JP5446191B2 - 無電解めっき樹脂粒子の製造方法 - Google Patents
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Description
Fe2+ + ・OH −−→ Fe3+ + OH− (2)
H2O2 + ・OH −−→ ・O2H + H2O (3)
Fe2+ + ・O2H −−→ Fe3+ + HO2 − (4)
・O2H −−→ ・O2 − + H+ (5)
・O2 − + Fe3+ −−→ O2 + Fe2+ (6)
(親水化処理工程)
樹脂粒子として、平均粒径4μmのポリアクリル酸エステル樹脂粒子を準備した。30%過酸化水素水(和光純薬工業株式会社製)100mL/Lを含む水溶液に、アクリル系樹脂粒子が50g/Lになるように分散させた後、塩化第一鉄4水和物(和光純薬工業株式会社製)を0.5g/Lになるように投入し、pH2.5の下、室温で1時間攪拌した。その後、吸引ろ過し、水洗して、親水化処理された樹脂粒子を得た。
親水化処理された樹脂粒子を、パラジウムイオン−アミノ系錯化剤混合1液型のアルカリ触媒(アトテックジャパン社製のアクチベータネオガント834(商品名)の原液を40mL/Lに希釈し、pH10.5に調整した水溶液)に35℃で10分間浸漬して、パラジウム錯体を樹脂粒子表面に吸着させた後、吸引ろ過し、水洗した。その後、再び樹脂粒子を水に懸濁させて、ジメチルアミンボランを0.1g/Lになるように投入して樹脂粒子表面のパラジウム錯体を還元し、パラジウムが表面に担持された樹脂粒子の懸濁液を得た。
触媒付与工程後、滴下法にて無電解Ni−Pめっきを行った。すなわち、上記懸濁液を、80℃まで加温し、無電解Ni−Pめっき液(日立化成工業株式会社製、商品名:NIPS−100)を定量ポンプを通して徐々に滴下した。めっき時間は60分間であった。これにより、樹脂粒子の表面にNi−P皮膜(めっき金属皮膜)を形成した。その後、吸引ろ過、水洗、吸引ろ過、及び、乾燥を順次行い、無電解Ni−Pめっき樹脂粒子を得た。
次に、得られた無電解Ni−Pめっき樹脂粒子をジェットミルで解砕圧力0.1MPaの条件で解砕処理した。この解砕処理後の粒子を電子顕微鏡で観察し、写真撮影した。写真は1枚につき1000個の粒子が写るように倍率を調整し、1枚ごとに撮影場所を変えながら10枚撮影した。これらの写真10枚(全粒子数=10000個)に対し、めっき金属皮膜で完全に覆われていない粒子の数とめっき片の数を調べた。解砕処理前に凝集が多い場合、めっき金属皮膜で完全に覆われていない、樹脂が一部分露出した無電解めっき樹脂粒子が多くなる。また、樹脂粒子とめっき金属皮膜との密着性が悪い場合、解砕処理でめっきが剥れ、解砕処理後の粒子にめっき片が多量に混入する。このため、解砕処理後の粒子を電子顕微鏡で観察して、めっき金属皮膜で完全に覆われていない粒子の数が少なく(めっき金属皮膜で完全に覆われている粒子が多く)、めっき片が少なければ、処理液中の粒子の分散性が良好で、樹脂粒子とめっき金属皮膜の密着性が優れていると判断できる。評価結果を表1に示す。
親水化処理工程において、30%過酸化水素水の濃度を200mL/Lにした以外は、実施例1と同様に処理して、無電解Ni−Pめっき樹脂粒子を得た。実施例1と同様に解砕処理工程後の粒子を評価した。結果を表1に示す。
樹脂粒子として、平均粒径5μmのポリスチレン樹脂粒子を用いた以外は、実施例1と同様にして、無電解Ni−Pめっき樹脂粒子を得た。実施例1と同様に解砕処理工程後の粒子を評価した。結果を表1に示す。
親水化処理工程において、30%過酸化水素水(和光純薬工業株式会社製)100mL/Lを含む水溶液に、塩化第一鉄4水和物(和光純薬工業株式会社製)を0.5g/Lになるように投入した後、樹脂粒子を50g/Lになるように分散させ、室温で1時間攪拌した。それ以外は、実施例1と同様に処理して、無電解Ni−Pめっき樹脂粒子を得た。実施例1と同様に解砕処理工程後の粒子を評価した。結果を表1に示す。
親水化処理工程を行わなかった以外は、実施例1と同様にして、無電解Ni−Pめっき樹脂粒子を得た。実施例1と同様に解砕処理工程後の粒子を評価した。結果を表1に示す。
触媒付与工程において、親水化処理された樹脂粒子を、SnCl2−PdCl2混合1液型の酸性触媒溶液(日立化成工業株式会社製の「HS−202B」(商品名)30mL/L、pH0.5未満の酸性溶液)に30℃で10分間浸漬した後、10%硫酸の強酸性水溶液に浸漬してSnを溶解、除去してPdを活性化した。それ以外は、実施例1と同様にして、無電解Ni−Pめっき樹脂粒子を得た。実施例1と同様に解砕処理工程後の粒子を評価した。結果を表1に示す。
Claims (6)
- 過酸化物、金属イオン及び樹脂粒子を含む液中で前記樹脂粒子の表面を親水化させる親水化処理工程と、
前記親水化処理工程に続いて、親水化処理した後の前記樹脂粒子をpHが2以上12以下の触媒溶液に浸漬して前記樹脂粒子の表面に触媒を付与する触媒付与工程と、
無電解めっきにより前記樹脂粒子の表面に金属皮膜を形成する金属皮膜形成工程と、
を有し、
前記過酸化物が過酸化水素、t−ブチルヒドロペルオキシド又はクメンヒドロペルオキシドであり、
前記金属イオンが鉄イオン、銅イオン、ニッケルイオン、コバルトイオン、チタンイオン、亜鉛イオン、マンガンイオン又はアルミニウムイオンである、無電解めっき樹脂粒子の製造方法。 - 前記親水化処理工程は、前記過酸化物を含む溶液に前記樹脂粒子を分散させた後、前記金属イオンを供給する化合物を加えることで、前記樹脂粒子の表面を親水化させる工程である、請求項1記載の無電解めっき樹脂粒子の製造方法。
- 前記親水化処理工程は、前記過酸化物と前記金属イオンとを含む溶液に前記樹脂粒子を分散させることで、前記樹脂粒子の表面を親水化させる工程である、請求項1記載の無電解めっき樹脂粒子の製造方法。
- 前記過酸化物が過酸化水素である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の無電解めっき樹脂粒子の製造方法。
- 前記金属イオンが鉄イオンである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の無電解めっき樹脂粒子の製造方法。
- 前記pHが2以上12以下の触媒溶液が、pHが9以上12以下の触媒溶液である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の無電解めっき樹脂粒子の製造方法。
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