JP5328264B2 - 元素マッピング装置及び元素マッピング画像表示方法 - Google Patents
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Description
また、他の従来技術として、元素分析による複数の元素マッピング画像となる分布画面を同一画面に重ねて同時に画像表示することで、二次元的情報の関係を容易に把握する元素分析画像表示方法が知られている。(例えば、特許文献2を参照)
X線源1は、一次X線を試料Sの所定の測定位置に照射する(S1)。X線検出器2(検出器)は、試料Sから放出される特性X線及び散乱X線を検出し、この特性X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力する(S2)。次に、マルチチャンネルアナライザなどのX線分析器4(分析器)は、このX線検出器の出力をエネルギーごとに選別してカウントしてエネルギー・スペクトルを生成する(S3)。試料ステージ8(移動機構)により次の測定位置まで試料Sを移動させる(S4)。そして、X線分析器4(分析器)は、前記のS1からS4を繰り返して、元素の種類またはその固有の分析線ごとに画素位置に対応した2次元的情報として元素マッピング画像を求める(S5)。データ格納装置5(元素マッピングメモリ)は、各測定位置のエネルギー・スペクトルのデータや元素マッピング画像のデータを保存する(S6)。情報処理部6は、データ格納装置5からの各特定元素のデータのX線強度に応じて色又は明度を変えた強度コントラストを決定する。そして、CRTなどのディスプレイ部7(画像表示装置)は、親ウインドウ11内に元素マッピング像である分布画面12は、指定した特定元素の元素マッピング像などからなる分布画面12を表示する(S7)。マウスなどの入力装置(図示していない)を用いて情報処理部6で介して、画面切替ボタン14をクリックして分布画面12を切り替えて、同一サイズの各特定元素の元素マッピング像を順々に書き換えるように(上書きするように)表示させる(S8)。このとき、分布画面12が切り替わるごとに、分布画面12に表示される元素の種類と分析線の種類が表示される表示元素画面13も切り替わる。
1 X線源(励起源)
2 X線検出器(検出器)
3 光学顕微鏡(光学画像装置)
4 X線分析器(分析器)
5 データ格納装置
6 情報処理部
7 ディスプレイ(画像表示装置)
8 試料ステージ(移動機構)
9 ミラー
10 試料室
11 親ウインドウ
12 分布画面
13 表示元素画面
14 画面切替ボタン
15 表示元素画面
16 画像リスト画面
17 分布画面
20 PbのLα線
21 PbのLβ線
22 PbのLγ線
23 AsのKα線
24 AsのKβ線
Claims (4)
- 試料に励起粒子を照射する励起源と、
前記試料から放出される元素に固有の情報を検出する検出器と、
前記元素に固有の情報に基づいて元素の種類別に濃度を求める分析器と、
前記元素の種類別に濃度と測定された画素位置に対応して元素マッピング像を求めて格納するデータ格納装置と、
前記元素マッピング像を表示する画像表示装置と、
からなり、
前記画像表示装置は、前記データ格納装置に格納されている同一視野かつ同一サイズであって、元素又は分析線が異なる元素マッピング像からなる複数の分布画面を、前記画像表示装置の同一位置に上書きするように切り替えて表示する元素マッピング装置。 - 請求項1の元素マッピング装置において、
前記画像表示装置は、予め複数選択した前記元素又は分析線が異なる元素マッピング像である前記分布画面を、所定の時間毎に又は入力装置により選択した際に順番に切り替えて表示する元素マッピング装置。 - 励起源で試料に励起粒子を照射し、
検出器で前記試料から放出される元素に固有の情報を検出し、
分析器で元素に固有の情報に基づいて元素の種類別に濃度を求め、
データ格納装置で元素の種類別に濃度と測定された画素位置に対応して元素マッピング像を求めて格納し、
同一視野かつ同一サイズであって、元素又は分析線が異なる元素マッピング像からなる複数の分布画面を、前記画像表示装置の同一位置に上書きするように切り替えて表示する元素マッピング画像の表示方法。 - 請求項3の元素マッピング画像表示方法において、
前記複数の分布画面の切り替えが、所定の時間毎か又は任意の時間毎に前記複数の分布画面を順番に切り替えて表示する元素マッピング画像表示方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008212994A JP5328264B2 (ja) | 2008-08-21 | 2008-08-21 | 元素マッピング装置及び元素マッピング画像表示方法 |
US12/544,586 US8279225B2 (en) | 2008-08-21 | 2009-08-20 | Element mapping apparatus and element mapping image display method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008212994A JP5328264B2 (ja) | 2008-08-21 | 2008-08-21 | 元素マッピング装置及び元素マッピング画像表示方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010048668A JP2010048668A (ja) | 2010-03-04 |
JP5328264B2 true JP5328264B2 (ja) | 2013-10-30 |
Family
ID=41695925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008212994A Active JP5328264B2 (ja) | 2008-08-21 | 2008-08-21 | 元素マッピング装置及び元素マッピング画像表示方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8279225B2 (ja) |
JP (1) | JP5328264B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5684612B2 (ja) * | 2011-03-09 | 2015-03-18 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X線分析装置 |
JP6809356B2 (ja) * | 2017-04-19 | 2021-01-06 | 株式会社島津製作所 | X線画像表示装置、x線画像表示方法及びx線画像表示プログラム |
US10468230B2 (en) * | 2018-04-10 | 2019-11-05 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Nondestructive sample imaging |
JP6962897B2 (ja) * | 2018-11-05 | 2021-11-05 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡および画像処理方法 |
US11340179B2 (en) | 2019-10-21 | 2022-05-24 | Bae Systems Information And Electronic System Integration Inc. | Nanofabricated structures for sub-beam resolution and spectral enhancement in tomographic imaging |
CN114720496B (zh) * | 2022-06-08 | 2022-08-26 | 四川大学 | 实现全场x射线荧光成像分析的衍射分析装置及方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3503124B2 (ja) | 1995-05-24 | 2004-03-02 | 株式会社島津製作所 | 表面分析画像表示方法 |
JP3198036B2 (ja) * | 1995-09-06 | 2001-08-13 | 株式会社堀場製作所 | 元素マッピング装置におけるマッピング画像表示方法 |
JP3634955B2 (ja) * | 1998-02-06 | 2005-03-30 | 日本電子株式会社 | 電子プローブマイクロアナライザ |
JP3988137B2 (ja) * | 2003-01-24 | 2007-10-10 | 株式会社島津製作所 | 元素分析解析装置 |
US7508973B2 (en) * | 2003-03-28 | 2009-03-24 | Hitachi High-Technologies Corporation | Method of inspecting defects |
JP4533306B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2010-09-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 半導体ウェハ検査方法及び欠陥レビュー装置 |
JP4734106B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2011-07-27 | 富士通株式会社 | 分析装置 |
DE102009036701A1 (de) * | 2009-08-07 | 2011-03-03 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Teilchenstrahlsystem und Untersuchungsverfahren hierzu |
-
2008
- 2008-08-21 JP JP2008212994A patent/JP5328264B2/ja active Active
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2009
- 2009-08-20 US US12/544,586 patent/US8279225B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100045659A1 (en) | 2010-02-25 |
JP2010048668A (ja) | 2010-03-04 |
US8279225B2 (en) | 2012-10-02 |
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