JP2005217087A - 銅拡散を防止可能なアレイ基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明のアレイ基板は、基板と、基板上に形成された、金属または金属窒化膜からなる密着層と、密着層の上に形成されたテーパ状の銅配線と、テーパ状の銅配線の上部及び側部を被覆して積層された、金属または金属窒化膜からなる拡散防止層と、を含み、拡散防止層及び密着層は、前記銅配線中の銅の拡散を防止する。金属または金属窒化膜は、Mo,MoN、TiNで形成される。
【選択図】 図1
Description
12、52:ガラス基板
14、54:密着層
16、56:銅配線(コアメタル)
18、58:拡散防止層
20:レジスト層
Claims (11)
- 基板と、
前記基板の上に形成された銅配線と、
前記銅配線の上部及び側部を被覆して積層された、金属または金属窒化膜からなる拡散防止層と、
を含み、
前記拡散防止層は、前記銅配線中の銅の拡散を防止する、
銅拡散を防止可能なアレイ基板。 - 基板と、
前記基板上に形成された、金属または金属窒化膜からなる密着層と、
前記密着層の上に形成された銅配線と、
前記銅配線の上部及び側部を被覆して積層された、金属または金属窒化膜からなる拡散防止層と、
を含み、
前記拡散防止層及び/又は前記密着層は、前記銅配線中の銅の拡散を防止する、
銅拡散を防止可能なアレイ基板。 - 前記拡散防止層は、アモルファス様の構造を有する窒化チタン又は窒化モリブデンである、請求項1又は請求項2に記載の銅拡散を防止可能なアレイ基板。
- 前記密着層は、アモルファス様の構造を有する窒化チタン又は窒化モリブデンである、請求項2に記載の銅拡散を防止可能なアレイ基板。
- 基板を準備するステップと、
前記基板上を、金属または金属窒化膜からなる密着層で被覆するステップと、
前記密着層の上に銅配線を形成するステップと、
前記密着層及び該密着層上に形成した銅配線を、金属または金属窒化膜からなる拡散防止層で被覆するステップと、
前記拡散防止層が前記銅配線上にのみ残るようにパターニングするステップと、
を含む、銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法。 - 前記パターニングするステップが、
前記拡散防止層上にレジストを塗布するステップと、
前記基板の裏面から前記銅配線をマスクとして前記レジストを露光するステップと、
前記レジストを現像し、前記銅配線上にレジストパターンを形成するするステップと、
前記レジストパターンから露出した前記拡散防止層をエッチングするステップと、
を含む、請求項5に記載の銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法。 - 前記拡散防止層をエッチングするステップの後、続けて前記密着層をエッチングするステップを含む、請求項6に記載の銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法。
- 前記拡散防止層、または、該拡散防止層及び前記密着層は、アモルファス様の構造を有する窒化チタンである、請求項5乃至請求項7に記載の銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法。
- 前記金属窒化膜からなる密着層で被覆するステップ及び/又は金属窒化膜からなる拡散防止層で被覆するステップは、
全スパッタリングガス流量に対する窒素ガスの流量比が5〜30パーセントである反応性スパッタを行なうステップを含む、請求項8に記載の銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法。 - 前記拡散防止層、または、該拡散防止層及び前記密着層は、アモルファス様の構造を有する窒化モリブデンである、請求項5乃至請求項7に記載の銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法。
- 前記金属または金属窒化膜からなる密着層で被覆するステップ及び/又は金属または金属窒化膜からなる拡散防止層で被覆するステップは、
全スパッタリングガス流量に対する窒素ガスの流量比が30パーセント以下である反応性スパッタを行なうステップを含む、
請求項10に記載の銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004020676A JP4394466B2 (ja) | 2004-01-29 | 2004-01-29 | 銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法 |
TW94102407A TWI305585B (en) | 2004-01-29 | 2005-01-26 | A wiring substrate and method using the same |
US11/044,716 US20050224977A1 (en) | 2004-01-29 | 2005-01-28 | Wiring substrate and method using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004020676A JP4394466B2 (ja) | 2004-01-29 | 2004-01-29 | 銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005217087A true JP2005217087A (ja) | 2005-08-11 |
JP4394466B2 JP4394466B2 (ja) | 2010-01-06 |
Family
ID=34904527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004020676A Expired - Fee Related JP4394466B2 (ja) | 2004-01-29 | 2004-01-29 | 銅拡散を防止可能なアレイ基板の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4394466B2 (ja) |
TW (1) | TWI305585B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN106876405A (zh) * | 2015-12-11 | 2017-06-20 | 三星显示有限公司 | 液晶显示器及其制造方法 |
US20220018908A1 (en) * | 2020-07-20 | 2022-01-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method of producing all-solid-state battery |
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CN106876405A (zh) * | 2015-12-11 | 2017-06-20 | 三星显示有限公司 | 液晶显示器及其制造方法 |
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US20220018908A1 (en) * | 2020-07-20 | 2022-01-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method of producing all-solid-state battery |
US11906592B2 (en) * | 2020-07-20 | 2024-02-20 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method of producing all-solid-state battery |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200538800A (en) | 2005-12-01 |
TWI305585B (en) | 2009-01-21 |
JP4394466B2 (ja) | 2010-01-06 |
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