JP2005200507A - 金属樹脂複合微粒子の製造方法及び金属樹脂複合微粒子 - Google Patents
金属樹脂複合微粒子の製造方法及び金属樹脂複合微粒子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005200507A JP2005200507A JP2004007054A JP2004007054A JP2005200507A JP 2005200507 A JP2005200507 A JP 2005200507A JP 2004007054 A JP2004007054 A JP 2004007054A JP 2004007054 A JP2004007054 A JP 2004007054A JP 2005200507 A JP2005200507 A JP 2005200507A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine particles
- metal
- resin
- resin fine
- resin composite
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 120
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 title abstract description 11
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 title abstract 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 166
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 166
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 115
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims abstract description 40
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 207
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 36
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 8
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 22
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 abstract description 13
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 11
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- -1 2-ethylhexyl Chemical group 0.000 description 7
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 3
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 3
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)CF MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLLUAUADIMPKIH-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C=C)C(C=C)=CC=C21 QLLUAUADIMPKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXABARYBIRWYEE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcycloocta-1,3-diene platinum Chemical compound [Pt].CC1=C(C)C=CCCCC1 OXABARYBIRWYEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(4-ethenylphenyl)benzene Chemical group C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=C(C=C)C=C1 IYSVFZBXZVPIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRXKVEIJEXJBFF-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)-3-methylbutane-1,4-diol Chemical compound OCC(C)C(CO)(CO)CO BRXKVEIJEXJBFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHWQTHKSPYIEAT-UHFFFAOYSA-N ClC([Au])=O Chemical compound ClC([Au])=O FHWQTHKSPYIEAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGBFEZOPOFSTTA-UHFFFAOYSA-L Cl[Pt](C1C=CC=C1)(C1C=CC=C1)Cl Chemical compound Cl[Pt](C1C=CC=C1)(C1C=CC=C1)Cl CGBFEZOPOFSTTA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVMHLYQJPRXKLC-UHFFFAOYSA-N borane;n,n-dimethylmethanamine Chemical compound B.CN(C)C WVMHLYQJPRXKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N boron;n-methylmethanamine Chemical compound [B].CNC RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWVKZUWJMWNXSC-UHFFFAOYSA-N butanoic acid;cyclohexane Chemical compound CCCC(O)=O.C1CCCCC1 DWVKZUWJMWNXSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- TYYBBNOTQFVVKN-UHFFFAOYSA-N chromium(2+);cyclopenta-1,3-diene Chemical compound [Cr+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 TYYBBNOTQFVVKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYKKJXGTKHSDI-UHFFFAOYSA-N chromium;1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentane Chemical compound [Cr].C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C.C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C GEYKKJXGTKHSDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- WFBCGTZCQUWOIJ-UHFFFAOYSA-N cycloocta-1,5-diene platinum Chemical compound [Pt].C1CC=CCCC=C1 WFBCGTZCQUWOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZPXREABEBSAQM-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KZPXREABEBSAQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940039227 diagnostic agent Drugs 0.000 description 1
- 239000000032 diagnostic agent Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000012674 dispersion polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 1
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- SYKXNRFLNZUGAJ-UHFFFAOYSA-N platinum;triphenylphosphane Chemical compound [Pt].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SYKXNRFLNZUGAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate Chemical compound CC(C)[O-] OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- BEOOHQFXGBMRKU-UHFFFAOYSA-N sodium cyanoborohydride Chemical compound [Na+].[B-]C#N BEOOHQFXGBMRKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
粒子径が3μm程度以下であっても凝集することなく製造することができる金属樹脂複合
微粒子の製造方法、及び、金属樹脂複合微粒子を提供する。
【解決手段】 樹脂微粒子と金属錯体とを流体中で加圧して金属錯体−樹脂微粒子複合体
を作製する工程と、前期金属錯体−樹脂微粒子複合体を還元処理して、金属を析出させる
工程とを有する金属樹脂複合微粒子の製造方法。
【選択図】 なし
Description
粒子径が3μm程度以下であっても凝集することなく製造することができる金属樹脂複合
微粒子の製造方法、及び、金属樹脂複合微粒子に関する。
わけ、近年では電子部品を基板等に導電接続する際の導電性ペースト、導電性接着剤、異
方導電性フィルム等に用いる導電性微粒子としての用途が拡大しており、電子部品の小型
化にあわせて、より粒子径が小さく、より均一にメッキされたものが求められている。
メッキ法や、溶液中の金属イオンを化学薬品によって還元析出させる無電解メッキ法等が
知られている。なかでも樹脂微粒子のメッキ方法としては、電気特性に関係なくメッキを
施せることから、無電解メッキ法が用いられることが多い。
必要な触媒層を樹脂微粒子の表面に付与する処理が必要である。この触媒付与処理の方法
としては、例えば、塩化第一スズ溶液で官能基を付与した後塩化パラジウム溶液で処理す
る方法、塩化第一スズと塩化パラジウムを混合したコロイド溶液で処理する方法、パラジ
ウム錯体溶液に浸漬させて還元剤でパラジウム金属層を付与する方法等が挙げられる。ま
た、通常のメッキ工程では、抵抗値を下げる目的やマイグレーションを抑える目的で、金
属層上に更に無電解めっきを行うこともあり、樹脂微粒子の表面に金属層が何層も積層さ
れることが一般的であった。このように樹脂微粒子の表面に多層の金属層を形成する場合
、表面に形成することのできる金属層の厚さの下限は決まっており、事実上粒子径が3μ
m以下の極端に粒子径の小さな微粒子にはメッキを行うことはできないという問題があっ
た。また、このようなメッキ処理工程は極めて複雑、煩雑であることから、コストアップ
の原因ともなっていた。更に、上記触媒付与処理工程においては、樹脂微粒子同士が凝集
しやすく、特に樹脂微粒子の粒子径が小さい場合には、樹脂微粒子の比表面積が増大する
ことから更に凝集しやすくなり、均一なメッキ処理を施すことが極めて困難であるという
問題もあった。
ら、樹脂微粒子の表面に金属を吸着させて、その吸着した金属を核として無電解メッキを
行う方法が開示されている。このなかでは、樹脂微粒子の分散安定化に超音波照射が有効
であるとされている。しかしながら、超音波照射による樹脂微粒子の分散にも限界があり
、粒子径が小さくなると、ほとんど凝集を阻止することはできなかった。また、樹脂微粒
子を充分に分散させるために超音波の強度を上げると、表面に付着した触媒が剥がれたり
、形成されたメッキ層が破壊されたりすることがあるという問題もあった。
する回転可能なドームと、該ドームの中に該陰極と接触しないように設置された陽極とを
有しており、ドームの回転による遠心力の効果で微粒子を陰極に接触させて通電、撹拌を
繰り返す回転型メッキ装置を用いた微粒子のメッキ方法が開示されている。この方法によ
れば、通常のバレルメッキ装置を用いた場合に比べて、樹脂微粒子の凝集が少なく、均一
にメッキできるとされる。しかしながら、この方法でも、樹脂微粒子の粒子径が3μm程
度以下になると、やはり凝集を防ぐことはできなかった。
えて、解砕効果を与えながらメッキを行う方法も提案されている。しかしながら、このよ
うなダミー粒子を用いた場合にはある程度凝集を抑えられるものの、解砕の際に粒子と激
しく衝突するため、メッキ剥がれや割れなどが発生し、表面状態が大きく劣化するという
問題があった。
そこで、樹脂微粒子に簡便にかつ均一にメッキを施すことができ、しかも樹脂微粒子の粒
子径が3μm程度以下であっても凝集することなく製造することができる金属樹脂複合微
粒子の製造方法が求められていた。
かも樹脂微粒子の粒子径が3μm程度以下であっても凝集することなく製造することがで
きる金属樹脂複合微粒子の製造方法、及び、金属樹脂複合微粒子を提供することを目的と
する。
製する工程と、前期金属錯体−樹脂微粒子複合体を還元処理して、金属を析出させる工程
とを有する金属樹脂複合微粒子の製造方法である。
以下に本発明を詳述する。
金属錯体−樹脂微粒子複合体を作製する工程を有する。驚くべきことに、樹脂微粒子と金
属錯体とを流体中で加圧するだけで、樹脂微粒子と金属錯体とが複合化した金属錯体−樹
脂微粒子複合体が得られる。
これは、加圧により樹脂微粒子が膨潤する一方、極めて運動エネルギーの高い状態にある
樹脂微粒子と金属錯体とが活発に動き回り互いに衝突を繰り返す結果、膨潤した樹脂微粒
子に衝突した金属錯体の一部がそのまま樹脂微粒子の内部にまで浸入して複合化するもの
と考えられる。
クロロスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン誘導体;塩化ビニル;酢酸ビニル、
プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類;アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類;(
メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メ
タ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ステアリル、エチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロプ
ロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリ
ル酸エステル誘導体等を重合したもの等が挙げられる。これらの樹脂は単独で用いてもよ
く、2種以上を併用してもよい。
ることにより、加圧の際に上記樹脂微粒子の一部が溶解して、その形状や粒子径が大きく
変化してしまうのを防止することができる。
上記架橋された樹脂を含有するためには、上記樹脂微粒子を構成する樹脂を合成する際に
は、例えばジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジビニルナフタレン、ポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート
、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ
)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロール
プロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジアリルフタレート及びその異性体、トリアリル
イソシアヌレート及びその誘導体等の架橋性単量体を加えることが好ましい。これらの架
橋性単量体は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
、分岐又は環状アルキル基、フルオロ基、及び、ベンゼン環からなる群より選択される少
なくとも一種を有する樹脂を含有することが好ましい。これらの官能基を有する樹脂を含
有することにより、加圧の際に上記樹脂微粒子が膨潤しやすくなり、より容易に金属錯体
を複合化することができる。なかでも、樹脂微粒子の表面にカルボニル基及び/又はフル
オロ基を有する樹脂がある場合には、より高い膨潤促進効果が得られる。
上記カルボニル基及び/又はフルオロ基を有する樹脂は、上記樹脂微粒子を構成する樹脂
を合成する際に予めこれらの基を有する単量体を用いることにより含有してもよいし、樹
脂微粒子を製造後にその表面を化学的に修飾することにより導入してもよい。
、乳化重合、分散重合等の一般的な重合方法により得ることができる。
上記樹脂微粒子の粒子径としては特に限定されず、目的とする金属樹脂複合微粒子の製造
方法の用途に応じて適宜選択することができが、3μm以下のものを用いる場合には、従
来の方法では製造することができなかった粒子径3μm以下の金属樹脂複合微粒子を得る
ことができる。
、鉛、亜鉛、ルテニウム、オスミウム、マンガン、クロム、ネオジム、サマリウム、及び
、ニッケルからなる群より選択される少なくとも1種の金属の錯体であることが好ましい
。ただし、ケイ素、炭素、バリウム、アルミニウム、ホウ素等の不純物を含有していても
かまわない。これらのなかには、還元後に磁性を示す原子もまれる。
上記金属錯体として、金、銀、銅、パラジウム、白金、ニッケル、コバルト、アルミニウ
ムの錯体を用いた場合には、得られる金属樹脂複合微粒子は、高い導電性を示し、電子部
品の導電接続等に好適な導電性微粒子として用いることができる。
上記金属錯体として、ニッケル、コバルト、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、
マンガン、クロム、ネオジム、サマリウム、アルミニウム等の錯体を用いた場合には、得
られる金属樹脂複合微粒子は、高い磁性を示し、各種センサー、診断薬、マーカー、記憶
媒体、整列媒体、閉塞媒体等に用いることができる。
に還元して金属を析出できることから、カルボニル錯体又は塩を含むカルボニル誘導体が
好ましい。このような金属錯体としては、例えば、酢酸塩、シュウ酸塩、アセトネート化
合物、アセトアセチネート化合物、ペンタンジオネート化合物、メトキサイド、エトキサ
イド、1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオネート、ブトキサイド、イソプロポキ
サイド、オキサレート、シクロヘキサンブチレート、ホルメート等が挙げられる。これら
のカルボニル錯体又は塩は、他の官能基で修飾されていてもよい。このような官能基によ
り修飾された金属錯体としては、例えば、ヘキサフルオロペンタンジオネート化合物、ベ
ンゾイルアセトネート化合物等が挙げられる。
ものであれば、上述のカルボニル化合物又は塩以外のものも用いることができる。カルボ
ニル錯体以外で容易に還元できる錯体としては、例えば、直鎖、環状、芳香族を含むπ電
子を含む錯体が挙げられる。具体的には、例えば、ジシルクロ(1,5−シクロオクタジ
エン)白金、ジクロロ(ジシクロペンタジエニル)白金、テトラキス(トリフェニルホス
フィン)白金、2,4−ペンタンジオネート白金、クロロカルボニル金、bis−ジメチ
ルアセトネートパラジウム、(1,5−シクロブタジエン)(ヘキサフルオロアセチルア
セトネート)銀、ジメチルアセトアセトネート金、ビス(シクロペンタジエニル)クロム
、ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)クロム等が挙げられる。
しく、上記流体に溶解するものであることがより好ましい。粒子径が樹脂微粒子の粒子径
の1/10を超えると、後述するように加圧により膨潤した樹脂微粒子に衝突しても、樹
脂微粒子中に浸入できず、複合化できないことがある。上記金属錯体が上記流体に溶解す
る場合には、金属錯体は極めて容易に樹脂微粒子中に浸入することができる。
常温常圧で気体である気体状流体が好適である。液状流体を用いれば上記樹脂微粒子の分
散が極めて容易であり、また、常温常圧で樹脂微粒子に対して貧溶媒であれば、樹脂微粒
子を変形させたり変質させたりすることもない。また、常温常圧で気体である気体状流体
を用いれば、複合化後に得られた金属錯体−樹脂微粒子複合体を媒体から単離したり乾燥
させたりする必要がない。
微粒子を構成する樹脂に応じて適宜選択すればよいが、例えば、水やアルコール等の有機
溶剤が挙げられる。
上記常温常圧で気体である気体状流体としては特に限定されないが、例えば、二酸化炭素
、窒素、酸素、空気、水素、アルゴン、ヘリウム、ネオンからなる群より選択される少な
くとも1種が好適である。
これらの流体なかでも、水及び/又は二酸化炭素が特に好適である。
工程においては、特に限定されないが、上記樹脂微粒子を上記流体に分散させた分散体に
金属錯体を添加し、加圧することが好ましい。分散体とすることにより、これに金属錯体
を添加すれば、樹脂微粒子と金属錯体とが均一に混ざり合い、高い効率で金属錯体を樹脂
微粒子に導入することができる。
この場合、上記金属錯体は、流体中に溶解又は分散していてもよいし、適当な溶剤に溶解
させたうえで、該溶液を流体中に分散させてもよい。このように金属錯体が流体に溶解又
は分散している場合には、金属錯体の樹脂微粒子中への輸送能が向上し、金属錯体の樹脂
微粒子への複合化が促進される。
また、金属錯体の樹脂微粒子内への輸送能を向上するために、キャリアーを用いてもよい
。例えば、流体として二酸化炭素を用いる場合のキャリアーとしては、メチルアルコール
、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコール;酢酸エチル等のエステル
;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等
が挙げられる。
る。0.5MPa未満であると、樹脂微粒子が充分に膨潤しなかったり、運動エネルギー
が不足したりして複合化ができないことがあり、100MPaを超えると、樹脂微粒子が
溶解したり凝集してしまったりする恐れがある。より好ましい上限は50MPaである。
なお、上記樹脂微粒子の媒体として二酸化炭素を用いる場合、この圧力範囲では常に超臨
界状態又は亜臨界状態となる。
す。樹脂微粒子の良溶媒も超臨界状態又は亜臨界状態の二酸化炭素と同様に高い親和性を
示すが、良溶媒は密度が高いことから、金属錯体の導入に必要な樹脂微粒子の表面の膨潤
を引き起こすだけではなく、樹脂微粒子を完全に溶解してしまうか、又は、樹脂微粒子が
架橋しており完全には溶解しない場合であっても樹脂微粒子の凝集や合一を促進してしま
う。これに対して、超臨界状態又は亜臨界状態の二酸化炭素は、樹脂微粒子に対する親和
性は高いものの、樹脂微粒子を溶解できるほどには密度が高くないことから、樹脂微粒子
を溶解することなく適度に膨潤させることができる。
い温度であることが好ましい。これ以上の温度であると、樹脂微粒子の表面が溶解して凝
集してしまうことがある。より好ましくは樹脂微粒子を構成する樹脂のガラス転移温度よ
りも10℃以上低い温度である。
また、上記樹脂微粒子を構成する樹脂が結晶性樹脂である場合には、上記加圧時の温度は
、樹脂微粒子を構成する結晶性樹脂の融点よりも5℃以上低い温度であることが好ましい
。より好ましくは樹脂微粒子を構成する樹脂の融点よりも10℃以上低い温度である。
ただし、上記樹脂微粒子を構成する樹脂を架橋している場合にはこの限りでない。
工程においては、樹脂微粒子、金属錯体及び流体を混合してから加圧してもよいし、樹脂
微粒子と金属錯体との混合物に予め加圧した流体を加えてもよい。
このように樹脂微粒子と金属錯体とを加圧して複合化した後、常温常圧に戻して取り出せ
ば、金属錯体−樹脂微粒子複合体が得られる。
して、金属を析出させる工程を有する。このように還元処理をすることにより、樹脂微粒
子の表面及び樹脂微粒子の内部に浸入した金属錯体が金属に還元されて析出し、導電性や
磁性に優れた金属樹脂複合微粒子が得られる。
シアノホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボラン、トリメチルアミンボラン等の従来公知
の還元剤を用いる方法等が挙げられる。また、熱安定性の悪い一部の貴金属錯体では、1
50℃に加熱するだけで還元することができる。また、上記樹脂微粒子を構成する樹脂よ
りもイオン化傾向の大きな金属溶液に浸漬することで還元を行うこともできる。更に、金
属錯体を還元、析出した後に酸化処理を行ってもよいし、錯体を複合化した後直接酸化し
てもよい。例えば、鉄を酸化第二鉄に酸化することで磁性粒子として機能させることもあ
る。
にメッキを施すことができる。煩雑な触媒付与処理や、そのための大がかりが装置も不要
であることから、大幅なコストを削減することができる。更に、樹脂微粒子の凝集が起こ
りにくいことから、樹脂微粒子の粒子径が3μm程度以下であっても凝集することなくメ
ッキを施すことができ、従来の方法では製造することができなかった平均粒子径が3μm
以下の金属樹脂複合微粒子も製造することができる。
は樹脂微粒子の表面のみならず、その内部にまで浸透している。このため、従来の無電解
メッキ法等により製造された、表面にのみ金属層が形成されている金属メッキ樹脂微粒子
では得られなかった性能を発揮することができる。
樹脂微粒子と金属とが複合化した金属樹脂複合微粒子であって、上記金属が上記樹脂微粒
子の表面及び内部に存在する金属樹脂複合微粒子もまた、本発明の1つである。
に断線することがあった。導電性微粒子を用いて電極間を導電接続する場合、通常は、金
属メッキ樹脂微粒子と電極の間の接触面積を大きくするために、二つの電極の間に金属メ
ッキ樹脂微粒子を挟み込んだ状態で圧力をかけて変形させる。従来の金属メッキ樹脂微粒
子では、金属層と樹脂微粒子との接着力が不充分であることから、このような変形を行っ
たときに、いわゆるメッキ剥がれが生じて断線してしまうことがあると考えられる。
しかし、本発明の金属樹脂複合化微粒子では、金属は樹脂微粒子の表面から内部にまで広
がっており、明確な金属層と樹脂微粒子との境界もないことから、メッキ剥がれが極めて
起こりにくく、断線が起こりにくい。従って、従来の金属メッキ樹脂微粒子よりも大きな
変形を加えて、接触面積を高くすることが可能となる。
脂微粒子では、強酸又は強塩基の分散媒に分散させると表面のめっき層は溶出してしまい
、金属本来の性質を発現できなくなった。しかし、本発明の金属樹脂複合粒子では、樹脂
微粒子中にも金属が含浸していることから、表面の金属の一部が強酸又は強塩基により溶
出したとしても、樹脂微粒子の内部に含浸された金属まで完全に溶出してしまうことはな
く、金属の性質を失うことがない。
い粒子径のものも可能であることから、電子部品の導電接続に用いる導電性微粒子や、磁
性微粒子として好適である。
また、パラジウムをメッキした本発明の金属樹脂複合微粒子は、このパラジウムが触媒層
となることから、従来の無電解メッキ法により、更にニッケルや金等のメッキを施すこと
もできる。
本発明の金属樹脂複合微粒子の表面に無電解メッキを施してなるメッキ樹脂微粒子もまた
、本発明の1つである。
粒子の粒子径が3μm程度以下であっても凝集することなく製造することができる金属樹
脂複合微粒子の製造方法、及び、金属樹脂複合微粒子を提供できる。
されるものではない。
粒子径3μmのジビニルベンゼンとテトラメチレンプロパンテトラメタアクリレートとを
主成分とする樹脂微粒子(積水化学社製、ミクロパールSP203)10gと、ジメチル
シウロオクタジエン白金0.015gとを内容積100mLの圧力容器に入れ、500r
pmで撹拌しながら、90℃、20MPaに加熱・加圧した超臨界状態の二酸化炭素を導
入して、10分間処理を行い、金属錯体−樹脂微粒子複合体を得た。
得られた金属錯体−樹脂微粒子複合体を150℃、1時間加熱して還元処理をして、白金
メッキが施された金属樹脂複合粒子を得た。
製した。この薄膜切片標本を反射型電子顕微鏡を用いて撮影した像を図1に示した。図1
より、微粒子の周辺部にほぼ均一に白金層が形成されていることが確認できた。
粒子径3μmのジビニルベンゼンとテトラメチレンプロパンテトラメタアクリレートとを
主成分とする樹脂微粒子(積水化学社製、ミクロパールSP203)10gと、ジメチル
シウロオクタジエン白金0.015gを1mLのアセトンに溶解したものとを、内容積1
00mLの圧力容器に入れ、500rpmで撹拌しながら、90℃、20MPaに加熱・
加圧した超臨界状態の二酸化炭素を導入して、10分間処理を行い、金属錯体−樹脂微粒
子複合体を得た。
得られた金属錯体−樹脂微粒子複合体を150℃、1時間加熱して還元処理をして、白金
メッキが施された金属樹脂複合粒子を得た。
製した。この薄膜切片標本を反射型電子顕微鏡を用いて撮影した像を図2に示した。図2
より、微粒子の周辺部にほぼ均一に白金層が形成されていることが確認できた。
ころ、粒子が凝集することなく、均一に銅メッキされた微粒子が得られた。
粒子径3μmのジビニルベンゼンとテトラメチレンプロパンテトラメタアクリレートとを
主成分とする樹脂微粒子(積水化学社製、ミクロパールSP203)10gと、ニッケロ
セン0.015gとを内容積100mLの圧力容器に入れ、500rpmで撹拌しながら
、90℃、20MPaに加熱・加圧した超臨界状態の二酸化炭素を導入して、10分間処
理を行い、金属錯体−樹脂微粒子複合体を得た。
得られた金属錯体−樹脂微粒子複合体を、水素化ホウ素ナトリウム水溶液中で150℃、
1時間加熱して還元処理をして、ニッケルメッキが施された金属樹脂複合粒子を得た。
製した。この薄膜切片標本を反射型電子顕微鏡を用いて撮影した像を図3に示した。図3
より、微粒子の周辺部にほぼ均一にニッケル層が形成されていることが確認できた。
粒子径3μmのジビニルベンゼンとテトラメチレンプロパンテトラメタアクリレートとを
主成分とする樹脂微粒子(積水化学社製、ミクロパールSP203)10gと、ニッケロ
セン0.015gを1mLのアセトンに溶解したものとを、内容積100mLの圧力容器
に入れ、500rpmで撹拌しながら、90℃、20MPaに加熱・加圧した超臨界状態
の二酸化炭素を導入して、10分間処理を行い、金属錯体−樹脂微粒子複合体を得た。
得られた金属錯体−樹脂微粒子複合体を、水素化ホウ素ナトリウム水溶液中で150℃、
1時間加熱して還元処理をして、ニッケルメッキが施された金属樹脂複合粒子を得た。
製した。この薄膜切片標本を反射型電子顕微鏡を用いて撮影した像を図4に示した。図4
より、微粒子の周辺部にほぼ均一にニッケル層が形成されていることが確認できた。
粒子の粒子径が3μm程度以下であっても凝集することなく製造することができる金属樹
脂複合微粒子の製造方法、及び、金属樹脂複合微粒子を提供できる。
Claims (11)
- 樹脂微粒子と金属錯体とを流体中で加圧して金属錯体−樹脂微粒子複合体を作製する工程
と、前期金属錯体−樹脂微粒子複合体を還元処理して、金属を析出させる工程とを有する
ことを特徴とする金属樹脂複合微粒子の製造方法。 - 樹脂微粒子と金属錯体とを流体中で加圧して金属錯体−樹脂微粒子複合体を作製する工程
において、前記樹脂微粒子を常温常圧で前記樹脂微粒子に対して貧溶媒である液状流体及
び/又は常温常圧で気体である気体状流体に分散させた分散体に、前記金属錯体を添加し
、加圧することを特徴とする請求項1記載の金属樹脂複合微粒子の製造方法。 - 樹脂微粒子と金属錯体とを流体中で加圧して金属錯体−樹脂微粒子複合体を作製する工程
において、0.5〜100MPaの圧力に加圧することを特徴とする請求項1又は2記載
の金属樹脂複合微粒子の製造方法。 - 樹脂微粒子は、カルボニル基及び/又はフルオロ基を有する樹脂を含有することを特徴と
する請求項1、2又は3記載の金属樹脂複合微粒子の製造方法。 - 樹脂微粒子は、架橋された樹脂を含有することを特徴とする請求項1、2、3又は4記載
の金属樹脂複合微粒子の製造方法。 - 金属錯体は、金、銀、銅、白金、パラジウム、コバルト、イリジウム、鉄、錫、鉛、亜鉛
、ルテニウム、オスミウム、マンガン、クロム、ネオジム、サマリウム、及び、ニッケル
からなる群より選択される少なくとも1種の金属の錯体であることを特徴とする請求項1
、2、3、4又は5記載の金属樹脂複合微粒子の製造方法 - 金属錯体は、流体に溶解するものであることを特徴とする請求項1、2、3、4、5又は
6記載の金属樹脂複合微粒子の製造方法。 - 樹脂微粒子と金属とが複合化した金属樹脂複合微粒子であって、前記金属が前記樹脂微粒
子の表面及び内部に存在することを特徴とする金属樹脂複合微粒子。 - 請求項1、2、3、4、5、6又は7記載の金属樹脂複合微粒子の製造方法を用いてなる
ことを特徴とする請求項8記載の金属樹脂複合微粒子。 - 平均粒子径が3μm以下であることを特徴とする請求項8又は9記載の金属樹脂複合微粒
子。 - 請求項8、9又は10記載の金属樹脂複合微粒子の表面に無電解メッキを施してなること
を特徴とするメッキ樹脂微粒子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004007054A JP4758611B2 (ja) | 2004-01-14 | 2004-01-14 | 金属樹脂複合微粒子の製造方法及び金属樹脂複合微粒子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004007054A JP4758611B2 (ja) | 2004-01-14 | 2004-01-14 | 金属樹脂複合微粒子の製造方法及び金属樹脂複合微粒子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005200507A true JP2005200507A (ja) | 2005-07-28 |
JP4758611B2 JP4758611B2 (ja) | 2011-08-31 |
Family
ID=34820828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004007054A Expired - Lifetime JP4758611B2 (ja) | 2004-01-14 | 2004-01-14 | 金属樹脂複合微粒子の製造方法及び金属樹脂複合微粒子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4758611B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008093867A1 (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-07 | Du Pont-Toray Company, Ltd. | 繊維のメッキ前処理方法およびメッキされた繊維の製造方法 |
JP2010285692A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Fei Co | 荷電粒子ビーム処理されたAu含有層 |
JP2011168631A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Nippon Shokubai Co Ltd | 金属被覆粒子の製造方法 |
JP2012017514A (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 無電解錫還元めっき液及びこれを用いた無電解錫還元めっき方法 |
JP2012041630A (ja) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | スズ合金形成用メッキ液及びこれを利用するスズ合金皮膜の形成方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09137289A (ja) * | 1995-04-03 | 1997-05-27 | Sekisui Finechem Co Ltd | 導電性微粒子の製造方法 |
JP2000017442A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-18 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 金属担持物の製造方法 |
JP2000243132A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-08 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 導電性無電解めっき粉体とその製造方法並びに該めっき粉体からなる導電性材料 |
JP2001316832A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-11-16 | Cosmo Research Inst | プラスチックのメッキ前処理方法、メッキ方法、メッキ物の製造方法及びメッキ装置 |
JP2002210356A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-07-30 | Kao Corp | 複合化粒子の製造法 |
JP2004026986A (ja) * | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Kobe Steel Ltd | 有機高分子基体の表面改質方法 |
JP2005139428A (ja) * | 2003-10-14 | 2005-06-02 | Sekisui Chem Co Ltd | 機能性樹脂微粒子の製造方法 |
-
2004
- 2004-01-14 JP JP2004007054A patent/JP4758611B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09137289A (ja) * | 1995-04-03 | 1997-05-27 | Sekisui Finechem Co Ltd | 導電性微粒子の製造方法 |
JP2000017442A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-18 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 金属担持物の製造方法 |
JP2000243132A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-08 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 導電性無電解めっき粉体とその製造方法並びに該めっき粉体からなる導電性材料 |
JP2001316832A (ja) * | 2000-02-22 | 2001-11-16 | Cosmo Research Inst | プラスチックのメッキ前処理方法、メッキ方法、メッキ物の製造方法及びメッキ装置 |
JP2002210356A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-07-30 | Kao Corp | 複合化粒子の製造法 |
JP2004026986A (ja) * | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Kobe Steel Ltd | 有機高分子基体の表面改質方法 |
JP2005139428A (ja) * | 2003-10-14 | 2005-06-02 | Sekisui Chem Co Ltd | 機能性樹脂微粒子の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008093867A1 (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-07 | Du Pont-Toray Company, Ltd. | 繊維のメッキ前処理方法およびメッキされた繊維の製造方法 |
JP2010285692A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Fei Co | 荷電粒子ビーム処理されたAu含有層 |
JP2011168631A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Nippon Shokubai Co Ltd | 金属被覆粒子の製造方法 |
JP2012017514A (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 無電解錫還元めっき液及びこれを用いた無電解錫還元めっき方法 |
JP2012041630A (ja) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | スズ合金形成用メッキ液及びこれを利用するスズ合金皮膜の形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4758611B2 (ja) | 2011-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8846182B2 (en) | Process for producing transparent conductive transfer plate, transparent conductive transfer plate, process for producing transparent conductive substrate using the transparent conductive transfer plate, transparent conductive substrate, and molded product using the transparent conductive substrate | |
JP4920698B2 (ja) | 異方性導電接続用導電性粒子 | |
KR101195732B1 (ko) | 도전성 미립자 및 이방성 도전 재료 | |
KR101918323B1 (ko) | 구리 분말, 구리 페이스트, 도전성 도막의 제조 방법 및 도전성 도막 | |
EP2640868B1 (en) | Metal coating of objects using a plasma polymerisation pretreatment | |
TWI744817B (zh) | 導電粉末及包括該導電粉末之測試用連接器 | |
CN104025724B (zh) | 在非传导表面上形成传导图像的方法 | |
JP4812834B2 (ja) | 密度勾配を有する複合金属層を含む導電性微粒子、該導電性微粒子の製造方法および該導電性微粒子を含む異方性導電接着剤組成物 | |
CN102990062B (zh) | 一种复合微球的制备方法 | |
JP6668075B2 (ja) | 導電性粒子、導電材料及び接続構造体 | |
Khan et al. | Synthesis of gold-decorated latexes via conducting polymer redox templates | |
JP2007184278A (ja) | 導電性金属被覆微粒子の製造方法及びその製造物 | |
JP4758611B2 (ja) | 金属樹脂複合微粒子の製造方法及び金属樹脂複合微粒子 | |
TW583274B (en) | Polyimide resin precursor solution, laminates for electronic components made by using the solution and process for production of the laminates | |
US4888209A (en) | Catalytic process and systems | |
JP2011153372A (ja) | 金属多層積層電気絶縁体とその製造方法 | |
JP5629641B2 (ja) | 導電性微粒子及びその製造方法 | |
KR20100134792A (ko) | 성형품의 도금물 및 이의 제조 방법 | |
KR101419968B1 (ko) | 도금물 및 이의 제조방법 | |
KR101410992B1 (ko) | 도전입자, 그 제조방법 및 이를 포함하는 도전성 재료 | |
KR100888984B1 (ko) | 나노 금속 입자가 중합체비드에 결합된 도전성 볼 및 이의제조 방법 | |
JP2011070944A (ja) | 導電性微粒子の製造方法及び導電性微粒子 | |
JP7181141B2 (ja) | 下地塗料およびめっき物の製造方法 | |
JP2018090842A (ja) | 透明導電膜 | |
JP5268520B2 (ja) | 酸化亜鉛微粒子付着樹脂粒子及びその製造方法、並びに導電性粒子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090415 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100707 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100726 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110511 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110603 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4758611 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140610 Year of fee payment: 3 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |