JP2005201640A - 試料評価方法及び試料評価装置 - Google Patents
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- 238000011156 evaluation Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 137
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 37
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 25
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】 試料7の複数箇所に電子線6もしくはX線を照射し、試料7に含有された元素に対応して発生する特性X線8を検出し、これにより当該複数箇所における特性X線強度を求めて、当該元素についての試料7の面内での均質性を評価する際に、求められた複数の特性X線強度のばらつきに関する変動係数εと標準偏差σとをもとに試料7の均質性の評価を行う。
【選択図】図1
Description
所定元素についての面内での濃度分布のばらつきの割合が所望の値(例えば、0.1%)以内に収まっていることが予めわかっている参照用試料を上記試料評価装置の試料室13内の試料ステージ機構5に載置する。本実施例の場合において当該所定元素をNiとすると、当該参照用試料は、Ni(60%)とFe(40%)との合金であって、Niについての面内での濃度分布のばらつきの割合が0.1%以下となっているものとなる。なお、試料の面内での濃度分布のばらつきの割合が小さいときには、当該試料の面内での均質性が高いという評価となる。よって、当該濃度分布のばらつきの割合に応じて、当該試料の面内での均質性の評価が決まることとなる。
σ<kε ……(1)式
となるか、あるいは
σ≧kε ……(2)式
となるかを判断する。
Claims (6)
- 試料の複数箇所に電子線もしくはX線を照射し、試料に含有された元素に対応して発生する特性X線を検出し、これにより当該複数箇所における特性X線強度を求めて、当該元素についての試料の面内での均質性を評価する試料評価方法であって、求められた複数の特性X線強度のばらつきに関する変動係数εと標準偏差σとをもとに試料の均質性の評価を行うことを特徴とする試料評価方法。
- 前記変動係数εに係数kを掛け合わせた値kεと前記標準偏差σとを比較することにより、試料の均質性の評価を行うことを特徴とする請求項1記載の試料評価方法。
- 前記係数kは、3〜5の範囲に設定することを特徴とする請求項3記載の試料評価方法。
- 試料の複数箇所に電子線もしくはX線を照射し、試料に含有された元素に対応して発生する特性X線を検出し、これにより当該複数箇所における特性X線強度を求めて、当該元素についての試料の面内での均質性を評価する試料評価装置であって、求められた複数の特性X線強度のばらつきに関する変動係数εと標準偏差σとをもとに試料の均質性の評価を行うことを特徴とする試料評価装置。
- 前記変動係数εに係数kを掛け合わせた値kεと前記標準偏差σとを比較することにより、試料の均質性の評価を行うことを特徴とする請求項4記載の試料評価装置。
- 前記係数kは、3〜5の範囲に設定することを特徴とする請求項5記載の試料評価装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004005110A JP4498751B2 (ja) | 2004-01-13 | 2004-01-13 | 試料評価方法及び試料評価装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004005110A JP4498751B2 (ja) | 2004-01-13 | 2004-01-13 | 試料評価方法及び試料評価装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005201640A true JP2005201640A (ja) | 2005-07-28 |
JP4498751B2 JP4498751B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=34819530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004005110A Expired - Fee Related JP4498751B2 (ja) | 2004-01-13 | 2004-01-13 | 試料評価方法及び試料評価装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4498751B2 (ja) |
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2004
- 2004-01-13 JP JP2004005110A patent/JP4498751B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP7030035B2 (ja) | 2018-09-04 | 2022-03-04 | 日本電子株式会社 | 元素分布のムラの評価方法および荷電粒子線装置 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081008 |
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