JP2005205329A - 塗布装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 塗布処理部の近くに超音波洗浄部140と溶剤雰囲気室142とが併設される。レジストノズル120のノズル部120aを洗浄槽164の蓋体188の開口188aに挿し込むと、洗浄槽164内でノズル部120aの下端部(吐出口付近の部位)が超音波発振筐体166からの超音波の付加されたシンナー浴に浸かる。溶剤雰囲気室142では、超音波洗浄部140の洗浄槽164から隔壁170の上端部に設けられた切欠き170aを通ってオーブーフローしてきたシンナーSが溶剤溜め部192に導入され、溶剤溜め部192がいっぱいになると、そこからシンナーSがドレイン溝196へ溢れ落ち、ドレイン溝196が洗浄される。
【選択図】 図10
Description
82 レジスト塗布ユニット(CT)
120 レジストノズル
122 塗布処理部
124 リフレッシュ部
140 超音波洗浄部
142 溶剤雰囲気室
144 昇降機構
146 走査型ノズル洗浄部
164 洗浄槽
166 超音波振動筐体
170 隔壁
170a 切欠き(オーバーフロー通路)
174 溶剤導入口
188 蓋体
192 溶剤溜め部
196 ドレイン溝
202 蓋体
206 温度センサ
216 液面センサ
Claims (26)
- 塗布液を吐出するための吐出口を有する塗布ノズルと、
被処理基板を所定位置に配置し、前記塗布ノズルを用いて前記基板上に塗布液を塗布する塗布処理部と、
塗布液用の溶剤を洗浄液として収容する洗浄槽を前記塗布処理部の近くに配置し、前記洗浄槽内の溶剤に超音波振動を加えながら、前記塗布ノズルの吐出口付近の部位を前記溶剤に浸けて洗浄する超音波洗浄部と
を有する塗布装置。 - 前記超音波洗浄部が、超音波振動子を内蔵する水密の超音波振動筐体を有し、前記超音波振動筐体をその超音波振動面が上方を向くようにして前記洗浄槽の中に脱着可能に配置する請求項1に記載の塗布装置。
- 前記超音波洗浄部が、前記洗浄槽の底部の前記超音波振動筐体を避けた位置に溶剤供給口を設け、前記溶剤供給口より溶剤を槽内に導入する請求項1または請求項2に記載の塗布装置。
- 前記超音波洗浄部が、前記塗布ノズルの吐出口付近の部位を洗浄する際に、前記溶剤供給口より前記洗浄槽内に溶剤を導入し続けて前記洗浄槽から溶剤を溢れ出させる請求項3に記載の塗布装置。
- 前記超音波洗浄部が、前記洗浄槽内の溶剤の温度を検出するための温度センサを有し、前記温度センサの出力信号に基づいて前記洗浄槽内への溶剤の導入を制御する請求項1〜4のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記超音波洗浄部が、前記洗浄槽内における溶剤の液面レベルを検出する液面センサを有し、前記液面センサの出力信号に基づいて前記洗浄槽内への溶剤の導入を制御する請求項1〜5のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記塗布ノズルの吐出口付近の部位を前記溶剤に浸けた状態で前記塗布ノズルを揺動させる揺動手段を有する請求項1〜6のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記超音波洗浄部が、前記塗布ノズルの吐出口付近の部位を前記溶剤に浸けた状態で前記洗浄槽の上面を実質的に密閉するための密閉部を有する請求項1〜7のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記塗布ノズルが、水平方向に延びる長尺状のノズル本体と、前記ノズル本体の下面から垂直下方に突出して下端に前記吐出口を設けたノズル部とを有し、
前記密閉部が、前記塗布ノズルのノズル部を通すためのスリット状の開口を設けた蓋体を有する請求項1〜8のいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記洗浄槽内に溶剤の蒸気の雰囲気を形成し、超音波洗浄を行わない間は前記塗布ノズルの吐出口付近の部位を前記溶剤蒸気の雰囲気中に置いておく請求項1〜9のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記洗浄槽を超音波洗浄を行うための第1の高さ位置と前記第1の高さ位置よりも低い退避用の第2の高さ位置との間で昇降移動させるための昇降機構を有する請求項1〜10のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記超音波洗浄部の洗浄槽の隣で前記塗布ノズルの吐出口付近の部位を溶剤蒸気の雰囲気に曝すための溶剤雰囲気室を有する請求項1〜11のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記溶剤雰囲気室を前記洗浄槽と一体に設ける請求項12に記載の塗布装置。
- 前記溶剤雰囲気室内に溶剤を溜めておくための溶剤溜め部を設け、前記洗浄槽から溢れ出た溶剤を前記溶剤溜め部に導く請求項12または請求項13に記載の塗布装置。
- 前記溶剤溜め部が、前記溶剤雰囲気室の内壁に沿って周回方向に延在する上端の開口した溝部を有する請求項14に記載の塗布装置。
- 前記溶剤雰囲気室と前記洗浄槽とを隔てる隔壁の上端部に前記洗浄槽内の溶剤を前記溶剤雰囲気室側に溢れ出させるオーバーフロー通路を設ける請求項13〜15のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記洗浄槽内で前記超音波振動筐体を前記隔壁にぴったり寄せて配置する請求項16に記載の塗布装置。
- 前記隔壁が前記溶剤雰囲気室の内壁の一部を構成し、前記洗浄槽から溢れ出た溶剤を前記溶剤雰囲気室内で前記隔壁伝いに前記溶剤溜め部に導く請求項16または請求項17に記載の塗布装置。
- 前記超音波洗浄部が、前記洗浄槽から溢れ出た溶剤を受けるように前記溶剤雰囲気室内に配置される温度センサを有する請求項14〜18のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記溶剤雰囲気室の底部に排液用のドレイン溝を設け、前記溶剤雰囲気室内で前記塗布ノズルよりダミーディスペンスで吐出させた塗布液を前記ドレイン溝で受けて室外へ排出し、前記溶剤溜め部より溢れ出た溶剤を前記ドレイン溝で受けて室外へ排出する請求項12〜19のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記昇降機構が、前記溶剤雰囲気室を前記洗浄槽と一緒に昇降移動させる請求項12〜20のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記溶剤雰囲気室が、前記塗布ノズルのノズル部を通すためのスリット状の開口を設けた蓋体を有する請求項12〜21のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記超音波洗浄部から離れた位置で前記塗布ノズルの吐出口付近の部位を洗浄液で洗浄するノズル洗浄部を有する請求項1〜22のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記ノズル洗浄部が、前記塗布ノズルの吐出口付近の部位に向けて洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、前記塗布ノズルより落下した液をバキューム力で受け集めて回収する排液回収部とを有する請求項23に記載の塗布装置。
- 前記ノズル洗浄部が、前記超音波洗浄部の上方の位置で、前記洗浄ノズルおよび前記排液回収部を前記塗布ノズルの吐出口付近の部位に一定の間隔を空けて対向させ前記塗布ノズルの一端から他端まで走査する請求項24に記載の塗布装置。
- 前記ノズル洗浄部が、走査方向において前記洗浄ノズルの後方位置で前記塗布ノズルの吐出口付近の部位に乾燥用のガスを噴き掛けるガスノズルを有する請求項25に記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004015355A JP4202934B2 (ja) | 2004-01-23 | 2004-01-23 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004015355A JP4202934B2 (ja) | 2004-01-23 | 2004-01-23 | 塗布装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005205329A true JP2005205329A (ja) | 2005-08-04 |
JP4202934B2 JP4202934B2 (ja) | 2008-12-24 |
Family
ID=34900846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004015355A Expired - Fee Related JP4202934B2 (ja) | 2004-01-23 | 2004-01-23 | 塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4202934B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008000742A (ja) * | 2006-06-20 | 2008-01-10 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | ポリイミド膜塗布装置及び方法 |
JP2009119371A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Seiko Epson Corp | ヘッド洗浄装置 |
WO2010004990A1 (ja) * | 2008-07-08 | 2010-01-14 | 株式会社アルバック | 洗浄装置、印刷装置、洗浄方法 |
JP2010279932A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Toshiba Corp | 成膜装置及び成膜方法 |
KR101077836B1 (ko) | 2009-09-01 | 2011-10-28 | 주식회사 케이씨텍 | 슬릿 노즐 세정기와 이를 구비한 부상식 기판 코터 장치 |
JP2013071033A (ja) * | 2011-09-27 | 2013-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置 |
KR20140141514A (ko) * | 2013-05-31 | 2014-12-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 노즐 세정 방법 |
JP2015060932A (ja) * | 2013-09-18 | 2015-03-30 | 株式会社東芝 | スパイラル塗布装置 |
JP2015230957A (ja) * | 2014-06-04 | 2015-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 |
KR20160047394A (ko) * | 2014-10-22 | 2016-05-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 액처리 장치 |
JP2017109180A (ja) * | 2015-12-17 | 2017-06-22 | 東レエンジニアリング株式会社 | 塗布器洗浄装置及び塗布装置 |
KR101752498B1 (ko) * | 2010-12-13 | 2017-07-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP2018149468A (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-27 | 株式会社Screenホールディングス | ノズルクリーニング装置およびノズルクリーニング方法 |
KR20220122492A (ko) * | 2021-02-26 | 2022-09-02 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 노즐 세정 장치, 노즐 세정 방법 및 도포 장치 |
-
2004
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Cited By (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008000742A (ja) * | 2006-06-20 | 2008-01-10 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | ポリイミド膜塗布装置及び方法 |
US7980196B2 (en) | 2006-06-20 | 2011-07-19 | Lg Display Co., Ltd. | Apparatus and method for coating polyimide layer |
JP2009119371A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Seiko Epson Corp | ヘッド洗浄装置 |
WO2010004990A1 (ja) * | 2008-07-08 | 2010-01-14 | 株式会社アルバック | 洗浄装置、印刷装置、洗浄方法 |
JP2010279932A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Toshiba Corp | 成膜装置及び成膜方法 |
US8887657B2 (en) | 2009-06-08 | 2014-11-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Film forming system and method using application nozzle |
KR101077836B1 (ko) | 2009-09-01 | 2011-10-28 | 주식회사 케이씨텍 | 슬릿 노즐 세정기와 이를 구비한 부상식 기판 코터 장치 |
KR101752498B1 (ko) * | 2010-12-13 | 2017-07-11 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판 처리 장치 |
JP2013071033A (ja) * | 2011-09-27 | 2013-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ノズル洗浄装置および該ノズル洗浄装置を備えた塗布装置 |
JP2015006652A (ja) * | 2013-05-31 | 2015-01-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置およびノズル洗浄方法 |
KR20140141514A (ko) * | 2013-05-31 | 2014-12-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 노즐 세정 방법 |
KR102237507B1 (ko) * | 2013-05-31 | 2021-04-06 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 및 노즐 세정 방법 |
US9764345B2 (en) | 2013-05-31 | 2017-09-19 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus and nozzle cleaning method |
JP2015060932A (ja) * | 2013-09-18 | 2015-03-30 | 株式会社東芝 | スパイラル塗布装置 |
JP2015230957A (ja) * | 2014-06-04 | 2015-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 |
KR20160047394A (ko) * | 2014-10-22 | 2016-05-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 액처리 장치 |
KR102438896B1 (ko) * | 2014-10-22 | 2022-08-31 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 액처리 장치 |
CN106914366A (zh) * | 2015-12-17 | 2017-07-04 | 东丽工程株式会社 | 涂布器清洗装置和涂布装置 |
KR20170072789A (ko) * | 2015-12-17 | 2017-06-27 | 도레 엔지니아린구 가부시키가이샤 | 도포기 세정 장치 및 도포 장치 |
TWI698290B (zh) * | 2015-12-17 | 2020-07-11 | 日商東麗工程股份有限公司 | 塗布器洗淨裝置以及塗布裝置 |
JP2017109180A (ja) * | 2015-12-17 | 2017-06-22 | 東レエンジニアリング株式会社 | 塗布器洗浄装置及び塗布装置 |
KR102520093B1 (ko) * | 2015-12-17 | 2023-04-10 | 도레 엔지니아린구 가부시키가이샤 | 도포기 세정 장치 및 도포 장치 |
JP2018149468A (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-27 | 株式会社Screenホールディングス | ノズルクリーニング装置およびノズルクリーニング方法 |
KR20220122492A (ko) * | 2021-02-26 | 2022-09-02 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 노즐 세정 장치, 노즐 세정 방법 및 도포 장치 |
KR102672523B1 (ko) | 2021-02-26 | 2024-06-07 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 노즐 세정 장치, 노즐 세정 방법 및 도포 장치 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050823 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080421 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |