JP2005201703A - 干渉測定方法及び干渉測定システム - Google Patents

Abstract

【課題】 光学的な手法により被検光学素子の傾きを高い精度で調整して、被検光学素子の透過波面収差を高い精度で測定することを可能にする干渉測定方法と干渉測定システムを提供する。
【解決手段】 干渉計Ａの被検光束が基準平面部材Ｂに対し垂直入射するように、干渉計Ａと基準平面部材Ｂとの相対位置を調整する。光学的傾き検出手段Ｃの被検光束が基準平面部材Ｂに対し垂直入射するように、光学的傾き検出手段Ｃと基準平面部材Ｂとの相対位置を調整する。基準平面部材Ｂを被検光学素子Ｄに置き換えた後、干渉計Ａに対する被検光学素子Ｄの傾きを光学的傾き検出手段Ｃで検出する。その検出結果に基づいて干渉計Ａに対する被検光学素子Ｄの傾きを調整した後、干渉計Ａで被検光学素子Ｄの透過波面を測定する。
【選択図】 図２

Description

本発明は干渉測定方法及び干渉測定システムに関するものであり、例えばレンズの透過波面を干渉計で測定するための干渉測定方法及び干渉測定システムに関するものである。

レンズ等の被検光学素子の性能を測定する方法として、干渉計と反射原器を用いて被検光学素子の透過波面を測定する方法が従来より知られている。例えば光ピックアップ用の対物レンズの場合、その透過波面の測定は以下のようにして行われる。まず、干渉計から射出させた平面波を光ピックアップ用の対物レンズに入射させる。すると、収差の非常に少ない球面波が対物レンズから射出される。その球面波を反射球面原器で折り返し、再び対物レンズに入射させる。対物レンズからは平面波が射出され、その平面波と干渉計内の参照面からの反射平面波とで干渉縞が形成される。その干渉縞から対物レンズの透過波面を測定することができる。また、参照面をピエゾ素子等で駆動させるフリンジスキャン法により、干渉縞を数値データに置き換えれば、透過波面収差を解析することができる。

透過波面測定のために干渉縞を得るには、干渉計に対する反射球面原器の位置を光軸方向及びそれに垂直な方向に調整するだけでなく、干渉計の光軸に対する被検光学素子の傾きも調整する必要がある。被検光学素子に傾き(いわゆるブロック偏芯)があると、その偏芯による収差が被検光学素子の透過波面収差に加わってしまい、被検光学素子の透過波面収差だけを測定することができなくなるからである。そのブロック偏芯を調整する方法としては、以下の２つの方法が知られている。

第１の方法は、保持ジグを用いた機械的な嵌め合いで被検光学素子を設置する機械的方法(例えば、特許文献１の第００１１段落記載の芯取法等)であり、被検光学素子を保持する場所としては、外形，平面部，非球面部等が用いられる。第２の方法は、透過波面を測定するための干渉計から被検光学素子の平面部に光を入射させ、その反射波面を干渉計で観察しながら被検光学素子の傾きを調整する光学的方法である。
特開平１０−２３２１１５号公報

しかし第１の方法の場合、機械的な嵌め合い精度での傾き調整となるため、光学的な第２の方法に比べて調整精度が低いという問題がある。第２の方法の場合、干渉計からの光を入射させる平面部が被検光学素子の光入射側になかったり、その平面部の面積が小さかったりすると、干渉縞が見えないため調整できないといった問題が生じてしまう。例えば光ピックアップ用対物レンズでは、近年の小型化の要求に応えるため光入射側に平面部を持たなかったり、平面部はあってもその面積が小さいといったことが多い。

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであって、その目的は、光学的な手法により被検光学素子の傾きを高い精度で調整して、被検光学素子の透過波面収差を高い精度で測定することを可能にする干渉測定方法と、それに用いる干渉測定システムを提供することにある。

上記目的を達成するために、第１の発明の干渉測定方法は、干渉計と光学的傾き検出手段とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整し、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記光学的傾き検出手段で検出し、その検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする。

第２の発明の干渉測定方法は、干渉計の被検光束が基準平面部材に対し垂直入射するように干渉計と基準平面部材との相対位置を調整し、光学的傾き検出手段の被検光束が前記基準平面部材に対し垂直入射するように光学的傾き検出手段と基準平面部材との相対位置を調整し、前記基準平面部材を被検光学素子に置き換えた後、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記光学的傾き検出手段で検出し、その検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする。

第３の発明の干渉測定システムは、被検光学素子の透過波面を測定する干渉計と、その干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出する光学的傾き検出手段と、を備えた干渉測定システムであって、前記干渉計と前記光学的傾き検出手段とで互いの被検光束が平行になるように相対位置が調整可能に構成されており、前記光学的傾き検出手段による検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする。

第４の発明の干渉測定システムは、被検光学素子の透過波面を測定する干渉計と、その干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出する光学的傾き検出手段と、前記干渉計と前記光学的傾き検出手段との相対位置の基準となる基準平面部材と、を備えた干渉測定システムであって、前記干渉計の被検光束が前記基準平面部材に対し垂直入射するように干渉計と基準平面部材との相対位置が調整可能に構成されており、前記光学的傾き検出手段の被検光束が前記基準平面部材に対し垂直入射するように光学的傾き検出手段と基準平面部材との相対位置が調整可能に構成されており、前記光学的傾き検出手段による検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする。

第５の発明の干渉測定方法は、干渉計とオートコリメーターとで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整し、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記オートコリメーターで検出し、その検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする。

第６の発明の干渉測定方法は、干渉計の被検光束がオプティカルパラレルに対し垂直入射するように干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置を調整し、オートコリメーターの被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するようにオートコリメーターとオプティカルパラレルとの相対位置を調整し、前記オプティカルパラレルを被検光学素子に置き換えた後、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記オートコリメーターで検出し、その検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする。

第７の発明の干渉測定システムは、被検光学素子の透過波面を測定する干渉計と、その干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出するオートコリメーターと、を備えた干渉測定システムであって、前記干渉計と前記オートコリメーターとで互いの被検光束が平行になるように相対位置が調整可能に構成されており、前記オートコリメーターによる検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする。

第８の発明の干渉測定システムは、被検光学素子の透過波面を測定する干渉計と、その干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出するオートコリメーターと、前記干渉計と前記オートコリメーターとの相対位置の基準となるオプティカルパラレルと、を備えた干渉測定システムであって、前記干渉計の被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するように干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置が調整可能に構成されており、前記オートコリメーターの被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するようにオートコリメーターとオプティカルパラレルとの相対位置が調整可能に構成されており、前記オートコリメーターによる検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする。

第９の発明の干渉測定システムは、上記第７又は第８の発明において、被検光学素子が前記オートコリメーター側の面に平面部を有し、その平面部に前記オートコリメーターの被検光束を入射させて得られる反射光から、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記オートコリメーターで検出することを特徴とする。

第１０の発明の干渉測定方法は、第１干渉計と第２干渉計とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整し、前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記第２干渉計で検出し、その検出結果に基づいて前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記第１干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする。

第１１の発明の干渉測定方法は、第１干渉計の被検光束がオプティカルパラレルに対し垂直入射するように第１干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置を調整し、第２干渉計の被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するように第２干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置を調整し、前記オプティカルパラレルを被検光学素子に置き換えた後、前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記第２干渉計で検出し、その検出結果に基づいて前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記第１干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする。

第１２の発明の干渉測定システムは、被検光学素子の透過波面を測定する第１干渉計と、その第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出する第２干渉計と、を備えた干渉測定システムであって、前記第１干渉計と前記第２干渉計とで互いの被検光束が平行になるように相対位置が調整可能に構成されており、前記第２干渉計による検出結果に基づいて前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする。

第１３の発明の干渉測定システムは、被検光学素子の透過波面を測定する第１干渉計と、その第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出する第２干渉計と、前記第１干渉計と前記第２干渉計との相対位置の基準となるオプティカルパラレルと、を備えた干渉測定システムであって、前記第１干渉計の被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するように第１干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置が調整可能に構成されており、前記第２干渉計の被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するように第２干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置が調整可能に構成されており、前記第２干渉計による検出結果に基づいて前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする。

第１４の発明の干渉測定システムは、上記第１２又は第１３の発明において、被検光学素子が前記第２干渉計側の面に平面部を有し、その平面部に前記第２干渉計の被検光束を入射させて得られる反射光から、前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記第２干渉計で検出することを特徴とする。

第１５の発明の干渉測定システムは、上記第１２又は第１３の発明において、前記第２干渉計が非球面波発生光学素子を有し、被検光学素子が前記第２干渉計側の面に非球面部を有し、その非球面部に前記第２干渉計の被検光束を入射させて得られる反射光から、前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記第２干渉計で検出することを特徴とする。

本発明によれば、光学的な手法により被検光学素子の傾きを高い精度で調整して、被検光学素子の透過波面収差を高い精度で測定することができる。

以下、本発明を実施した干渉測定方法及び干渉測定システムを、図面を参照しつつ説明する。なお、各実施の形態等の相互で同一の部分や相当する部分には同一の符号を付して重複説明を適宜省略する。

《干渉測定システムと干渉測定方法の基本構成(図１，図２)》
図１に、本発明に係る干渉測定システムの概略構成を示す。この干渉測定システムは、被検光学素子Ｄの透過波面を測定する干渉計Ａと、被検光学素子Ｄを透過した被検光束を折り返して干渉計Ａに再入射させるための反射原器Ｅと、干渉計Ａに対する被検光学素子Ｄの傾きを光学的に検出する光学的傾き検出手段Ｃと、干渉計Ａと光学的傾き検出手段Ｃとの相対位置の基準となる基準平面部材Ｂと、を備えている。干渉計Ａと基準平面部材Ｂとの相対位置は、干渉計Ａの被検光束が基準平面部材Ｂに対し垂直入射するように調整可能に構成されている。また、光学的傾き検出手段Ｃと基準平面部材Ｂとの相対位置は、光学的傾き検出手段Ｃの被検光束が基準平面部材Ｂに対し垂直入射するように調整可能に構成されている。したがって、干渉計Ａと光学的傾き検出手段Ｃとで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整することが可能であり、光学的傾き検出手段Ｃによる検出結果に基づいて干渉計Ａに対する被検光学素子Ｄの傾きを調整することが可能である。

図２に、上記干渉測定システム(図１)を用いた干渉測定方法の概略構成を示す。まず、干渉計Ａの被検光束が基準平面部材Ｂに対し垂直入射するように、干渉計Ａと基準平面部材Ｂとの相対位置を調整する(I)。この相対位置調整において、基準平面部材Ｂに対する被検光束の入射が垂直か否かは、干渉計Ａで検出可能である。なお、干渉計Ａ，基準平面部材Ｂのいずれを移動させてもよいが、後述するオプティカルパラレル１０(図３等)のように移動容易な基準平面部材Ｂを使用することが好ましい。

干渉計Ａと基準平面部材Ｂとの相対位置調整が完了したら(II)、光学的傾き検出手段Ｃの被検光束が基準平面部材Ｂに対し垂直入射するように、光学的傾き検出手段Ｃと基準平面部材Ｂとの相対位置を調整する(III)。この相対位置調整において、基準平面部材Ｂに対する被検光束の入射が垂直か否かは、光学的傾き検出手段Ｃで検出可能である。この相対位置調整が完了すれば、干渉計Ａ，基準平面部材Ｂ及び光学的傾き検出手段Ｃの相対位置調整が完了する(IV)。このとき、干渉計Ａと光学的傾き検出手段Ｃとで互いの被検光束は平行になっている。

次に、基準平面部材Ｂを被検光学素子Ｄに置き換える(V〜VI)。干渉計Ａに対する被検光学素子Ｄの傾きを光学的傾き検出手段Ｃで検出し、その検出結果に基づいて干渉計Ａに対する被検光学素子Ｄの傾きを調整する(VI)。この傾き調整において、被検光学素子Ｄが干渉計Ａに対して傾いているか否かは、光学的傾き検出手段Ｃで検出可能である。この傾き調整が完了すれば、干渉計Ａ，被検光学素子Ｄ及び光学的傾き検出手段Ｃの相対位置調整が完了する(VII)。このとき、被検光学素子Ｄの傾きは光学的な手法により高い精度で調整されており、被検光学素子Ｄは干渉計Ａに対しブロック偏芯の無い状態になっている。

被検光学素子Ｄは、光学的傾き検出手段Ｃ側(つまり干渉計Ａとは反対側)の面に平面部を有することが好ましい。透過波面が測定される被検光学素子Ｄは、その干渉計Ａ側の面に平面部を有する余裕が少ないのに対し、干渉計Ａの反対側の面には平面部を有する余裕がある。したがって、干渉計Ａとは反対側の面の平面部に光学的傾き検出手段Ｃの被検光束を入射させ、得られる反射光から干渉計Ａに対する被検光学素子Ｄの傾きを光学的傾き検出手段Ｃで検出するのが好ましい。

被検光学素子Ｄが光学的傾き検出手段Ｃ側(つまり干渉計Ａとは反対側)の面に非球面部を有する場合には、光学的傾き検出手段Ｃが非球面波発生光学素子を有することが好ましい。非球面波発生光学素子で平面波を非球面波に変換すれば、干渉計Ａとは反対側の面に平面部を持たない被検光学素子Ｄにも対応することが可能となる。したがって、干渉計Ａとは反対側の面の非球面部に光学的傾き検出手段Ｃの被検光束を入射させ、得られる反射光から干渉計Ａに対する被検光学素子Ｄの傾きを光学的傾き検出手段Ｃで検出するのが好ましい。

次に、光学的傾き検出手段Ｃを反射原器Ｅに置き換えて、干渉計Ａ及び被検光学素子Ｄに対する反射原器Ｅの相対位置を調整する(VIII〜IX)。この相対位置調整において、反射原器Ｅの相対位置が適正であるか否かは、干渉計Ａで検出可能である。反射原器Ｅの相対位置調整が完了したら、干渉計Ａで被検光学素子Ｄの透過波面を測定する(X)。被検光学素子Ｄはブロック偏芯の無い状態にあるため、被検光学素子Ｄのみの透過波面収差を測定することが可能である。したがって、被検光学素子Ｄの透過波面収差を高い精度で測定することができる。

上述した干渉測定方法及び干渉測定システムにおいて、各要素が更に具体化された第１〜第６の実施の形態を以下に説明する。第１〜第６の実施の形態では、基準平面部材Ｂとしてオプティカルパラレル１０、被検光学素子Ｄとしてレンズ１１、反射原器Ｅとして反射球面原器１２を採用している。また第１，第２，第５，第６の実施の形態ではトワイマン・グリーン型の干渉計Ａ１、第３，第４の実施の形態ではフィゾー型の干渉計Ａ２を、それぞれ干渉計Ａとして採用している。第１〜第４の実施の形態ではオートコリメーター９、第５，第６の実施の形態ではフィゾー型の干渉計Ｃ１，Ｃ２を、それぞれ光学的傾き検出手段Ｃとして採用している。

《第１，第２の実施の形態(図３〜図６)》
第１，第２の実施の形態の干渉測定システムは、レンズ１１の透過波面を測定するトワイマン・グリーン型の干渉計Ａ１、その干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾きをレーザビームで検出するオートコリメーター９、干渉計Ａ１とオートコリメーター９との相対位置の基準となるオプティカルパラレル１０、反射球面原器１２等を備えている。干渉計Ａ１は、光源ユニット１，コリメータレンズ２，所定波長の光に対してハーフミラーとして機能するビームスプリッタ３，反射平面原器４(４Ｓ：参照平面)，結像レンズ５，干渉縞観察用の撮像素子(ＣＣＤカメラ)６，モニタ７等を備えている。光源ユニット１は、レンズ１１の使用波長のレーザビームを発振するＬＤ(laser diode)素子，コリメータレンズ，収束レンズ，スペイシャルフィルター等を内蔵しており、ブロック偏芯調整用のオートコリメーター９にはモニタ８が接続されている。なお、オートコリメーター９は、被検物に被検光を照射し、被検物からの反射光の角度に基づいて被検物の傾きを測定する装置である。このオートコリメーター９としては、例えば、小径のレーザビームを被検光束として射出するレーザーオートコリメーターを使用するのが好ましい。

干渉計Ａ１とオプティカルパラレル１０との相対位置は、干渉計Ａ１の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように調整可能に構成されており、オートコリメーター９とオプティカルパラレル１０との相対位置は、オートコリメーター９の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように調整可能に構成されている。したがって、干渉計Ａ１とオートコリメーター９とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整することが可能であり、オートコリメーター９による検出結果に基づいて干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾きを調整することが可能である。

第１，第２の実施の形態の干渉測定方法では、図３に示すように、干渉計Ａ１とオートコリメーター９とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整する。そのためには、まず干渉計Ａ１の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように、干渉計Ａ１とオプティカルパラレル１０との相対位置を調整する。つまり、干渉計Ａ１にオプティカルパラレル１０を設置し、オプティカルパラレル１０の傾きを調整して干渉縞をワンカラーに合わせることにより、干渉計Ａ１からの被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直に入射する状態とする。この状態はモニタ７で確認可能である。

次に、オートコリメーター９の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように、オートコリメーター９とオプティカルパラレル１０との相対位置を調整する。つまり、オートコリメーター９からのレーザビームをオプティカルパラレル１０に照射し、オートコリメーター９の傾きを調整して入射光と反射光とで光路を一致させることにより、オートコリメーター９の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直に入射する状態とする。この状態はモニタ８で確認可能である。なお、干渉計Ａ１とオートコリメーター９との間での被検光束の傾き角度は、オートコリメーター９とオプティカルパラレル１０の精度にもよるが、数秒以内で調整可能である。

次に、オプティカルパラレル１０を干渉計Ａ１から取り外して、図４，図５に示すように、被検光学素子Ｄであるレンズ１１をセットする。そして、干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾きをオートコリメーター９で検出し、その検出結果に基づいて干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾きを調整する。レンズ１１はオートコリメーター９側の面に平面部１１Ｓを有しており、その平面部１１Ｓにオートコリメーター９の被検光束を入射させて得られる反射光から、干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾き(すなわちレンズ光軸の傾き)をオートコリメーター９で検出する。

オートコリメーター９からの被検光束は、第１の施の形態(図４)ではレンズ１１の平面部１１Ｓの一部に(ビームを細く絞った状態で)照射され、第２の施の形態(図５)ではレンズ１１の平面部１１Ｓの全体に照射される。太い被検光束の方が傾きの検出精度が良いので、図５に示すようにレンズ径とほぼ同じ又はそれ以上の径(例えばφ３ｍｍ程度)の平行ビームを用いるのが好ましい。また第２の施の形態の場合、被検光束は平面部１１Ｓに対応したドーナツ状であるのが好ましいが、被検光束の一部がレンズ曲面に入射しても、その反射光線がオートコリメーター９に戻ることはないので、被検光束はドーナツ状でなくてもよい。

先に干渉計Ａ１とオートコリメーター９との相対位置調整が完了しているため、干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾き調整が完了すれば、レンズ１１は干渉計Ａ１に対しブロック偏芯の無い状態(つまり干渉計Ａ１とレンズ１１とで光軸が平行になるように調整された状態)となる。この状態でレンズ１１の透過波面を干渉計Ａ１により測定する。ブロック偏芯の影響がないので、レンズ１１の透過波面収差のみを知ることができる。

干渉計Ａ１によるレンズ１１の透過波面の測定は以下のようにして行う。まず、オートコリメーター９を干渉計Ａ１から取り外して、図６に示すように、反射球面原器１２をセットする。干渉計Ａ１及びレンズ１１に対する反射球面原器１２の相対位置を調整した後、光源ユニット１から所定波長のレーザビームを放射させる。レーザビームはコリメータレンズ２で平行光束となり、ビームスプリッタ３で反射光束と透過光束とに分割される。そのうち、反射光束は透過波面測定用の被検光束としてレンズ１１に入射し、透過光束は参照光束として反射平面原器４の参照平面４Ｓで折り返される。レンズ１１が設計値どおりに作製されていれば、被検光束はレンズ１１を通過し、反射球面原器１２の反射球面１２Ｓで反射され、入射してきた光路を逆に進行してレンズ１１を再び通過した後、ビームスプリッタ３に再入射する。ビームスプリッタ３に再入射した被検光束は反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの透過光束が結像レンズ５を経て撮像素子６に至る。参照平面４Ｓで反射した参照光束は、同様にビームスプリッタ３に再入射して反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの反射光束が結像レンズ５を経て撮像素子６に至る。

被検光束中ではレンズ１１によって波面に変形が生じるため、撮像素子６上では被検光束と参照光束とが相互に干渉して干渉縞を形成する。その干渉縞を解析することによりレンズ１１の透過波面形状を測定することができる。なお、反射球面原器１２が適正位置にあるか否かは、干渉計Ａ１で検出される干渉縞から判断可能である。適正位置では反射球面１２Ｓの球心でレーザビームが結像するため光線は同一光路を往復することになるが、不適正な位置では、反射した光線が異なった光路でレンズ１１に再入射することになるからである。

さらに、得られた透過波面の形状をゼルニケ多項式等でフィッティングし、コマ成分を解析することにより、レンズ１１の面別平行偏芯及び面別傾き偏芯を算出することも可能である。ブロック偏芯が発生していると、主にそのコマ成分となるので、レンズ１１の面別平行偏芯及び面別傾き偏芯を算出するためには、ブロック偏芯の影響を除去することが必要不可欠となる。そして、算出されたレンズ１１の面別平行偏芯量及び面別傾き偏芯量を成形機にフィードバックすることで、偏芯の小さいレンズを得ることが可能となる。

《第３，第４の実施の形態(図７〜図１０)》
第３，第４の実施の形態の干渉測定システムは、レンズ１１の透過波面を測定するフィゾー型の干渉計Ａ２、その干渉計Ａ２に対するレンズ１１の傾きをレーザビームで検出するオートコリメーター９、干渉計Ａ２とオートコリメーター９との相対位置の基準となるオプティカルパラレル１０、反射球面原器１２等を備えている。干渉計Ａ２は、光源ユニット１，コリメータレンズ２，所定波長の光に対してハーフミラーとして機能するビームスプリッタ３，透過平面原器１３(１３Ｓ：参照平面)，結像レンズ５，干渉縞観察用の撮像素子(ＣＣＤカメラ)６，モニタ７等を備えている。光源ユニット１は、レンズ１１の使用波長のレーザビームを発振するＬＤ素子，コリメータレンズ，収束レンズ，スペイシャルフィルター等を内蔵しており、ブロック偏芯調整用のオートコリメーター９にはモニタ８が接続されている。なお、オートコリメーター９としては、例えば、小径のレーザビームを被検光束として射出するレーザーオートコリメーターを使用するのが好ましい。

干渉計Ａ２とオプティカルパラレル１０との相対位置は、干渉計Ａ２の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように調整可能に構成されており、オートコリメーター９とオプティカルパラレル１０との相対位置は、オートコリメーター９の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように調整可能に構成されている。したがって、干渉計Ａ２とオートコリメーター９とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整することが可能であり、オートコリメーター９による検出結果に基づいて干渉計Ａ２に対するレンズ１１の傾きを調整することが可能である。

第３，第４の実施の形態の干渉測定方法では、図７に示すように、干渉計Ａ２とオートコリメーター９とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整する。そのためには、まず干渉計Ａ２の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように、干渉計Ａ２とオプティカルパラレル１０との相対位置を調整する。つまり、干渉計Ａ２にオプティカルパラレル１０を設置し、オプティカルパラレル１０の傾きを調整して干渉縞をワンカラーに合わせることにより、干渉計Ａ２からの被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直に入射する状態とする。この状態はモニタ７で確認可能である。

次に、オートコリメーター９の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように、オートコリメーター９とオプティカルパラレル１０との相対位置を調整する。つまり、オートコリメーター９からのレーザビームをオプティカルパラレル１０に照射し、オートコリメーター９の傾きを調整して入射光と反射光とで光路を一致させることにより、オートコリメーター９の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直に入射する状態とする。この状態はモニタ８で確認可能である。なお、干渉計Ａ２とオートコリメーター９との間での被検光束の傾き角度は、オートコリメーター９とオプティカルパラレル１０の精度にもよるが、数秒以内で調整可能である。

次に、オプティカルパラレル１０を干渉計Ａ２から取り外して、図８，図９に示すように、被検光学素子Ｄであるレンズ１１をセットする。そして、干渉計Ａ２に対するレンズ１１の傾きをオートコリメーター９で検出し、その検出結果に基づいて干渉計Ａ２に対するレンズ１１の傾きを調整する。レンズ１１はオートコリメーター９側の面に平面部１１Ｓを有しており、その平面部１１Ｓにオートコリメーター９の被検光束を入射させて得られる反射光から、干渉計Ａ２に対するレンズ１１の傾き(すなわちレンズ光軸の傾き)をオートコリメーター９で検出する。

オートコリメーター９からの被検光束は、第３の施の形態(図８)ではレンズ１１の平面部１１Ｓの一部に(ビームを細く絞った状態で)照射され、第４の施の形態(図９)ではレンズ１１の平面部１１Ｓの全体に照射される。太い被検光束の方が傾きの検出精度が良いので、図９に示すようにレンズ径とほぼ同じ又はそれ以上の径(例えばφ３ｍｍ程度)の平行ビームを用いるのが好ましい。また第４の施の形態の場合、被検光束は平面部１１Ｓに対応したドーナツ状であるのが好ましいが、被検光束の一部がレンズ曲面に入射しても、その反射光線がオートコリメーター９に戻ることはないので、被検光束はドーナツ状でなくてもよい。

先に干渉計Ａ２とオートコリメーター９との相対位置調整が完了しているため、干渉計Ａ２に対するレンズ１１の傾き調整が完了すれば、レンズ１１は干渉計Ａ２に対しブロック偏芯の無い状態(つまり干渉計Ａ２とレンズ１１とで光軸が平行になるように調整された状態)となる。この状態でレンズ１１の透過波面を干渉計Ａ２により測定する。ブロック偏芯の影響がないので、レンズ１１の透過波面収差のみを知ることができる。

干渉計Ａ２によるレンズ１１の透過波面の測定は以下のようにして行う。まず、オートコリメーター９を干渉計Ａ２から取り外して、図１０に示すように、反射球面原器１２をセットする。干渉計Ａ２及びレンズ１１に対する反射球面原器１２の相対位置を調整した後、光源ユニット１から所定波長のレーザビームを放射させる。レーザビームはコリメータレンズ２で平行光束となり、ビームスプリッタ３で反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの反射光束のみが用いられる。ビームスプリッタ３からの反射光束は、透過平面原器１３を通過する透過波面測定用の被検光束と、透過平面原器１３の参照平面１３Ｓでの反射により折り返される参照光束と、に分けられる。レンズ１１が設計値どおりに作製されていれば、被検光束はレンズ１１を通過し、反射球面原器１２の反射球面１２Ｓで反射され、入射してきた光路を逆に進行してレンズ１１と透過平面原器１３を再び通過した後、ビームスプリッタ３に再入射する。ビームスプリッタ３に再入射した被検光束は反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの透過光束が結像レンズ５を経て撮像素子６に至る。参照平面１３Ｓで反射した参照光束は、同様にビームスプリッタ３に再入射して反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの透過光束が結像レンズ５を経て撮像素子６に至る。

被検光束中ではレンズ１１によって波面に変形が生じるため、撮像素子６上では被検光束と参照光束とが相互に干渉して干渉縞を形成する。その干渉縞を解析することによりレンズ１１の透過波面形状を測定することができる。なお、反射球面原器１２が適正位置にあるか否かは、干渉計Ａ２で検出される干渉縞から判断可能である。適正位置では反射球面１２Ｓの球心でレーザビームが結像するため光線は同一光路を往復することになるが、不適正な位置では、反射した光線が異なった光路でレンズ１１に再入射することになるからである。

さらに、得られた透過波面の形状をゼルニケ多項式等でフィッティングし、コマ成分を解析することにより、レンズ１１の面別平行偏芯及び面別傾き偏芯を算出することも可能である。ブロック偏芯が発生していると、主にそのコマ成分となるので、レンズ１１の面別平行偏芯及び面別傾き偏芯を算出するためには、ブロック偏芯の影響を除去することが必要不可欠となる。そして、算出されたレンズ１１の面別平行偏芯量及び面別傾き偏芯量を成形機にフィードバックすることで、偏芯の小さいレンズを得ることが可能となる。

《第５，第６の実施の形態(図１１，図１２)》
第５，第６の実施の形態の干渉測定システムは２つの干渉計を備えている。つまり、透過波面測定用の第１干渉計としてトワイマン・グリーン型の干渉計Ａ１(第１，第２の実施の形態と同様のもの)を備えており、ブロック偏芯を高精度で調整するための第２干渉計(光学的傾き検出手段Ｃに相当する。)としてフィゾー型の干渉計Ｃ１又はＣ２を備えている。干渉計Ｃ１，Ｃ２は、光源ユニット２１，コリメータレンズ２２，所定波長の光に対してハーフミラーとして機能するビームスプリッタ２３，結像レンズ２５，干渉縞観察用の撮像素子(ＣＣＤカメラ)２６，モニタ２７等を備えており、光源ユニット２１は、レンズ１１の使用波長のレーザビームを発振するＬＤ素子，コリメータレンズ，収束レンズ，スペイシャルフィルター等を備えている。

第５の実施の形態(図１１)では、第２干渉計Ｃ１に透過平面原器１３(１３Ｓ：参照平面)が設置されており、レンズ１１の平面部１１Ｓでの反射波面を干渉縞として観察することによりブロック偏芯の調整を行う構成になっている。一方、第６の実施の形態(図１２)では、第２干渉計Ｃ２にゾーンプレート３３(３３Ｓ：参照平面)が(回折作用により非球面波を発生させる光学素子として)設置されており、レンズ１１の非球面部１１Ｒでの反射波面を干渉縞として観察することによりブロック偏芯の調整を行う構成になっている。なお、第２干渉計Ｃ１の基本構成は前記干渉計Ａ２と同様であり、第２干渉計Ｃ１において透過平面原器１３の代わりにゾーンプレート３３を設けたのが第２干渉計Ｃ２である。

干渉計Ａ１とオプティカルパラレル１０との相対位置は、干渉計Ａ１の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように調整可能に構成されており、干渉計Ｃ１又はＣ２とオプティカルパラレル１０との相対位置は、干渉計Ｃ１又はＣ２の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように調整可能に構成されている。したがって、干渉計Ａ１と干渉計Ｃ１又はＣ２とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整することが可能であり、干渉計Ｃ１又はＣ２による検出結果に基づいて干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾きを調整することが可能である。

第５，第６の実施の形態の干渉測定方法では、干渉計Ａ１と干渉計Ｃ１又はＣ２とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整する。そのためには、まず干渉計Ａ１の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように、干渉計Ａ１とオプティカルパラレル１０との相対位置を調整する。つまり、干渉計Ａ１にオプティカルパラレル１０を設置し、オプティカルパラレル１０の傾きを調整して干渉縞をワンカラーに合わせることにより、干渉計Ａ１からの被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直に入射する状態とする。この状態はモニタ７で確認可能である。

次に、干渉計Ｃ１又はＣ２の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直入射するように、干渉計Ｃ１又はＣ２とオプティカルパラレル１０との相対位置を調整する。つまり、干渉計Ｃ１又はＣ２からのレーザビームをオプティカルパラレル１０に照射し、干渉計Ｃ１又はＣ２の傾きを調整して入射光と反射光とで光路を一致させることにより、干渉計Ｃ１又はＣ２の被検光束がオプティカルパラレル１０に対し垂直に入射する状態とする。この状態はモニタ２７で確認可能である。なお、干渉計Ａ１と干渉計Ｃ１又はＣ２との間での被検光束の傾き角度は、干渉計Ｃ１又はＣ２とオプティカルパラレル１０の精度にもよるが、数秒以内で調整可能である。

干渉計Ｃ１又はＣ２とオプティカルパラレル１０との相対位置の検出は、以下のようにして行う。まず、光源ユニット２１から所定波長のレーザビームを放射させる。レーザビームはコリメータレンズ２２で平行光束となり、ビームスプリッタ２３で反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの透過光束のみが用いられる。第５の実施の形態(図１１)では、ビームスプリッタ２３から射出した透過光束は、透過平面原器１３を通過する被検光束と、透過平面原器１３の参照平面１３Ｓでの反射により折り返される参照光束と、に分けられる。第６の実施の形態(図１２)では、ビームスプリッタ２３から射出した透過光束は、ゾーンプレート３３を通過する被検光束(０次の透過光)と、ゾーンプレート３３の参照平面３３Ｓでの反射により折り返される参照光束(０次の反射光)と、に分けられる。

被検光束はオプティカルパラレル１０で反射され、入射してきた光路を逆に進行してビームスプリッタ３に再入射する。ビームスプリッタ３に再入射した被検光束は反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの反射光束が結像レンズ２５を経て撮像素子２６に至る。参照平面１３Ｓ又は３３Ｓで反射した参照光束は、同様にビームスプリッタ２３に再入射して反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの反射光束が結像レンズ２５を経て撮像素子２６に至る。被検光束中ではオプティカルパラレル１０によって波面に変形が生じるため、撮像素子２６上では被検光束と参照光束とが相互に干渉して干渉縞を形成する。その干渉縞を解析することにより干渉計Ｃ１又はＣ２とオプティカルパラレル１０との相対位置を検出することができる。

次に、オプティカルパラレル１０を干渉計Ａ１から取り外して、被検光学素子Ｄであるレンズ１１をセットする。そして、干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾きを干渉計Ｃ１又はＣ２で検出し、その検出結果に基づいて干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾きを調整する。その際のレンズ１１の傾き検出は、以下のようにして行う。まず、光源ユニット２１から所定波長のレーザビームを放射させる。レーザビームはコリメータレンズ２２で平行光束となり、ビームスプリッタ２３で反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの透過光束のみが用いられる。第５の実施の形態(図１１)では、ビームスプリッタ２３から射出した透過光束は、透過平面原器１３を通過する被検光束と、透過平面原器１３の参照平面１３Ｓでの反射により折り返される参照光束と、に分けられる。第６の実施の形態(図１２)では、ビームスプリッタ２３から射出した透過光束は、ゾーンプレート３３を通過する被検光束(１次の透過光)と、ゾーンプレート３３の参照平面３３Ｓでの反射により折り返される参照光束(０次の反射光)と、に分けられる。

被検光束はレンズ１１の平面部１１Ｓ又は非球面部１１Ｒで反射され、入射してきた光路を逆に進行してビームスプリッタ３に再入射する。ビームスプリッタ３に再入射した被検光束は反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの反射光束が結像レンズ２５を経て撮像素子２６に至る。参照平面１３Ｓ又は３３Ｓで反射した参照光束は、同様にビームスプリッタ２３に再入射して反射光束と透過光束とに分割され、そのうちの反射光束が結像レンズ２５を経て撮像素子２６に至る。被検光束中ではレンズ１１の平面部１１Ｓ又は非球面部１１Ｒによって波面に変形が生じるため、撮像素子２６上では被検光束と参照光束とが相互に干渉して干渉縞を形成する。その干渉縞を解析することにより干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾きを検出することができる。

上記のように、レンズ１１は干渉計Ｃ１又はＣ２側の面に平面部１１Ｓを有しているので、第５の実施の形態では、その平面部１１Ｓに干渉計Ｃ１の被検光束を入射させて得られる反射光から、干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾き(すなわちレンズ光軸の傾き)を干渉計Ｃ１で検出する構成としている。また、レンズ１１は干渉計Ｃ２側の面に非球面部１１Ｒを有しているので、第６の実施の形態では、非球面部１１Ｒに対応した非球面波を発生させるゾーンプレート３３を干渉計Ｃ２に備えることにより、非球面部１１Ｒに干渉計Ｃ２の被検光束を入射させて得られる反射光から、干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾き(すなわちレンズ光軸の傾き)を干渉計Ｃ２で検出する構成としている。

先に干渉計Ａ１と干渉計Ｃ１又はＣ２との相対位置調整が完了しているため、干渉計Ａ１に対するレンズ１１の傾き調整が完了すれば、レンズ１１は干渉計Ａ１に対しブロック偏芯の無い状態(つまり干渉計Ａ１とレンズ１１とで光軸が平行になるように調整された状態)となる。この状態でレンズ１１の透過波面を干渉計Ａ１により測定する。ブロック偏芯の影響がないので、レンズ１１の透過波面収差のみを知ることができる。干渉計Ａ１によるレンズ１１の透過波面の測定は、干渉計Ｃ１又はＣ２を干渉計Ａ１から取り外した後、前述の第１，第２の実施の形態と同様に行う。

本発明に係る干渉測定システムの概略構成を示すブロック図。 図１の干渉測定システムを用いた干渉測定方法の概略構成を示す工程図。 第１，第２の実施の形態における干渉計とオートコリメーターとの相対位置調整を説明するためのシステム構成図。 第１の実施の形態における干渉計とレンズとの相対位置調整を説明するためのシステム構成図。 第２の実施の形態における干渉計とレンズとの相対位置調整を説明するためのシステム構成図。 第１，第２の実施の形態における透過波面の測定を説明するためのシステム構成図。 第３，第４の実施の形態における干渉計とオートコリメーターとの相対位置調整を説明するためのシステム構成図。 第３の実施の形態における干渉計とレンズとの相対位置調整を説明するためのシステム構成図。 第４の実施の形態における干渉計とレンズとの相対位置調整を説明するためのシステム構成図。 第３，第４の実施の形態における透過波面の測定を説明するためのシステム構成図。 第５の実施の形態における第１，第２干渉計及びレンズの相対位置調整を説明するためのシステム構成図。 第６の実施の形態における第１，第２干渉計及びレンズの相対位置調整を説明するためのシステム構成図。

符号の説明

Ａ 干渉計
Ｂ 基準平面部材
Ｃ 光学的傾き検出手段
Ｄ 被検光学素子
Ｅ 反射原器
Ａ１ トワイマン・グリーン型の干渉計(第１干渉計)
Ａ２ フィゾー型の干渉計
Ｃ１，Ｃ２ フィゾー型の干渉計(第２干渉計)
４ 反射平面原器
４Ｓ 参照平面
９ オートコリメーター(光学的傾き検出手段)
１０ オプティカルパラレル(基準平面部材)
１１ レンズ(被検光学素子)
１１Ｓ 平面部
１１Ｒ 非球面部
１２ 反射球面原器
１２Ｓ 反射球面
１３ 透過平面原器
１３Ｓ 参照平面
３３ ゾーンプレート(非球面波発生光学素子)
３３Ｓ 参照平面

Claims (15)

1. 干渉計と光学的傾き検出手段とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整し、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記光学的傾き検出手段で検出し、その検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする干渉測定方法。
2. 干渉計の被検光束が基準平面部材に対し垂直入射するように干渉計と基準平面部材との相対位置を調整し、光学的傾き検出手段の被検光束が前記基準平面部材に対し垂直入射するように光学的傾き検出手段と基準平面部材との相対位置を調整し、前記基準平面部材を被検光学素子に置き換えた後、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記光学的傾き検出手段で検出し、その検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする干渉測定方法。
3. 被検光学素子の透過波面を測定する干渉計と、その干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出する光学的傾き検出手段と、を備えた干渉測定システムであって、前記干渉計と前記光学的傾き検出手段とで互いの被検光束が平行になるように相対位置が調整可能に構成されており、前記光学的傾き検出手段による検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする干渉測定システム。
4. 被検光学素子の透過波面を測定する干渉計と、その干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出する光学的傾き検出手段と、前記干渉計と前記光学的傾き検出手段との相対位置の基準となる基準平面部材と、を備えた干渉測定システムであって、前記干渉計の被検光束が前記基準平面部材に対し垂直入射するように干渉計と基準平面部材との相対位置が調整可能に構成されており、前記光学的傾き検出手段の被検光束が前記基準平面部材に対し垂直入射するように光学的傾き検出手段と基準平面部材との相対位置が調整可能に構成されており、前記光学的傾き検出手段による検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする干渉測定システム。
5. 干渉計とオートコリメーターとで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整し、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記オートコリメーターで検出し、その検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする干渉測定方法。
6. 干渉計の被検光束がオプティカルパラレルに対し垂直入射するように干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置を調整し、オートコリメーターの被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するようにオートコリメーターとオプティカルパラレルとの相対位置を調整し、前記オプティカルパラレルを被検光学素子に置き換えた後、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記オートコリメーターで検出し、その検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする干渉測定方法。
7. 被検光学素子の透過波面を測定する干渉計と、その干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出するオートコリメーターと、を備えた干渉測定システムであって、前記干渉計と前記オートコリメーターとで互いの被検光束が平行になるように相対位置が調整可能に構成されており、前記オートコリメーターによる検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする干渉測定システム。
8. 被検光学素子の透過波面を測定する干渉計と、その干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出するオートコリメーターと、前記干渉計と前記オートコリメーターとの相対位置の基準となるオプティカルパラレルと、を備えた干渉測定システムであって、前記干渉計の被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するように干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置が調整可能に構成されており、前記オートコリメーターの被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するようにオートコリメーターとオプティカルパラレルとの相対位置が調整可能に構成されており、前記オートコリメーターによる検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする干渉測定システム。
9. 被検光学素子が前記オートコリメーター側の面に平面部を有し、その平面部に前記オートコリメーターの被検光束を入射させて得られる反射光から、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記オートコリメーターで検出することを特徴とする請求項７又は８記載の干渉測定システム。
10. 第１干渉計と第２干渉計とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整し、前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記第２干渉計で検出し、その検出結果に基づいて前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記第１干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする干渉測定方法。
11. 第１干渉計の被検光束がオプティカルパラレルに対し垂直入射するように第１干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置を調整し、第２干渉計の被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するように第２干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置を調整し、前記オプティカルパラレルを被検光学素子に置き換えた後、前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記第２干渉計で検出し、その検出結果に基づいて前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記第１干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする干渉測定方法。
12. 被検光学素子の透過波面を測定する第１干渉計と、その第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出する第２干渉計と、を備えた干渉測定システムであって、前記第１干渉計と前記第２干渉計とで互いの被検光束が平行になるように相対位置が調整可能に構成されており、前記第２干渉計による検出結果に基づいて前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする干渉測定システム。
13. 被検光学素子の透過波面を測定する第１干渉計と、その第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを検出する第２干渉計と、前記第１干渉計と前記第２干渉計との相対位置の基準となるオプティカルパラレルと、を備えた干渉測定システムであって、前記第１干渉計の被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するように第１干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置が調整可能に構成されており、前記第２干渉計の被検光束が前記オプティカルパラレルに対し垂直入射するように第２干渉計とオプティカルパラレルとの相対位置が調整可能に構成されており、前記第２干渉計による検出結果に基づいて前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きが調整可能に構成されていることを特徴とする干渉測定システム。
14. 被検光学素子が前記第２干渉計側の面に平面部を有し、その平面部に前記第２干渉計の被検光束を入射させて得られる反射光から、前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記第２干渉計で検出することを特徴とする請求項１２又は１３記載の干渉測定システム。
15. 前記第２干渉計が非球面波発生光学素子を有し、被検光学素子が前記第２干渉計側の面に非球面部を有し、その非球面部に前記第２干渉計の被検光束を入射させて得られる反射光から、前記第１干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記第２干渉計で検出することを特徴とする請求項１２又は１３記載の干渉測定システム。

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