JP2005191118A - エッチング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】トレイ19の上には、開口部17aが一様に形成されるとともに、その周囲を側壁18で囲繞された開口プレート17が、シリコン基板1の表面と所定距離離間して覆蓋するように配置され、トレイ19の表面のうち、開口プレート17によって覆蓋され、かつシリコン基板1が載置されていない領域の8割以上が、シリコン基板1の主成分と同じ成分を有する材料、例えばシリコン片16aで覆われるように構成されている。
【選択図】図2
Description
2:凹凸
3:逆導電型半導体領域
4:BSF層
5:反射防止膜
6:表面電極
7:裏面電極
8:マスフローコントローラ
9:RF電極
10:圧力調整器
11:真空ポンプ
12:RF電源
13:アース
14:チャンバ
15:接触部
16a:シリコン片
16b:シリコン部
17:開口プレート
17a:開口部
18:側壁
19:トレイ
20:絶縁体
Claims (5)
- トレイと、前記トレイの表面に複数枚載置された被エッチング体である基板と、その周囲を側壁で囲繞され、開口部を多数有する開口プレートと、を具備したエッチング装置であって、
前記開口プレートは、前記基板の表面と所定距離離間して覆蓋するように前記トレイ上に配置され、
前記トレイの表面は、前記開口プレートによって覆蓋され、かつ前記基板が載置されていない領域の8割以上が、前記基板の主成分と同じ成分を有する材料で覆われて成るエッチング装置。 - トレイと、前記トレイの表面に複数枚載置された被エッチング体である基板と、その周囲を側壁で囲繞され、開口部を多数有する開口プレートと、を具備したエッチング装置であって、
前記開口プレートは、前記基板の表面と所定距離離間して覆蓋するように前記トレイ上に配置されるともに、前記基板と対向する面の少なくとも一部が、前記基板の主成分と同じ成分を有する材料で覆われて成るエッチング装置。 - 前記開口プレートは、前記基板の表面と所定距離離間して覆蓋するように前記トレイ上に配置されるともに、前記基板と対向する面の少なくとも一部が、前記基板の主成分と同じ成分を有する材料で覆われて成る請求項1に記載のエッチング装置。
- 前記側壁は、その内表面が前記基板の主成分と同じ成分を有する材料で覆われて成る請求項1から3のいずれか一項に記載のエッチング装置。
- 前記複数枚の基板は、それぞれの間隔が5mm以下となるように載置された請求項1から4のいずれか一項に記載のエッチング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003428079A JP4761705B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | エッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003428079A JP4761705B2 (ja) | 2003-12-24 | 2003-12-24 | エッチング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005191118A true JP2005191118A (ja) | 2005-07-14 |
JP4761705B2 JP4761705B2 (ja) | 2011-08-31 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4761705B2 (ja) |
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