JP2005157324A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005157324A5
JP2005157324A5 JP2004312667A JP2004312667A JP2005157324A5 JP 2005157324 A5 JP2005157324 A5 JP 2005157324A5 JP 2004312667 A JP2004312667 A JP 2004312667A JP 2004312667 A JP2004312667 A JP 2004312667A JP 2005157324 A5 JP2005157324 A5 JP 2005157324A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
layer
peeling
optical film
oxide layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004312667A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4939742B2 (ja
JP2005157324A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004312667A priority Critical patent/JP4939742B2/ja
Priority claimed from JP2004312667A external-priority patent/JP4939742B2/ja
Publication of JP2005157324A publication Critical patent/JP2005157324A/ja
Publication of JP2005157324A5 publication Critical patent/JP2005157324A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4939742B2 publication Critical patent/JP4939742B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (18)

  1. 第1の基板に、剥離層と、光学フィルターを有する被剥離体とを積層し、
    前記第1の基板と向かい合うように、前記被剥離体上に可撓性を有する第2の基板を接着剤を用いて貼り合わせ、
    前記剥離層と前記被剥離体との間において剥離することを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  2. 第1の基板上に、剥離層と、光学フィルターを有する被剥離体とを積層し、
    前記第1の基板と向かい合うように、前記被剥離体上に可撓性を有する第2の基板を接着剤を用いて貼り合わせ、
    前記第2の基板上に、剥離可能な粘着媒体を用いて支持体を接着し、
    前記剥離層と前記被剥離体との間において剥離し、
    前記支持体及び前記剥離可能な粘着媒体を剥がすことを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  3. 第1の基板に、剥離層と、光学フィルターを有する被剥離体とを積層し、
    前記第1の基板と向かい合うように、前記被剥離体上に剥離可能な粘着媒体を用いて支持体を接着し、
    前記剥離層と前記被剥離体との間において剥離し、
    前記被剥離体に可撓性を有する第2の基板を接着剤を用いてり合わせ、
    記支持体及び前記剥離可能な粘着媒体を剥がすことを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  4. 第1の基板に、金属層と、酸化物層とを積層した後、前記酸化物層上に光学フィルターを形成し、
    前記第1の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に可撓性を有する第2の基板を接着剤を用いて貼り合わせ、
    前記金属層と前記酸化物層との間において剥離することを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  5. 第1の基板上に、金属層と、酸化物層とを積層した後、前記酸化物層上に光学フィルターを形成し、
    前記第1の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に可撓性を有する第2の基板を接着剤を用いて貼り合わせ、
    前記第2の基板上に、剥離可能な粘着媒体を用いて支持体を接着し、
    前記金属層と前記酸化物層との間において剥離し、
    前記支持体及び前記剥離可能な粘着媒体を剥がすことを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  6. 第1の基板に、金属層と、酸化物層とを積層した後、前記酸化物層上に光学フィルターを形成し、
    前記第1の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に剥離可能な粘着媒体を用いて支持体を接着し、
    前記金属層と前記酸化物層との間において剥離し、
    前記酸化物層に、可撓性を有する第2の基板を接着剤を用いてり合わせ、
    記支持体及び前記剥離可能な粘着媒体を剥がすことを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  7. 請求項2、3、5、又は6において、前記支持体は、ガラス基板、石英基板、金属基板、又はセラミックス基板であることを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  8. 請求項2、3、5、又は6において、前記剥離可能な粘着媒体は、反応剥離型粘着剤、熱剥離型粘着剤、光剥離型粘着剤、又は嫌気剥離型粘着剤、もしくはこれらの一つ又は複数で形成される粘着層を両面に有する部材であることを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  9. 請求項4乃至6のいずれかにおいて、前記金属層と前記酸化物層を形成すると同時に、前記金属層と前記酸化物層との間に金属酸化膜を形成することを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  10. 請求項4乃至6のいずれかにおいて、前記酸化物層を形成した後加熱して、前記金属層と前記酸化物層との間に金属酸化膜を形成した後、前記光学フィルターを形成することを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  11. 請求項4乃至6のいずれかにおいて、前記光学フィルターを形成した後加熱して、前記金属層と前記酸化物層との間に金属酸化膜を形成することを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  12. 請求項4乃至6のいずれかにおいて、前記金属層表面を酸化して金属酸化膜を形成した後、前記酸化物層を形成することを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  13. 請求項9乃至12のいずれかにおいて、前記金属層と前記金属酸化膜との間、前記金属酸化膜と前記酸化物層との間、又は前記金属酸化膜の層内において剥離することを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  14. 請求項4乃至6、又は9乃至13のいずれかにおいて、前記金属層は、チタン、アルミニウム、タンタル、タングステン、モリブデン、銅、クロム、ネオジム、鉄、ニッケル、コバルト、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウムから選ばれた元素、前記元素を主成分とする合金材料若しくは化合物材料からなる単層、はこれらの積層であることを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  15. 請求項4乃至6、又は9乃至14のいずれかにおいて、前記酸化物層は、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、又は金属酸化物であることを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  16. 請求項1乃至15のいずれかにおいて、前記光学フィルターは、カラーフィルター、又は色変換フィルターであることを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  17. 請求項1乃至16のいずれかにおいて、前記第2の基板は、プラスチックであることを特徴とする光学フィルムの作製方法。
  18. 請求項1乃至16のいずれか一において、前記第2の基板は、偏光板、位相差板と偏光板とで形成される楕円偏光板、反射性を有するフィルム、又は光拡散板であることを特徴とする光学フィルムの作製方法。
JP2004312667A 2003-10-28 2004-10-27 光学フィルムの作製方法 Expired - Fee Related JP4939742B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004312667A JP4939742B2 (ja) 2003-10-28 2004-10-27 光学フィルムの作製方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003367326 2003-10-28
JP2003367326 2003-10-28
JP2004312667A JP4939742B2 (ja) 2003-10-28 2004-10-27 光学フィルムの作製方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005157324A JP2005157324A (ja) 2005-06-16
JP2005157324A5 true JP2005157324A5 (ja) 2007-12-13
JP4939742B2 JP4939742B2 (ja) 2012-05-30

Family

ID=34741073

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004312667A Expired - Fee Related JP4939742B2 (ja) 2003-10-28 2004-10-27 光学フィルムの作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4939742B2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005331796A (ja) * 2004-05-21 2005-12-02 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ及びカラーディスプレイ装置
JP2007298602A (ja) * 2006-04-28 2007-11-15 Toppan Printing Co Ltd 構造体、透過型液晶表示装置、半導体回路の製造方法および透過型液晶表示装置の製造方法
JP5312728B2 (ja) * 2006-04-28 2013-10-09 凸版印刷株式会社 表示装置およびその製造方法
US7759629B2 (en) * 2007-03-20 2010-07-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing a semiconductor device
KR102042037B1 (ko) * 2008-07-10 2019-11-07 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광장치 및 전자기기
TW201511112A (zh) 2013-07-16 2015-03-16 Sony Corp 基板之製造方法及電子器件之製造方法
JP2015195140A (ja) * 2014-03-31 2015-11-05 株式会社東芝 フレキシブル有機el表示装置の製造方法
WO2019167131A1 (ja) * 2018-02-27 2019-09-06 堺ディスプレイプロダクト株式会社 フレキシブルoledデバイスの製造方法及び支持基板

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3809712B2 (ja) * 1996-08-27 2006-08-16 セイコーエプソン株式会社 薄膜デバイスの転写方法
JPH10150007A (ja) * 1996-11-18 1998-06-02 Toyo Chem Co Ltd 半導体ウエハ固定用シート
JPH11243209A (ja) * 1998-02-25 1999-09-07 Seiko Epson Corp 薄膜デバイスの転写方法、薄膜デバイス、薄膜集積回路装置、アクティブマトリクス基板、液晶表示装置および電子機器
JP3974749B2 (ja) * 2000-12-15 2007-09-12 シャープ株式会社 機能素子の転写方法
JP4027740B2 (ja) * 2001-07-16 2007-12-26 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
US6888305B2 (en) * 2001-11-06 2005-05-03 Universal Display Corporation Encapsulation structure that acts as a multilayer mirror

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005183374A5 (ja)
CN104409408B (zh) 一种刚性基板及柔性显示器的制作方法
JP2014032960A5 (ja) 表示装置の作製方法
JP2008513232A5 (ja)
TW201116404A (en) Multilayer structure with flexible base material and support, panel for use in electronic device provided with support and production method for panel for use in electronic device
JP2009088498A5 (ja)
JP2009158939A5 (ja)
JP2009076877A5 (ja)
WO2005091370A8 (en) Method for manufacturing integrated circuit
JP2014501018A (ja) ロール状の母基板を利用したフレキシブル電子素子の製造方法、フレキシブル電子素子及びフレキシブル基板
JP2004532336A5 (ja)
JP2004047975A5 (ja)
JP2008311635A5 (ja)
JP2006179911A (ja) セラミック厚膜素子アレイ形成方法
JP2005157324A5 (ja)
TW200508350A (en) Pressure-sensitive adhesive sheet for protecting surface and preparation thereof
JP2015518270A5 (ja)
JP2009542473A5 (ja)
JP2000265132A (ja) 両面テープ
JP2005182000A5 (ja)
JP2007157787A5 (ja)
TW200609384A (en) The manufacturing method of an Al2O3 thin film having array nano-pores
WO2008142538A3 (en) Transfer foil, method for manufacturing panels and panel obtained herewith
TWI274645B (en) Method for cutting thin film filter work pieces
JP2007013131A5 (ja)