JP2005182000A5 - - Google Patents

Claims (19)

1. 第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
   前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に支持体を剥離可能な粘着媒体を用いて貼り合わせ、
   前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離して光学フィルムを形成する第１の工程と、
   第２の基板の一方の面に画素を有する層を形成し、前記画素を有する層の表面にプラスチック基板、偏光板または位相差板である第３の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせる第２の工程と、
   前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記第１の酸化物膜と前記第２の基板の他方の面とを第２の接着剤を用いて貼り合わせる第３の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
2. 第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
   前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上にプラスチック基板、偏光板または位相差板である第２の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせ、
   前記第２の基板上に剥離可能な粘着媒体を用いて支持体を貼り合わせ、
   前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離して光学フィルムを形成する第１の工程と、
   第３の基板の一方の面に画素を有する層を形成し、前記画素を有する層の表面にプラスチック基板、偏光板または位相差板である第４の基板を第２の接着剤を用いて貼り合わせる第２の工程と、
   前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記第１の酸化物膜と前記第３の基板の他方の面とを第３の接着剤を用いて貼り合わせる第３の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
3. 第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
   前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に支持体を剥離可能な粘着媒体を用いて貼り合わせ、
   前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離し、
   前記第１の金属膜を剥離した前記第１の酸化物膜の面に、プラスチック基板、偏光板または位相差板である第２の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせ、
   前記支持体及び前記剥離可能な粘着媒体を除去して光学フィルムを形成する第１の工程と、
   第３の基板の一方の面に画素を有する層を形成し、前記画素を有する層の表面にプラスチック基板、偏光板または位相差板である第４の基板を第２の接着剤を用いて貼り合わせる第２の工程と、
   前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルターの前記光学フィルターの面と前記第３の基板の他方の面とを第３の接着剤を用いて貼り合わせる第３の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
4. 第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
   前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に支持体を剥離可能な粘着媒体を用いて貼り合わせ、
   前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離して光学フィルムを形成する第１の工程と、
   第２の基板上に第２の金属膜と、第２の酸化物膜とを順に積層し、前記第２の酸化物膜上に画素を有する層を形成し、
   前記画素を有する層の表面にプラスチック基板、偏光板または位相差板である第３の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせ、
   前記第２の基板及び前記第２の金属膜を剥離する第２の工程と、
   前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記第１の酸化物膜と前記第２酸化物膜とを第２の接着剤を用いて貼り合わせる第３の工程を有することを特徴とする表示装置の作製方法。
5. 第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
   前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上にプラスチック基板、偏光板または位相差板である第２の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせ、
   前記第２の基板上に剥離可能な粘着媒体を用いて支持体を貼り合わせ、
   前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離して光学フィルムを形成する第１の工程と、
   第３の基板上に第２の金属膜と、第２の酸化物膜とを順に積層し、前記第２の酸化物膜上に画素を有する層を形成し、
   前記画素を有する層の表面にプラスチック基板、偏光板または位相差板である第４の基板を第２の接着剤を用いて貼り合わせ、
   前記第３の基板及び前記第２の金属膜を剥離する第２の工程と
   前記第１の工程及び前記第２の工程の後、前記光学フィルムの前記第１の酸化物膜と前記第２酸化物膜とを第３の接着剤を用いて貼り合わせる第３の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
6. 第１の基板上に、第１の金属膜と、第１の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、
   前記光学フィルターを介して前記第１の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に支持体を剥離可能な粘着媒体を用いて貼り合わせ、
   前記第１の基板及び前記第１の金属膜を剥離し、
   前記第１の金属膜を剥離した前記第１の酸化物膜の面にプラスチック基板、偏光板または位相差板である第２の基板を第１の接着剤を用いて貼り合わせ、
   前記支持体及び前記剥離可能な粘着媒体を除去して光学フィルムを形成する第１の工程と、
   第３の基板上に第２の金属膜と、第２の酸化物膜とを順に積層し、前記第２の酸化物膜上に画素を有する層を形成し、
   前記画素を有する層の表面にプラスチック基板、偏光板または位相差板である第４の基板を第２の接着剤を用いて貼り合わせ、
   前記第３の基板及び前記第２の金属膜を剥離する第２の工程と
   前記第１の工程及び前記第２工程の後、前記光学フィルムの前記光学フィルターの面と前記第２の酸化物膜とを第３の接着剤を用いて貼り合わせる第３の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
7. 請求項１または請求項４において、前記第１の基板及び前記第２の基板は、石英基板、セラミックス基板、シリコン基板、金属基板、またはステンレス基板であることを特徴とする表示装置の作製方法。
8. 請求項１、請求項４又は請求項７において、前記第３の工程の後、前記剥離可能な粘着媒体及び前記支持体を除去し、前記光学フィルター表面にプラスチック、偏光板、又は位相差板を貼り合わせることを特徴とする表示装置の作製方法。
9. 請求項２、請求項３、請求項５又は請求項６において、前記第１の基板及び前記第３の基板は、石英基板、セラミックス基板、シリコン基板、金属基板、またはステンレス基板であることを特徴とする表示装置の作製方法。
10. 請求項４乃至請求項６のいずれか一項において、前記第２の金属膜と前記第２の酸化物膜の間に、第２の金属酸化物膜が形成されることを特徴とする表示装置の作製方法。
11. 請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、前記第１の金属膜と前記第１の酸化物膜の間に、第１の金属酸化物膜が形成されることを特徴とする表示装置の作製方法。
12. 請求項１乃至請求項１１のいずれか一項において、前記画素を有する層は、半導体素子及び前記半導体素子に接続する画素電極を有することを特徴とする表示装置の作製方法。
13. 請求項１２において、前記半導体素子は、ＴＦＴ、有機半導体トランジスタ、ダイオード、又はＭＩＭ素子であることを特徴とする表示装置の作製方法。
14. 請求項１乃至請求項１３のいずれか一項において、前記光学フィルターは、カラーフィルター、又は色変換フィルターであることを特徴とする表示装置の作製方法。
15. 請求項１乃至請求項１４のいずれか一項において、前記第１の金属膜は、チタン、アルミニウム、タンタル、タングステン、モリブデン、銅、クロム、ネオジム、鉄、ニッケル、コバルト、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムから選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料からなる単層、またはこれらの積層であることを特徴とする表示装置の作製方法。
16. 請求項１乃至請求項１５のいずれか一項において、前記第１の酸化物膜は、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、又は金属酸化物で形成されることを特徴とする表示装置の作製方法。
17. 請求項１乃至請求項１６のいずれか一項において、前記支持体は、石英基板、金属基板、又はセラミックス基板であることを特徴とする表示装置の作製方法。
18. 請求項１乃至請求項１７のいずれか一項において、前記剥離可能な粘着媒体は、反応剥離型粘着剤、熱剥離型粘着剤、光剥離型粘着剤、嫌気剥離型粘着剤、又はこれらの一つ若しくは複数で形成される粘着層を両面に有する部材であることを特徴とする表示装置の作製方法。
19. 請求項１乃至請求項１８のいずれか一項において、前記表示装置は、液晶表示装置、発光表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス、プラズマディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイ、又は電気泳動表示装置であることを特徴とする表示装置の作製方法。