JP3208200U - 蛍光x線分析装置 - Google Patents

蛍光x線分析装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3208200U
JP3208200U JP2016005011U JP2016005011U JP3208200U JP 3208200 U JP3208200 U JP 3208200U JP 2016005011 U JP2016005011 U JP 2016005011U JP 2016005011 U JP2016005011 U JP 2016005011U JP 3208200 U JP3208200 U JP 3208200U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
irradiation range
sample
opening
rays
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016005011U
Other languages
English (en)
Inventor
隆雄 丸井
隆雄 丸井
博朗 古川
博朗 古川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2016005011U priority Critical patent/JP3208200U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3208200U publication Critical patent/JP3208200U/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

【課題】XYステージを設けることなく、試料に含まれる元素の均一性を評価することができる蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】X線を試料Sの所定照射範囲に出射するX線管10と、試料からの蛍光X線を検出する検出器30と、複数個の開口を有するX線照射範囲制限機構41と、X線照射範囲制限機構を移動させることにより、X線管と試料との間に1個の開口を配置させる駆動機構43とを備える蛍光X線分析装置1であって、駆動機構43は、X線照射範囲制限機構を直線又は回転移動させるように構成されており、X線照射範囲制限機構41は、少なくとも2個の同じ面積となる開口を有し、この開口によって所定照射範囲内の異なる位置となる設定照射範囲が照射される。【選択図】図1

Description

本考案は、試料中に含まれる元素の情報を取得する蛍光X線分析装置に関する。
蛍光X線分析装置は、固体試料や粉体試料に一次X線を照射し、一次X線により励起されて放出される蛍光X線を検出することによって、その試料に含まれる元素の定性や定量分析を行うものである。
蛍光X線分析装置においては、一次X線を発するX線源と試料との間に、一次X線ビームを絞るためのコリメータ(X線照射範囲制限機構)を備えたものがある。コリメータは、例えば、径の異なる複数の開口を有する平板で構成されており、適当な径の開口を選択してX線の光軸上に配置することにより、一次X線の照射範囲を試料サイズに応じた所定の大きさに制限している。
図3は、従来のエネルギー分散型蛍光X線分析装置の一例を示す概略構成図であり、図4は、図3に示すコリメータの拡大図である。なお、地面に水平な一方向をX方向(左右方向)とし、地面に水平でX方向と垂直な方向をY方向(前後方向)とし、X方向とY方向とに垂直な方向をZ方向(上下方向)とする。
エネルギー分散型蛍光X線分析装置101は、試料Sが内部に配置される分析チャンバ20と、X線管10とコリメータ(X線照射範囲制限機構)141と検出器30とが内部に配置された装置筐体150と、コリメータ141を移動させる駆動機構43と、X線管10と検出器30と駆動機構43とを制御するコンピュータ160とを備える。
分析チャンバ20は、板状の試料ベース21と、板状の上面を有する筒形状の上部チャンバ22とを有し、試料ベース21の中央部には、例えば直径15mmの円形状の開口21aが形成されている。そして、上部チャンバ22は、分析者等によって開閉可能となるように試料ベース21に取り付けられている。
また、装置筐体150の上面に分析チャンバ20の試料ベース21が設置され、装置筐体150の内部には、X線管10とコリメータ141と検出器30とが配置されている。
X線管10は、ポイントフォーカスのX線管球であり、例えば、内部に陽極となるターゲットと陰極となるフィラメントとが配置された筐体を有している。このターゲットとフィラメントとの間に高電圧を印加することで、フィラメントから放射された熱電子をターゲットに衝突させて、ターゲットで発生した一次X線を出射するようになっている。そして、X線管10は、試料ベース21の開口21aの左下方に位置するように固定されており、X線管10から出射される一次X線が開口21a中の所定照射範囲(例えば直径10mmの円形状)に入射するように構成されている。よって、試料Sの分析面が開口21aを塞ぐように当接されることで、試料Sにおける所定照射範囲が一次X線によって照射されるようになっている。
コリメータ141は、図4に示すように、X方向に長い平板体であり、その平板体には、円形状(例えば直径10mm)の第1の開口141aと、第1の開口141aより小さい円形状(例えば直径5mm)の第2の開口141bと、第2の開口141bより小さい円形状(例えば直径3mm)の第3の開口141cと、第3の開口141cより小さい円形状(例えば直径1mm)の第4の開口141dとが、X方向に並ぶように形成されている。なお、第1〜第4の開口141a〜141dの各中心は、X方向の中心線上に所定距離L(例えば20mm)の間隔を空けて並ぶように形成されている。
そして、コリメータ141は、図3に示すようにX線管10と開口21aとの間に配置されており、駆動機構43によって一次X線の光軸に直交する面内でX方向に直線移動可能となっている。
これにより、X線管10と開口21aとの間に第1の開口141aが配置されたときには、X線管10から出射された一次X線の内の一部の一次X線が第1の開口141aを通過し、その結果、試料Sにおける第1の設定照射範囲(例えば直径10mmの円形状)が一次X線によって照射される。また、X線管10と開口21aとの間に第3の開口141cが配置されたときには、X線管10から出射された一次X線の内の一部の一次X線が第3の開口141cを通過し、その結果、第1の設定照射範囲より小さい第3の設定照射範囲(例えば直径3mmの円形状)が一次X線によって照射される。
検出器30は、例えば、導入窓が形成された筐体を有し、この筐体の内部に蛍光X線を検出する検出素子(半導体素子)が配置されている。そして、検出器30は、試料ベース21の開口21aの右下方に位置するように固定されており、試料Sで発生する蛍光X線が導入窓に入射するように構成されている。
コンピュータ160は、CPU(制御部)161と入力装置62と表示装置63とを備える。CPU161が処理する機能をブロック化して説明すると、検出器30から蛍光X線の強度(蛍光スペクトル)を取得する検出器制御部61aと、X線管10から一次X線を出射させるX線源制御部61bと、駆動機構43を制御する駆動機構制御部61cと、試料Sに含まれる元素の定性や定量分析を行う分析部61dとを有する。
また別の一例として、X線源と試料との間のX線の光軸上に設けられ、開口サイズを連続的に変更可能なコリメータと、コリメータの開口サイズを分析者が指定するための入力手段とを備える蛍光X線分析装置が開示されている(例えば、特許文献1参照)。このような蛍光X線分析装置によれば、一次X線の照射範囲を設定照射範囲に応じた最適な大きさに設定することが可能である。
特開2009−002795号公報
ところで、試料を分析する際には、固体試料や粉体試料の均一性の評価が行われることがある。この評価方法においては、試料上の複数点について分析を行い、その複数点についての分析結果のばらつきの大きさが所定範囲内であれば、試料は均一であると判断される。また、その複数点についての分析結果のばらつきの大きさを、均一性の度合いを示す指標とする評価も行われている。
しかしながら、上述したような蛍光X線分析装置では、一次X線の照射範囲を設定照射範囲に応じた最適な大きさに設定することはできるが、試料上の各点に含まれる元素の情報を個別に取得することができなかった。つまり、試料の均一性を評価することができなかった。
なお、上述したような蛍光X線分析装置で試料の均一性を評価する場合には、分析者は分析チャンバ20を開けて試料Sを移動させる必要があり、非常に手間がかかっていた。
また、分析チャンバ20を開けて試料Sを移動させる工程を省略するために、コリメータを移動させるためのXYステージを追加することも考えられるが、XYステージは高価であり、さらにX線管、検出器などの構成部品が設置される装置筐体内に設置するのはスペース的にも困難であるという問題点があった。
そこで、本考案は、XYステージを設けることなく、試料上の各点に含まれる元素の情報を取得することができる蛍光X線分析装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するためになされた本考案の蛍光X線分析装置は、X線を試料の所定照射範囲に出射するX線管と、前記試料からの蛍光X線を検出する検出器と、複数個の開口を有するX線照射範囲制限機構と、前記X線照射範囲制限機構を移動させることにより、前記X線管と前記試料との間に1個の開口を配置させる駆動機構とを備える蛍光X線分析装置であって、前記駆動機構は、前記X線照射範囲制限機構を直線移動又は回転移動させるように構成されており、前記X線照射範囲制限機構は、少なくとも2個の同じ面積となる開口を有し、各開口によって前記所定照射範囲内の異なる位置となる設定照射範囲が照射されるように形成されている。
ここで、「設定照射範囲」とは、X線照射範囲制限機構の開口の大きさによって決定され、分析者等が開口の大きさを選択することで任意に決められるものであるが、X線管が出射するX線の所定照射範囲よりも小さい範囲となる。
本考案の蛍光X線分析装置によれば、例えば、まず、X線管と試料との間に、X線照射範囲制限機構の第1の開口を配置する。これにより、X線管から出射されたX線の内の一部のX線が、第1の開口を通過して試料上の第1の設定照射範囲に照射され、第1の設定照射範囲に含まれる元素の情報が取得される。次に、X線照射範囲制限機構を直線又は回転移動させることで、X線管と試料との間に、第1の開口と同じ面積となる第2の開口を配置する。これにより、X線管から出射されたX線の内の他の一部のX線が第2の開口を通過して、第1の設定照射範囲と異なり、かつ第1の設定照射範囲と同じ面積となる第2の設定照射範囲に照射され、第2の設定照射範囲に含まれる元素の情報が取得される。最後に、第1の設定照射範囲に含まれる元素の情報と、第2の設定照射範囲に含まれる元素の情報とを比較し、試料の均一性を評価する。
以上のように、本考案の蛍光X線分析装置によれば、XYステージを設けることなく、X線照射範囲制限機構を直線又は回転移動させることで、試料上の各点に含まれる元素の情報を取得することができる。さらに、分析者が試料を移動させる必要もなく、試料の均一性を容易に評価することができる。
本考案のエネルギー分散型蛍光X線分析装置の一例を示す概略構成図。 図1に示すコリメータの拡大図。 従来のエネルギー分散型蛍光X線分析装置の一例を示す概略構成図。 図3に示すコリメータの拡大図。
以下、本考案の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本考案は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本考案の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれることはいうまでもない。
図1は、本考案の実施形態に係るエネルギー分散型蛍光X線分析装置の一例を示す概略構成図であり、図2は、図1に示すコリメータの拡大図である。なお、上述したエネルギー分散型蛍光X線分析装置101と同様のものについては、同じ符号を付している。
エネルギー分散型蛍光X線分析装置1は、試料Sが内部に配置される分析チャンバ20と、X線管10とコリメータ(X線照射範囲制限機構)41と検出器30とが内部に配置された装置筐体50と、コリメータ41を移動させる駆動機構43と、X線管10と検出器30と駆動機構43とを制御するコンピュータ60とを備える。
装置筐体50の上面には試料ベース21が設置されており、装置筐体50の内部には、X線管10とコリメータ41と検出器30とが配置されている。
コリメータ41は、図2に示すように、X方向に長い平板体であり、その平板体には、円形状(例えば直径10mm)の第1の開口41aと、第1の開口41aより小さい円形状(例えば直径3mm)の第2の開口41bと、第2の開口41bと同じ面積となる円形状(例えば直径3mm)の第3の開口41cと、第2の開口41bと同じ面積となる円形状(例えば直径3mm)の第4の開口41dとが、X方向に並ぶように形成されている。
このとき、第1の開口41aの中心はX方向の中心線上に形成され、X方向の中心線上において、第1の開口41aの中心を基準に所定距離Lを隔てた点から第1の方向(12時の方向)へ所定距離Mだけ離隔した位置に第2の開口41bの中心が形成される。また同様に、第1の開口41aの中心を基準に所定距離L×2を隔てた点から第2の方向(4時の方向)へ所定距離Mだけ離隔した位置に第3の開口41cの中心が形成され、第1の開口41aの中心を基準に所定距離L×3を隔てた点から第3の方向(8時の方向)に所定距離Mだけ離隔した位置に第4の開口41dの中心が形成されるようにしている。
そして、コリメータ41は、図1に示すようにX線管10と開口21aとの間に配置されており、駆動機構43によって一次X線の光軸に直交する面内でX方向に直線移動可能となっている。
これにより、X線管10と開口21aとの間に第1の開口41aが配置されたときには、X線管10から出射された一次X線の内の一部の一次X線が第1の開口41aを通過し、その結果、試料Sにおける第1の設定照射範囲(例えば直径10mmの円形状)が一次X線によって照射される。
また、X線管10と開口21aとの間に第2の開口41bが配置されたときには、X線管10から出射された一次X線の内の一部の一次X線が第2の開口41bを通過し、その結果、試料Sにおける第2の設定照射範囲(例えば直径3mmの円形状)が一次X線によって照射される。さらに、X線管10と開口21aとの間に第3の開口41cが配置されたときには、X線管10から出射された一次X線の内の他の一部の一次X線が第3の開口41cを通過し、その結果、第2の設定照射範囲と異なる第3の設定照射範囲(例えば直径3mmの円形状)が一次X線によって照射される。
コンピュータ60は、CPU(制御部)61と入力装置62と表示装置63とを備える。CPU61が処理する機能をブロック化して説明すると、検出器30から蛍光X線の強度(蛍光スペクトル)を取得する検出器制御部61aと、X線管10から一次X線を出射させるX線源制御部61bと、駆動機構43を制御する駆動機構制御部61cと、試料Sに含まれる元素の定性や定量分析を行う分析部61dと、試料Sの均一性を評価する評価部61eとを有する。
ここで、エネルギー分散型蛍光X線分析装置1を用いて、試料Sの均一性を評価する評価方法について説明する。
まず、分析者は、分析チャンバ20の内部に試料Sを配置する。次に、分析者は、入力装置62を用いて「試料Sの均一性を評価する」という信号を入力する。次に、駆動機構制御部61cは、駆動機構43によってX線管10と開口21aとの間に第2の開口41bを配置する。これにより、X線管10から出射された一次X線の内の一部の一次X線が、第2の開口41bを通過して、試料S上の第2の設定照射範囲に照射される。そして、検出器制御部61aは、試料Sにおける第2の設定照射範囲からの蛍光スペクトルを取得する。
次に、駆動機構制御部61cは、駆動機構43によってコリメータ41をX方向に所定距離Lだけ移動させることで、X線管10と開口21aとの間に第3の開口41cを配置する。これにより、X線管10から出射された一次X線の内の一部の一次X線が、第3の開口41cを通過して、第2の設定照射範囲と異なる試料S上の第3の設定照射範囲に照射される。そして、検出器制御部61aは、試料Sにおける第3の設定照射範囲からの蛍光スペクトルを取得する。
次に、駆動機構制御部61cは、駆動機構43によってコリメータ41をX方向に所定距離Lだけ移動させることで、X線管10と開口21aとの間に第4の開口41dを配置する。これにより、X線管10から出射された一次X線の内の一部の一次X線が、第4の開口41dを通過して、第2の設定照射範囲及び第3の設定照射範囲と異なる試料S上の第4の設定照射範囲に照射される。そして、検出器制御部61aは、試料Sにおける第4の設定照射範囲からの蛍光スペクトルを取得する。
次に、評価部61eは、第2の設定照射範囲から得られる蛍光スペクトルと、第3の設定照射範囲から得られる蛍光スペクトルと、第4の設定照射範囲から得られる蛍光スペクトルとを比較して、試料Sの均一性を評価する。例えば、評価部61eは、第2の設定照射範囲から得られる蛍光スペクトルから算出される定量値と、第3の設定照射範囲から得られる蛍光スペクトルから算出される定量値と、第4の設定照射範囲から得られる蛍光スペクトルから算出される定量値とのばらつきの大きさが所定範囲内であれば、試料Sは均一であると判断する。
以上のように、本考案のエネルギー分散型蛍光X線分析装置1によれば、XYステージを設けることなくコリメータ41をX方向に直線移動させることで、試料S上の各設定照射範囲に含まれる蛍光スペクトルを取得することができる。さらに、分析者が分析チャンバ20を開けて試料Sを移動させる必要もなく、試料Sの均一性を容易に評価することができる。
<他の実施形態>
(1)上述したエネルギー分散型蛍光X線分析装置1では、コリメータ41がX方向に直線移動可能とした構成を示したが、コリメータを円板体として、一次X線の光軸に平行な回転軸で回転移動可能とするような構成としてもよい。
(2)上述した実施形態ではエネルギー分散型かつ下面照射方式の蛍光X線分析装置を例に説明を行ったが、本考案は、試料Sの上面から一次X線を照射する上面照射方式のものや、波長分散型の蛍光X線分析装置に対しても同様に適用することができる。
本考案は、試料中に含まれる元素の情報を取得する蛍光X線分析装置等に利用することができる。
1 蛍光X線分析装置
10 X線管
30 検出器
41 コリメータ(X線照射範囲制限機構)
41b 第2の開口
41c 第3の開口
41d 第4の開口
43 駆動機構
S 試料

Claims (1)

  1. X線を試料の所定照射範囲に出射するX線管と、
    前記試料からの蛍光X線を検出する検出器と、
    複数個の開口を有するX線照射範囲制限機構と、
    前記X線照射範囲制限機構を移動させることにより、前記X線管と前記試料との間に1個の開口を配置させる駆動機構とを備える蛍光X線分析装置であって、
    前記駆動機構は、前記X線照射範囲制限機構を直線移動又は回転移動させるように構成されており、
    前記X線照射範囲制限機構は、少なくとも2個の同じ面積となる開口を有し、各開口によって前記所定照射範囲内の異なる位置となる設定照射範囲が照射されるように形成されていることを特徴とする蛍光X線分析装置。
JP2016005011U 2016-10-18 2016-10-18 蛍光x線分析装置 Active JP3208200U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016005011U JP3208200U (ja) 2016-10-18 2016-10-18 蛍光x線分析装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016005011U JP3208200U (ja) 2016-10-18 2016-10-18 蛍光x線分析装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP3208200U true JP3208200U (ja) 2016-12-28

Family

ID=57708163

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016005011U Active JP3208200U (ja) 2016-10-18 2016-10-18 蛍光x線分析装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3208200U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101716860B1 (ko) * 2016-05-30 2017-03-27 주식회사 아이에스피 엑스선 형광분석 장치
CN112105919A (zh) * 2018-06-08 2020-12-18 株式会社岛津制作所 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101716860B1 (ko) * 2016-05-30 2017-03-27 주식회사 아이에스피 엑스선 형광분석 장치
CN112105919A (zh) * 2018-06-08 2020-12-18 株式会社岛津制作所 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法
CN112105919B (zh) * 2018-06-08 2023-08-22 株式会社岛津制作所 荧光x射线分析装置以及荧光x射线分析方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6378173B2 (ja) X線蛍光およびラマン分光法の組み合わせを利用した試料分析
RU2397481C1 (ru) Рентгеновский спектрометр
CN110873725B (zh) X射线分析装置
JP2008203245A (ja) X線分析装置及びx線分析方法
JP3208200U (ja) 蛍光x線分析装置
KR101387844B1 (ko) X선 분석 장치 및 x선 분석 방법
JP6493531B2 (ja) 蛍光x線分析装置及びそれに用いられるスペクトル表示方法
JP5328264B2 (ja) 元素マッピング装置及び元素マッピング画像表示方法
JP5062598B2 (ja) メスバウア分光測定装置
JP2008268067A (ja) 測定装置
JP2020204483A (ja) X線分析システム及びx線分析方法
US8481932B2 (en) Charged particle beam analyzer and analysis method
JP2014196925A (ja) 蛍光x線分析装置及びそれに用いられる深さ方向分析方法
JP4498751B2 (ja) 試料評価方法及び試料評価装置
JP2000193613A (ja) 蛍光x線分析装置
WO2015079535A1 (ja) X線分析装置およびx線分析方法
JP2021032584A (ja) 電子線マイクロアナライザ
JP2005233670A (ja) X線分析装置
JP7472512B2 (ja) 分析装置および分析装置の制御方法
CN115038959B (zh) 荧光x射线分析装置、判断方法和判断程序
US9797839B2 (en) System for applying phantom sample to evaluate optical analysis device, storage device storing instructions, method and phantom sample
JP2010055883A (ja) X線管及びそれを用いた蛍光x線分析装置
Mazalan et al. Development of automated system for real-time LIBS analysis
JP6665621B2 (ja) 分析装置
JP2019109220A (ja) X線検出装置及びx線検出方法

Legal Events

Date Code Title Description
R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3208200

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150