４１７ｂが生じる場合がある。
よって、層間絶縁膜４１５を設けることに起因して、配向不良（図示せず）が生じた場合であっても、かかる配向不良と、第１の電極等に設けたスリット４１７ａと、を一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
したがって、本発明によれば、図１６に示すように構成することにより、層間絶縁膜４１５による電気絶縁性や機械的特性の向上と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、図１６中、上述した図２や図１４等に関連して説明した部材と同一の部材であっても異なる符合を付してある場合があるが、それらについては説明が重複するために、ここでの説明は省略する。
セル構造の内部に設けられた段差部分が、図１６に示すように、層間絶縁膜４１５による段差部分４１７ｂであることが好ましい。
すなわち、セル内の電気絶縁性や機械的強度を高める等の理由から、所定箇所に層間絶縁膜４１５を設ける場合がある。この層間絶縁膜４１５において、下地等の影響により、端部に段差部分４１７ｂが生じる場合がある。
よって、層間絶縁膜４１５を設けることに起因して、配向不良（図示せず）が生じた場合であっても、かかる配向不良と、第１の電極等に設けたスリット４１７ａと、を一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
したがって、本発明によれば、図１６に示すように構成することにより、層間絶縁膜４１５による電気絶縁性や機械的特性の向上と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、図１６中、上述した図２や図１４等に関連して説明した部材と同一の部材であっても異なる符合を付してある場合があるが、それらについては説明が重複するために、ここでの説明は省略する。
（６）フォトスペーサによる段差部分
セル構造の内部に設けられた段差部分が、図１７（ａ）に示すように、フォトスペーサ５１８による段差部分であることが好ましい。
すなわち、セル内の厚さを均一化して、画像表示むらを少なくするために、通常スペーサを配置するが、その配置性や製造プロセスを向上させるために、光硬化性材料からなるフォトスペーサ５１８を、遮蔽層５１３等の上に設ける場合がある。このフォトスペーサ５１８は、所定の高さを有するため、段差部分が生じることになる。
よって、セル内の厚さを均一化するためのフォトスペーサ５１８を設けることに起因して、配向不良が生じた場合であっても、かかる配向不良（図示せず）と、第１の電極等に設けたスリット５１７ａと、を一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
逆に、図１７（ｂ）に示すように、フォトスペーサ５１８´を設けて、それに起因した配向不良（図示せず）と、第１の電極または第２の電極に設けたスリット３２１ａ´とが、全く一致していない場合には、有効な表示領域での配向不良の認識を低減させることができないことになる。
したがって、本発明によれば、図１７（ａ）に示すように構成することにより、フォトスペーサによる、画像表示むらの低減と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、図１７においても、上述した図２や図１４等に関連して説明した部材と同一の部材であっても異なる符合を付してある場合があるが、それらについては説明が重複するために、ここでの説明は省略する。
セル構造の内部に設けられた段差部分が、図１７（ａ）に示すように、フォトスペーサ５１８による段差部分であることが好ましい。
すなわち、セル内の厚さを均一化して、画像表示むらを少なくするために、通常スペーサを配置するが、その配置性や製造プロセスを向上させるために、光硬化性材料からなるフォトスペーサ５１８を、遮蔽層５１３等の上に設ける場合がある。このフォトスペーサ５１８は、所定の高さを有するため、段差部分が生じることになる。
よって、セル内の厚さを均一化するためのフォトスペーサ５１８を設けることに起因して、配向不良が生じた場合であっても、かかる配向不良（図示せず）と、第１の電極等に設けたスリット５１７ａと、を一致させることにより、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができる。
逆に、図１７（ｂ）に示すように、フォトスペーサ５１８´を設けて、それに起因した配向不良（図示せず）と、第１の電極または第２の電極に設けたスリット３２１ａ´とが、全く一致していない場合には、有効な表示領域での配向不良の認識を低減させることができないことになる。
したがって、本発明によれば、図１７（ａ）に示すように構成することにより、フォトスペーサによる、画像表示むらの低減と相俟って、よりコントラストに優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、図１７においても、上述した図２や図１４等に関連して説明した部材と同一の部材であっても異なる符合を付してある場合があるが、それらについては説明が重複するために、ここでの説明は省略する。
５．製造方法
図１８〜図２０を参照しながら、第１実施形態の液晶表示装置の製造方法について、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置を例に採って、詳細に説明する。
図１８〜図２０を参照しながら、第１実施形態の液晶表示装置の製造方法について、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置を例に採って、詳細に説明する。
（１）第１の基板の製造
（１）−１ カラーフィルタの形成
図１８（ａ）に示すように、第１のガラス基板上には、画像表示領域に相当する箇所に、開口部２１２ａを備えた反射層２１２、および着色層１６ｒ、１６ｇ、１６ｂ、遮光層１８を順次形成することが好ましい。すなわち、反射半透過型の液晶表示装置として、将来的に開口部２１２ａを介して、透過モードでカラー画像表示するとともに、反射層２１２を利用して、反射モードでカラー画像表示するためである。
ここで、開口部２１２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を第２のガラス基板１３上に形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングすることにより形成される。
次いで、例えば、顔料や染料等の着色剤を分散させた感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって、カラーフィルタ２１４を形成することが好ましい。すなわち、複数の着色層１６ｒ、１６ｇ、１６ｂおよび遮光層１８を形成して、カラーフィルタ２１４とすることができる。
なお、遮光層１８を形成するにあたって、複数の着色層１６ｒ、１６ｇ、１６ｂを重ね合わせて構成しても良く、あるいは、カーボン等の黒色材料を使用して形成することも好ましい。
（１）−１ カラーフィルタの形成
図１８（ａ）に示すように、第１のガラス基板上には、画像表示領域に相当する箇所に、開口部２１２ａを備えた反射層２１２、および着色層１６ｒ、１６ｇ、１６ｂ、遮光層１８を順次形成することが好ましい。すなわち、反射半透過型の液晶表示装置として、将来的に開口部２１２ａを介して、透過モードでカラー画像表示するとともに、反射層２１２を利用して、反射モードでカラー画像表示するためである。
ここで、開口部２１２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を第２のガラス基板１３上に形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングすることにより形成される。
次いで、例えば、顔料や染料等の着色剤を分散させた感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって、カラーフィルタ２１４を形成することが好ましい。すなわち、複数の着色層１６ｒ、１６ｇ、１６ｂおよび遮光層１８を形成して、カラーフィルタ２１４とすることができる。
なお、遮光層１８を形成するにあたって、複数の着色層１６ｒ、１６ｇ、１６ｂを重ね合わせて構成しても良く、あるいは、カーボン等の黒色材料を使用して形成することも好ましい。
（１）−２ 保護膜の形成
次いで、図１８（ｂ）に示すように、表面保護層２１５を形成することが好ましい。
すなわち、第１の基板１２上に全面的に感光性樹脂２１５Ｘを塗布する。かかる感光性樹脂２１５Ｘは、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布されるが、かかる塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
次いで、図１８（ｃ）に示すように、塗布した感光性樹脂２１５Ｘに対して、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、表面保護層２１５を形成する。すなわち、乾燥、光硬化、熱硬化などの工程を経て、複数の色の着色層１６ｒ、１６ｇ、１６ｂの上に、所定のパターンを有する表面保護層２１５を形成することができる。
次いで、図１８（ｂ）に示すように、表面保護層２１５を形成することが好ましい。
すなわち、第１の基板１２上に全面的に感光性樹脂２１５Ｘを塗布する。かかる感光性樹脂２１５Ｘは、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布されるが、かかる塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
次いで、図１８（ｃ）に示すように、塗布した感光性樹脂２１５Ｘに対して、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、表面保護層２１５を形成する。すなわち、乾燥、光硬化、熱硬化などの工程を経て、複数の色の着色層１６ｒ、１６ｇ、１６ｂの上に、所定のパターンを有する表面保護層２１５を形成することができる。
（１）−３ 第１の電極の形成
次いで、図１８（ｄ）に示すように、保護膜２１５上に、全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体材料からなる透明導電層１９Ｘを形成することが好ましい。この透明導電層１９Ｘは、一例として、スパッタリング法により成膜することができる。そして、フォトリソグラフィ技術を用いて、透明導電層１９Ｘにパターニングを施し、図１８（ｅ）に示すように第１の電極１９を形成し、第１の基板１２とすることが好ましい。
なお、カラーフィルタ２１４等に起因した段差部分に対応させて、第１の電極１９にスリットを設ける場合には、透明導電層１９Ｘにパターニングする際に、同時に形成することが好ましい。
次いで、図１８（ｄ）に示すように、保護膜２１５上に、全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体材料からなる透明導電層１９Ｘを形成することが好ましい。この透明導電層１９Ｘは、一例として、スパッタリング法により成膜することができる。そして、フォトリソグラフィ技術を用いて、透明導電層１９Ｘにパターニングを施し、図１８（ｅ）に示すように第１の電極１９を形成し、第１の基板１２とすることが好ましい。
なお、カラーフィルタ２１４等に起因した段差部分に対応させて、第１の電極１９にスリットを設ける場合には、透明導電層１９Ｘにパターニングする際に、同時に形成することが好ましい。
（２）第２の基板の製造
図１９〜図２０を参照して、アクティブ素子（ＴＦＤ素子）の形成を含めて、第２の基板１４の製造方法を説明する。
まず、図１９（ａ）に示すように、ガラス基板２７上に、全面的に導電性の金属膜材料２６´をスパッタリング法等により積層する。このとき、図示しないが、ガラス基板と、金属膜材料との密着性を向上させることができることから、第２のガラス基板２７上に、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。
次いで、図１９（ｂ）に示すように、その上からレジスト材料８２を全面的に塗布する。その後、図１９（ｃ）に示すように、開口部８３ｂを有するフォトマスク８３を介して、例えば、開口部８３ｂに対応した位置のみに光を照射し、パターン露光する。その後、図１９（ｄ）に示すように現像して、マスクの開口部８３ｂに対応した箇所のみにレジスト８２´を残す。
図１９〜図２０を参照して、アクティブ素子（ＴＦＤ素子）の形成を含めて、第２の基板１４の製造方法を説明する。
まず、図１９（ａ）に示すように、ガラス基板２７上に、全面的に導電性の金属膜材料２６´をスパッタリング法等により積層する。このとき、図示しないが、ガラス基板と、金属膜材料との密着性を向上させることができることから、第２のガラス基板２７上に、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。
次いで、図１９（ｂ）に示すように、その上からレジスト材料８２を全面的に塗布する。その後、図１９（ｃ）に示すように、開口部８３ｂを有するフォトマスク８３を介して、例えば、開口部８３ｂに対応した位置のみに光を照射し、パターン露光する。その後、図１９（ｄ）に示すように現像して、マスクの開口部８３ｂに対応した箇所のみにレジスト８２´を残す。
次いで、図２０（ａ）に示すように、エッチング法により、レジスト２５´に被覆されていない箇所の金属膜材料２６´を除去した後、さらに図２０（ｂ）に示すように、レジスト８２´を除去して、パターン化された電気配線２６´を形成する。
次いで、図２０（ｃ）に示すように、かかる電気配線２６´の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜２３を形成する。より具体的には、電気配線２６´が形成されたガラス基板２７を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、電気配線２６´との間に所定電圧を印加して、電気配線２６´の表面を酸化させることができる。なお、酸化膜２３の厚さは適宜変更することができるが、通常、１０〜５０ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
次いで、図２０（ｄ）に示すように、酸化膜２３を有する電気配線２６´の上に、パターン化された電気配線２２を形成し、ＴＦＤ素子３１を作成した後、例えば、透明導電体材料からなる画素電極２０を形成することにより、第２の電極２６を備えた第２の基板１４とすることができる。
なお、ＴＦＤ素子等の上にフォトスペーサをさらに作成し、段差部分が将来的に形成される場合には、そのフォトスペーサに対応させて、パターン化された電気配線を形成する際に、スリットを同時に形成することが好ましい。
次いで、図２０（ｃ）に示すように、かかる電気配線２６´の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜２３を形成する。より具体的には、電気配線２６´が形成されたガラス基板２７を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、電気配線２６´との間に所定電圧を印加して、電気配線２６´の表面を酸化させることができる。なお、酸化膜２３の厚さは適宜変更することができるが、通常、１０〜５０ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
次いで、図２０（ｄ）に示すように、酸化膜２３を有する電気配線２６´の上に、パターン化された電気配線２２を形成し、ＴＦＤ素子３１を作成した後、例えば、透明導電体材料からなる画素電極２０を形成することにより、第２の電極２６を備えた第２の基板１４とすることができる。
なお、ＴＦＤ素子等の上にフォトスペーサをさらに作成し、段差部分が将来的に形成される場合には、そのフォトスペーサに対応させて、パターン化された電気配線を形成する際に、スリットを同時に形成することが好ましい。
（３）貼り合わせ工程
次いで、第２の基板に、例えば、エポキシ樹脂等を主成分とするシール材を、スクリーン印刷やディスペンサにより、表示領域を囲むようにパターニングする。
このとき、シール材が印刷された第２のガラス基板を低温処理（プリベーク）して、シール材中の溶剤を蒸発させることが好ましい。すなわち、シール材の硬化温度よりも低い温度条件で、減圧しながらプリベークすることが好ましい。例えば、３５〜７０℃程度の温度条件、５０〜９０ｋＰａの圧力条件の下で、実施することが好ましい。
さらに、シール材が積層された第２の基板と、第１の基板とを重ね合わせて接合させた後、加熱しながら加圧保持することにより、シール材を硬化させることにより、第１の基板と、第２の基板を貼合せることが好ましい。
次いで、第１の基板および第２の基板が形成する空間であって、シール材の内側部分に対して、液晶材料（液晶）を注入した後、封止材にて封止することにより、図１および図２に例示する液晶パネル２００とすることができる。
次いで、第２の基板に、例えば、エポキシ樹脂等を主成分とするシール材を、スクリーン印刷やディスペンサにより、表示領域を囲むようにパターニングする。
このとき、シール材が印刷された第２のガラス基板を低温処理（プリベーク）して、シール材中の溶剤を蒸発させることが好ましい。すなわち、シール材の硬化温度よりも低い温度条件で、減圧しながらプリベークすることが好ましい。例えば、３５〜７０℃程度の温度条件、５０〜９０ｋＰａの圧力条件の下で、実施することが好ましい。
さらに、シール材が積層された第２の基板と、第１の基板とを重ね合わせて接合させた後、加熱しながら加圧保持することにより、シール材を硬化させることにより、第１の基板と、第２の基板を貼合せることが好ましい。
次いで、第１の基板および第２の基板が形成する空間であって、シール材の内側部分に対して、液晶材料（液晶）を注入した後、封止材にて封止することにより、図１および図２に例示する液晶パネル２００とすることができる。
［第２実施形態］
第２実施形態は、図２１および図２２に示すように、三端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置６４１である。
なお、第２実施形態の説明において、第１実施形態と共通する内容については、適宜省略する。
第２実施形態は、図２１および図２２に示すように、三端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置６４１である。
なお、第２実施形態の説明において、第１実施形態と共通する内容については、適宜省略する。
（１）基本的構造
まず、図２１に例示する液晶装置６４１は、第１の基板６０２ｂと、第２の基板６０２ａとをそれらの周辺部においてシール材によって貼り合わせ、さらに、第１の基板６０２ｂ、第２の基板６０２ａおよびシール材によって囲まれる間隙すなわちセルギャップ内に液晶材料を封入して液晶層６０３を設けることによって形成することができる。
ここで、第２の基板６０２ａには、三端子型のスイッチング素子として機能するＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子６４２と、有機絶縁膜６４８を挟んで、ドレイン電極６４３に電気的接続された第２の電極（画素電極）６０５とを備えている。この第２の電極６０５の上には、配向膜６１０ａが形成され、この配向膜６１０ａに対してラビング処理が施されている。また、第２の電極６０５は、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等といった光反射性の導電材料によって形成されていることが好ましい。
まず、図２１に例示する液晶装置６４１は、第１の基板６０２ｂと、第２の基板６０２ａとをそれらの周辺部においてシール材によって貼り合わせ、さらに、第１の基板６０２ｂ、第２の基板６０２ａおよびシール材によって囲まれる間隙すなわちセルギャップ内に液晶材料を封入して液晶層６０３を設けることによって形成することができる。
ここで、第２の基板６０２ａには、三端子型のスイッチング素子として機能するＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子６４２と、有機絶縁膜６４８を挟んで、ドレイン電極６４３に電気的接続された第２の電極（画素電極）６０５とを備えている。この第２の電極６０５の上には、配向膜６１０ａが形成され、この配向膜６１０ａに対してラビング処理が施されている。また、第２の電極６０５は、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等といった光反射性の導電材料によって形成されていることが好ましい。
また、第１の基板６０２ｂ上には、着色層６２３と、その着色層６２３の上に形成された第１の電極（対向電極）６２４と、その第１の電極６２４の上に形成された配向膜６１０ｂとを備えている。
このうち、第１の電極６２４は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料によって、第１の基板６０２ｂの表面全域に形成された面状電極である。また、着色層６０３は、第１の基板６０２ａ側の第１の電極６０５に対向する位置にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）またはＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）等といった各色のいずれかの色フィルタエレメントを備えて構成されている。そして、画像表示の際のコントラストを向上させるために、着色層６２３の間隙であって、第２の電極６０５と垂直方向に重ならない箇所に、遮光膜６２２が設けられていることが好ましい。
このうち、第１の電極６２４は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料によって、第１の基板６０２ｂの表面全域に形成された面状電極である。また、着色層６０３は、第１の基板６０２ａ側の第１の電極６０５に対向する位置にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）またはＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）等といった各色のいずれかの色フィルタエレメントを備えて構成されている。そして、画像表示の際のコントラストを向上させるために、着色層６２３の間隙であって、第２の電極６０５と垂直方向に重ならない箇所に、遮光膜６２２が設けられていることが好ましい。
（２）ＴＦＴ素子
次いで、図２２を参照して、三端子型のスイッチング素子としてのＴＦＴ素子６４２の構造を説明する。
かかるＴＦＴ素子６４２は、第２の基板６０２ａ上に形成されたゲート電極６４６と、このゲート電極６４６の上で第２の基板６０２ａの全域に形成されたゲート絶縁膜６４７を備えている。そして、このゲート絶縁膜６４７を挟んで、ゲート電極６４６の上方位置に形成された半導体層６４９と、その半導体層６４９の一方の側にコンタクト電極６４５を介して形成されたソース電極６４４と、さらに半導体層６４９の他方の側にコンタクト電極６４４を介して形成されたドレイン電極６４３と、を備えている。
また、ゲート電極６４６はゲートバス配線６２９から延設されているとともに、ソース電極６４４は、ソースバス配線６２８から延設されている。かかるゲートバス配線６２９は、第２の基板６０２ａの横方向に延びていて、縦方向へ等間隔で平行に複数本形成されている。また、ソースバス配線６２８は、ゲート絶縁膜６４７を挟んでゲートバス配線６２９と交差するように縦方向へ延びており、横方向へ等間隔で平行に複数本形成されている。
そして、ゲートバス配線６２９は、駆動用半導体素子（図示せず）に接続されており、例えば、走査線として作用するとともに、ソースバス配線６２８は、他の駆動用半導体素子（図示せず）に接続されて、例えば信号線として作用している。
なお、画素電極（第２の電極）６０５は、互いに交差するゲートバス配線６２９と、ソースバス配線６２８とによって区画される領域のうち、ＴＦＴ素子６４２と垂直方向に重ならない箇所に形成されている。
次いで、図２２を参照して、三端子型のスイッチング素子としてのＴＦＴ素子６４２の構造を説明する。
かかるＴＦＴ素子６４２は、第２の基板６０２ａ上に形成されたゲート電極６４６と、このゲート電極６４６の上で第２の基板６０２ａの全域に形成されたゲート絶縁膜６４７を備えている。そして、このゲート絶縁膜６４７を挟んで、ゲート電極６４６の上方位置に形成された半導体層６４９と、その半導体層６４９の一方の側にコンタクト電極６４５を介して形成されたソース電極６４４と、さらに半導体層６４９の他方の側にコンタクト電極６４４を介して形成されたドレイン電極６４３と、を備えている。
また、ゲート電極６４６はゲートバス配線６２９から延設されているとともに、ソース電極６４４は、ソースバス配線６２８から延設されている。かかるゲートバス配線６２９は、第２の基板６０２ａの横方向に延びていて、縦方向へ等間隔で平行に複数本形成されている。また、ソースバス配線６２８は、ゲート絶縁膜６４７を挟んでゲートバス配線６２９と交差するように縦方向へ延びており、横方向へ等間隔で平行に複数本形成されている。
そして、ゲートバス配線６２９は、駆動用半導体素子（図示せず）に接続されており、例えば、走査線として作用するとともに、ソースバス配線６２８は、他の駆動用半導体素子（図示せず）に接続されて、例えば信号線として作用している。
なお、画素電極（第２の電極）６０５は、互いに交差するゲートバス配線６２９と、ソースバス配線６２８とによって区画される領域のうち、ＴＦＴ素子６４２と垂直方向に重ならない箇所に形成されている。
ここで、ゲートバス配線６２９およびゲート電極６４６は、電気特性や耐腐食性を考慮して、それぞれクロムやタンタル等の金属材料によって構成してあることが好ましい。また、ゲート絶縁膜６４７は、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮＸ）、酸化シリコン（ＳｉＯＸ）等によって構成してあることが好ましい。
また、半導体層６４９は、例えば、不純物をドープしたアモルファスシリコン（ドープトａ−Ｓｉ）、多結晶シリコン、ＣｄＳｅ等によって構成してあることが好ましい。また、コンタクト電極６４５は、例えば、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）等によって構成してあることが好ましい。
さらに、ソース電極６４４およびそれと一体的なソースバス配線６２８、ならびにドレイン電極６４３は、それぞれチタン、モリブデン、アルミニウム等によって構成してあることが好ましい。
また、半導体層６４９は、例えば、不純物をドープしたアモルファスシリコン（ドープトａ−Ｓｉ）、多結晶シリコン、ＣｄＳｅ等によって構成してあることが好ましい。また、コンタクト電極６４５は、例えば、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）等によって構成してあることが好ましい。
さらに、ソース電極６４４およびそれと一体的なソースバス配線６２８、ならびにドレイン電極６４３は、それぞれチタン、モリブデン、アルミニウム等によって構成してあることが好ましい。
なお、有機絶縁膜６４８は、ゲートバス配線６２９、ソースバス配線６２８およびＴＦＴ素子６４２を覆って第２の基板６０２ａ上の全域に形成されていることが好ましいが、ドレイン電極６４３に対応する箇所にはコンタクトホール６２６が形成してあることが好ましい。すなわち、このコンタクトホール６２６を介して、第２の電極６０５と、ＴＦＴ素子６４２のドレイン電極６４３と、の間の導通を採るためである。
また、有機絶縁膜６４８のうち第２の電極６０５が形成される領域には、山部と谷部との規則的なまたは不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンを形成することが好ましい。この理由は、下地としての有機絶縁膜６４８の上に積層される第２の電極６０５にも、凹凸パターンを形成することができるためである。したがって、第２の電極６０５を、適度に光散乱する反射パターンとして構成することができる。
すなわち、以上のようなＴＦＴ素子６４２を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置を構成することにより、走査信号およびデータ信号によって選択される第２の電極（画素電極）６０５と、第１の電極（対向電極）６２４との間に印加される電圧によって、画素毎に液晶材料の配向性を的確かつ高速で制御することができ、段部分に起因した配向不良の影響を抑制し、観察者側に文字、数字等といったコントラストに優れた画像表示を認識させることができる。
また、有機絶縁膜６４８のうち第２の電極６０５が形成される領域には、山部と谷部との規則的なまたは不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンを形成することが好ましい。この理由は、下地としての有機絶縁膜６４８の上に積層される第２の電極６０５にも、凹凸パターンを形成することができるためである。したがって、第２の電極６０５を、適度に光散乱する反射パターンとして構成することができる。
すなわち、以上のようなＴＦＴ素子６４２を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置を構成することにより、走査信号およびデータ信号によって選択される第２の電極（画素電極）６０５と、第１の電極（対向電極）６２４との間に印加される電圧によって、画素毎に液晶材料の配向性を的確かつ高速で制御することができ、段部分に起因した配向不良の影響を抑制し、観察者側に文字、数字等といったコントラストに優れた画像表示を認識させることができる。
そして、第２実施形態においてセル構造の内部に段差部分があった場合にも、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットと、段差部分とを、全面的または部分的に一致させてあることにより、段差部分に配向不良が発生した場合であっても、配向不良を視認させないようにできる。したがって、コントラスト性に優れ、信頼性に優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、第２実施形態の液晶表示装置においては、所定の段差部分に一致させる電極のスリットとしては、第２の基板におけるゲートバス配線またはソースバス配線や、図示しないものの蓄積容量により段差が生じる領域に対向する、第１の基板における対向電極に設けられたスリットが挙げられる。
なお、第２実施形態の液晶表示装置においては、所定の段差部分に一致させる電極のスリットとしては、第２の基板におけるゲートバス配線またはソースバス配線や、図示しないものの蓄積容量により段差が生じる領域に対向する、第１の基板における対向電極に設けられたスリットが挙げられる。
［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態として、第１実施形態または第２実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器について、図２２を参照しながら具体的に説明する。
図２３は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル２００と、これを制御するための制御手段１２００とを有している。また、図２３中では、液晶パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２００Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されていることが好ましい。
本発明に係る第３実施形態として、第１実施形態または第２実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器について、図２２を参照しながら具体的に説明する。
図２３は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル２００と、これを制御するための制御手段１２００とを有している。また、図２３中では、液晶パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２００Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されていることが好ましい。
また、表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、第３実施形態においても、液晶表示装置の内部に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとが、全面的または部分的に一致させてあることより、コントラストに優れ、信頼性に優れた電子機器とすることができる。
そして、第３実施形態においても、液晶表示装置の内部に設けられるとともに、液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとが、全面的または部分的に一致させてあることより、コントラストに優れ、信頼性に優れた電子機器とすることができる。
本発明によれば、液晶表示装置の内部に設けられた段差部分と、第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットと、を全面的または部分的に一致させることにより、配向不良の影響を低下させ、コントラストに優れた液晶表示装置を得ることができる。
したがって、本発明の液晶表示装置を、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器等に使用することができる。
なお、本発明によれば、主として液晶表示装置の内部に設けられた段差部分に起因して、液晶材料に配向不良が生じた場合の対策方法を提供するものであるが、平坦箇所であっても液晶材料に配向不良が生じることが判明している場合には、当該対策方法を適用することも可能である。
したがって、本発明の液晶表示装置を、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器等に使用することができる。
なお、本発明によれば、主として液晶表示装置の内部に設けられた段差部分に起因して、液晶材料に配向不良が生じた場合の対策方法を提供するものであるが、平坦箇所であっても液晶材料に配向不良が生じることが判明している場合には、当該対策方法を適用することも可能である。
１２：第１の基板、１３：第１のガラス基板、１４：第２の基板、２７：第２のガラス基板、１９・３１７：第１の電極、２０：画素電極、２０ｂ：電極接続箇所、２０ｃ：非電極形成部、２６：第２の電極、２６´：データ電極、３１：二端子型非線形素子（ＴＦＤ素子）、２００・３００・３３０・４００・６４１：液晶パネル、２３０：シール材、２３２：液晶材料、３１７ａ：スリット、３１７ａ´：スリットの連結部、３１７ｂ：段差部分、３１７ｃ：ギャップ、６４２：三端子型非線形素子（ＴＦＴ素子）、６４６：ゲート電極、６４７：ゲート絶縁膜、６４９：半導体層、６４５：コンタクト電極、６４４：ソース電極、６４３：ドレイン電極
Claims (15)
- 対向配置される第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板および第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含む液晶表示装置において、
前記液晶表示装置の内部に設けられるとともに、前記液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、前記第１の電極および第２の電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとを、全面的または部分的に一致させることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記段差部分が、リタデーションを調整するためのマルチギャップによる段差部分であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記段差部分が、遮光層による段差部分であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記段差部分が、配向制御のための配向突起による段差部分であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記段差部分が、層間絶縁膜による段差部分であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記段差部分が、フォトスペーサによる段差部分であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
- 前記段差部分にテーパが設けてあることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
- 前記段差部分の幅を、前記スリットの幅よりも狭くすることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
- 前記スリットの幅を１〜１０μｍの範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
- 前記スリットが、全体として多角形状または円状をなすことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
- 前記液晶材料が、負の誘電率異方性を有するとともに、前記液晶表示装置が、ノーマリーブラックモードの構成であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
- 前記第１の電極または第２の電極が、全体として多角形状または円状をなすとともに、その内部に、前記スリット以外に、非電極形成部を設けることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
- 前記段差部分と、前記第１の電極または第２の電極のギャップとを、全面的または部分的に一致させることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
- 対向配置される第１の基板と、第２の基板と、当該第１の基板および第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含む液晶表示装置において、
前記第１の基板は、走査電極を備え、
前記第２の基板は、データ電極と、画素電極と、スイッチング素子と、を備え、
前記液晶表示装置の内部に設けられるとともに、前記液晶材料と直接的または間接的に接する段差部分と、前記走査電極および画素電極、あるいはいずれか一方に設けたスリットとを、全面的または部分的に一致させることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項１〜１４のいずれかに記載された液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
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Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
| WO2007039967A1 (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
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