JP4761705B2 - エッチング装置 - Google Patents
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- Y02E10/546—Polycrystalline silicon PV cells
Description
されている点が異なる。すなわち、図3に示すように、開口プレート17がシリコン基板1を覆蓋する構成となっている。
2:凹凸
3:逆導電型半導体領域
4:BSF層
5:反射防止膜
6:表面電極
7:裏面電極
8:マスフローコントローラ
9:RF電極
10:圧力調整器
11:真空ポンプ
12:RF電源
13:アース
14:チャンバ
15:接触部
16a:シリコン片
16b:シリコン部
17:開口プレート
17a:開口部
18:側壁
19:トレイ
20:絶縁体
Claims (3)
- 表面に被エッチング体であるシリコン基板が載置されるトレイと、
前記シリコン基板の表面と所定距離離間して前記シリコン基板を覆うように前記トレイ上に配置された、複数の開口部を有する開口プレートと、を備え、
前記開口プレートは、前記シリコン基板と対向する面の少なくとも一部に、シリコン粉体を含む膜が形成されていることを特徴とするエッチング装置。 - 前記膜は、前記開口プレートの前記シリコン基板と対向する面の全面に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のエッチング装置。
- 前記開口プレートは、前記シリコン基板を取り囲む側壁をさらに有し、
前記側壁は、その内表面に前記膜が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエッチング装置。
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