JP2005152884A - 液滴供給設備、これを用いた表示装置の製造方法。 - Google Patents
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Abstract
【課題】 揮発性溶媒を含む液滴間の乾燥速度を調節することができる液滴供給設備を提供する。
【解決手段】 液滴供給設備のベース本体は基板が搭載されるステージと向き合う。滴下装置はベース本体に取り付けられ、複数のノズルを含んみ、液滴を基板に滴下する。蒸気供給装置は滴下装置に隣接して配置され、基板に滴下された液滴に揮発性溶媒蒸気を供給する。これによって、液滴供給設備から滴下された液滴の乾燥速度を均一にし、表示装置の映像の表示品質を向上させる。
【選択図】 図１
【解決手段】 液滴供給設備のベース本体は基板が搭載されるステージと向き合う。滴下装置はベース本体に取り付けられ、複数のノズルを含んみ、液滴を基板に滴下する。蒸気供給装置は滴下装置に隣接して配置され、基板に滴下された液滴に揮発性溶媒蒸気を供給する。これによって、液滴供給設備から滴下された液滴の乾燥速度を均一にし、表示装置の映像の表示品質を向上させる。
【選択図】 図１
Description
本発明は液滴供給設備、及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法に関し、特に、揮発性溶媒を含む液滴の乾燥速度を均一に調節する液滴供給設備及びこれを利用した表示装置の製造方法に関する。
情報処理装置の性能が向上されることによって、情報処理装置が全産業分野で幅広く使用されている。
情報処理装置で処理された出力データは電気信号形態としてコード化されている。従って、使用者が出力データを認識し、情報処理装置によりデータ入力または処理された出力データを確認するために、表示装置を必要とする。
このような表示装置は発光素子に映像を表示する発光型表示装置及び反射、散乱、干渉現象によって映像を表示する受光型表示装置を含む。
発光型表示装置としては、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）及び有機電界発光表示装置（ＯＬＥＤ）などがある。
受光型表示装置は電気化学表示装置（ＥＣＤ）及び電気泳動表示装置（ＥＰＩＤ）などがある。
情報処理装置で処理された出力データは電気信号形態としてコード化されている。従って、使用者が出力データを認識し、情報処理装置によりデータ入力または処理された出力データを確認するために、表示装置を必要とする。
このような表示装置は発光素子に映像を表示する発光型表示装置及び反射、散乱、干渉現象によって映像を表示する受光型表示装置を含む。
発光型表示装置としては、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）及び有機電界発光表示装置（ＯＬＥＤ）などがある。
受光型表示装置は電気化学表示装置（ＥＣＤ）及び電気泳動表示装置（ＥＰＩＤ）などがある。
最近、これらの表示装置のうち、有機電界発光表示装置は輝度が高く、薄くて軽く、消費電力が小さいので広く使用されている。
有機電界発光表示装置は発光部に高い電圧を印加し、高電圧中で電子を加速して発光中心に衝突させることによって発光中心を励起することで発光させることができる。
また、有機電界発光表示装置はアノード電極とカソード電極との間に有機発光層を設けることができる。有機発光層にはアノード電極及びカソード電極からそれぞれ電子と正孔が供給され、有機発光層においては電子と正孔との結合による励起子が生成される。この励起子が励起状態から基底状態に遷移するときに光が発生する。
このような有機電界発光表示装置の有機発光層は、マスクに形成された開口に有機発光物質を供給することにより行われるスクリーン印刷方法、または揮発性溶媒を含む有機発光物質を指定された位置にノズルを用いて噴射して滴下する噴射式印刷方法が広く使用されている。
有機電界発光表示装置は発光部に高い電圧を印加し、高電圧中で電子を加速して発光中心に衝突させることによって発光中心を励起することで発光させることができる。
また、有機電界発光表示装置はアノード電極とカソード電極との間に有機発光層を設けることができる。有機発光層にはアノード電極及びカソード電極からそれぞれ電子と正孔が供給され、有機発光層においては電子と正孔との結合による励起子が生成される。この励起子が励起状態から基底状態に遷移するときに光が発生する。
このような有機電界発光表示装置の有機発光層は、マスクに形成された開口に有機発光物質を供給することにより行われるスクリーン印刷方法、または揮発性溶媒を含む有機発光物質を指定された位置にノズルを用いて噴射して滴下する噴射式印刷方法が広く使用されている。
噴射式印刷方法の場合、アノード電極の周辺に隔壁を形成し、隔壁によって形成されたキャビティに有機発光物質をドロップして満たした後に有機発光物質を乾燥させることで、有機発光層を形成する。
アノード電極の個数が非常に多い場合、有機発光物質を同時に滴下しにくい。従って、基板を幾つかのグループに分け、各グループ別に有機発光物質を印刷する。
グループ別に有機発光物質を印刷する場合、各グループのエッジ部分に配置されたアノード電極に塗布された有機発光物質の乾燥速度及び各グループの中央部に配置されたアノード電極に塗布された有機発光物質の乾燥速度が互いに異なるという問題点を有する。
これによって、各グループのエッジに配置されたアノード電極に形成された有機発光層及び各グループの中央部に配置されたアノード電極に形成された有機発光層の厚さが互いに異なり、これによって各アノード電極から発生された光の輝度は互いに異なるようになり、映像の表示品質が大幅に低下されている。
アノード電極の個数が非常に多い場合、有機発光物質を同時に滴下しにくい。従って、基板を幾つかのグループに分け、各グループ別に有機発光物質を印刷する。
グループ別に有機発光物質を印刷する場合、各グループのエッジ部分に配置されたアノード電極に塗布された有機発光物質の乾燥速度及び各グループの中央部に配置されたアノード電極に塗布された有機発光物質の乾燥速度が互いに異なるという問題点を有する。
これによって、各グループのエッジに配置されたアノード電極に形成された有機発光層及び各グループの中央部に配置されたアノード電極に形成された有機発光層の厚さが互いに異なり、これによって各アノード電極から発生された光の輝度は互いに異なるようになり、映像の表示品質が大幅に低下されている。
従って、本発明はこのような問題点に鑑みなされたもので、本発明の第１目的は揮発性溶媒を含む液滴間の乾燥速度を調節することができる液滴供給設備を提供することにある。
また、本発明の第２目的は前記液滴供給設備によって表示装置を製造する方法を提供することにある。
また、本発明の第２目的は前記液滴供給設備によって表示装置を製造する方法を提供することにある。
このような本発明の第１目的を達成するために、本発明の一実施例による液滴供給設備はベース本体、滴下装置及び蒸気供給装置を含む。前記ベース本体は、基板が搭載されるステージと向き合うように設けられる。前記滴下装置は前記ベース本体に配置され、複数のノズルを含み、液滴を前記基板に滴下する。前記蒸気供給装置は、前記滴下装置に隣接して配置され、前記基板に滴下された液滴に揮発性溶媒蒸気を供給する。
前記本発明の第１目的を達成するために、本発明の他の液滴供給設備は、ベース本体、滴下装置、蒸気供給装置及びベース本体移送装置を含む。前記ベース本体は、基板が搭載されるステージと向き合う。前記滴下装置は前記ベース本体に配置され、複数のノズルを含み、第１方向に往復運動して溶質及び揮発性溶媒を含むコーティング物質を有する液滴を前記基板に滴下する。前記蒸気供給装置は前記ベース本体上に前記滴下装置に隣接して配置され、第２方向にシフトされて前記揮発性溶媒の輝度速度を均一に調節するために前記基板に滴下された液滴に揮発性溶媒蒸気を供給する。ベース本体移送装置は前記ベース本体を前記第２方向に移送する。
前記本発明の第１目的を達成するために、本発明の他の液滴供給設備は、ベース本体、滴下装置、蒸気供給装置及びベース本体移送装置を含む。前記ベース本体は、基板が搭載されるステージと向き合う。前記滴下装置は前記ベース本体に配置され、複数のノズルを含み、第１方向に往復運動して溶質及び揮発性溶媒を含むコーティング物質を有する液滴を前記基板に滴下する。前記蒸気供給装置は前記ベース本体上に前記滴下装置に隣接して配置され、第２方向にシフトされて前記揮発性溶媒の輝度速度を均一に調節するために前記基板に滴下された液滴に揮発性溶媒蒸気を供給する。ベース本体移送装置は前記ベース本体を前記第２方向に移送する。
前記本発明の第１目的を達成するために、本発明のまたの他の液滴供給設備は、ベース本体、滴下装置及びチャンバーを含む。前記ベース本体は基板が搭載されるステージと向き合う。前記滴下装置は前記ベース本体に配置され、複数のノズルを含み、第１方向に往復運動して溶質及び揮発性溶媒を含むコーティング物質を有する液滴を前記基板に滴下する。前記チャンバーは、前記ベース本体及び前記滴下装置を収納する収納空間を有するチャンバー本体と、前記収納空間に揮発性溶媒蒸気を供給する供給モジュールとを有する。
前記本発明の第１目的を達成するために、本発明のまたの他の液滴供給設備は、ベース本体、滴下装置及びチャンバーを含む。前記ベース本体は基板が搭載されるステージに対向するように配置される。前記滴下装置は前記ベース本体に配置され、複数のノズルを含み、液滴を前記基板に滴下する。前記蒸気供給装置は、前記滴下装置に隣接して配置されて、前記基板の上部表面に揮発性溶媒蒸気を供給する。
前記本発明の第２目的を達成するための本発明の表示装置の製造方法によれば、まず駆動信号が印加される第１電極が基板に形成され。続いて、前記基板に前記第１電極の周辺を取り囲んで前記第１電極の上部にキャビティを形成する隔離壁が形成される。続いて、前記キャビティに揮発性溶媒及び有機発光物質を含む液滴が滴下される。以後、前記液滴に前記揮発性溶媒蒸気が供給される。続いて、前記液滴が乾燥され前記第１電極上に有機発光層が形成される。最後に、前記有機発光層を有する基板上に第２電極が形成される。
前記本発明の第２目的を達成するための本発明の表示装置の製造方法によれば、まず駆動信号が印加される第１電極が基板に形成され。続いて、前記基板に前記第１電極の周辺を取り囲んで前記第１電極の上部にキャビティを形成する隔離壁が形成される。続いて、前記キャビティに揮発性溶媒及び有機発光物質を含む液滴が滴下される。以後、前記液滴に前記揮発性溶媒蒸気が供給される。続いて、前記液滴が乾燥され前記第１電極上に有機発光層が形成される。最後に、前記有機発光層を有する基板上に第２電極が形成される。
本発明によると、揮発性溶媒を含む液滴の周辺に揮発性溶媒蒸気を供給するようにしたので、複数の液滴の乾燥速度を均一に調節することができる。
以下、図面を参照して本発明の望ましい一実施例をより詳細に説明する。
液滴供給設備
実施例１
図１は本発明の第１実施例による液滴供給設備の側面図である。
図１に示すように、液滴供給設備１００はステージ１１０、ベース本体１２０、滴下装置１３０、蒸気供給装置１４０及びベース本体移送装置１５０を含む。
ステージ１１０は基板１０を搭載する。本実施例において基板１０は有機発光層を含む有機電界発光素子を含む。
ベース本体１２０はステージ１１０の上部に配置され、ベース本体１２０には滴下装置１３０及び蒸気供給装置１４０が固定される。
液滴供給設備
実施例１
図１は本発明の第１実施例による液滴供給設備の側面図である。
図１に示すように、液滴供給設備１００はステージ１１０、ベース本体１２０、滴下装置１３０、蒸気供給装置１４０及びベース本体移送装置１５０を含む。
ステージ１１０は基板１０を搭載する。本実施例において基板１０は有機発光層を含む有機電界発光素子を含む。
ベース本体１２０はステージ１１０の上部に配置され、ベース本体１２０には滴下装置１３０及び蒸気供給装置１４０が固定される。
図２は本発明の第１実施例による滴下装置及び蒸気供給装置を示す平面図であり。図３は図２のＩ−Ｉ´ラインにおける断面図である。
図１乃至図３に示すように、滴下装置１３０はベース本体１２０に固定される。滴下装置１３０は溶質及び揮発性溶媒を含むコーティング物質を基板１０に滴下するためのノズル１３２を有し、第１方向（図２に示した矢印Ａの方向）に往復運動し、前記第１方向と違う第２方向（図２に示した矢印Ｂの方向）にシフトされる。滴下装置１３０は複数のノズル１３２を含むことができる。第２方向は第１方向に垂直することができる。前記溶質は正孔注入物質、電子注入物質、有機発光物質、カラーフィルター用物質などを含むことができる。このとき、滴下装置１３０から基板１０に滴下される溶質は有機発光物質を含む。
図１乃至図３に示すように、滴下装置１３０はベース本体１２０に固定される。滴下装置１３０は溶質及び揮発性溶媒を含むコーティング物質を基板１０に滴下するためのノズル１３２を有し、第１方向（図２に示した矢印Ａの方向）に往復運動し、前記第１方向と違う第２方向（図２に示した矢印Ｂの方向）にシフトされる。滴下装置１３０は複数のノズル１３２を含むことができる。第２方向は第１方向に垂直することができる。前記溶質は正孔注入物質、電子注入物質、有機発光物質、カラーフィルター用物質などを含むことができる。このとき、滴下装置１３０から基板１０に滴下される溶質は有機発光物質を含む。
滴下装置１３０は、基板１０にコーティング物質を滴下するために、コーティング物質供給モジュール１３３、ノズルプレート１３４、ハウジング１３５及びハウジング移送モジュール１３６をさらに含む。
コーティング物質供給モジュール１３３はステージ１１０に固定された基板１０に供給されるコーティング物質をノズル１３２に供給する。コーティング物質供給モジュール１３３はコーティング物質を貯蔵する貯蔵タンク１３３ａ、貯蔵タンク１３３ａからコーティング物質をノズル１３２に伝送する配管１３３ｃ及びコーティング物質の流量を制御するための流量制御器（ＭＦＣ）１３３ｂをさらに含む。貯蔵タンク１３３ａに貯蔵されたコーティング物質は、溶質及び溶質を溶解させる揮発性溶媒からなる。貯蔵タンク１３３ａは、流量制御器１３３ｂを用いてコーティング物質を断続的に配管１３３ｃを通じてノズル１３２に供給する。
ノズルプレート１３４にはノズル１３２が結合される。ノズル１３２は配管１３３ｃに連結されてコーティング物質の供給を受ける。ノズル１３２は、有機発光物質を非常に小さいサイズの液滴１３０ａにしてステージ１１０に搭載された基板１０に滴下する。
ノズル１３２はハウジング１３５に固定され、ハウジング１３５はハウジング移送モジュール１３６に固定される。
ハウジング移送モジュール１３６はベース本体１２０に設置されて、滴下装置１３０のハウジング１３５を第１方向（矢印Ａの方向）に往復運動させる。ハウジング移送モジュール１３６は、第１方向に向かって延びている第１移送ロード１３６ａ、及びハウジング１３５を第１移送ロード１３６ａに沿って移送させる第１移送モジュール１３６ｂを含む。
コーティング物質供給モジュール１３３はステージ１１０に固定された基板１０に供給されるコーティング物質をノズル１３２に供給する。コーティング物質供給モジュール１３３はコーティング物質を貯蔵する貯蔵タンク１３３ａ、貯蔵タンク１３３ａからコーティング物質をノズル１３２に伝送する配管１３３ｃ及びコーティング物質の流量を制御するための流量制御器（ＭＦＣ）１３３ｂをさらに含む。貯蔵タンク１３３ａに貯蔵されたコーティング物質は、溶質及び溶質を溶解させる揮発性溶媒からなる。貯蔵タンク１３３ａは、流量制御器１３３ｂを用いてコーティング物質を断続的に配管１３３ｃを通じてノズル１３２に供給する。
ノズルプレート１３４にはノズル１３２が結合される。ノズル１３２は配管１３３ｃに連結されてコーティング物質の供給を受ける。ノズル１３２は、有機発光物質を非常に小さいサイズの液滴１３０ａにしてステージ１１０に搭載された基板１０に滴下する。
ノズル１３２はハウジング１３５に固定され、ハウジング１３５はハウジング移送モジュール１３６に固定される。
ハウジング移送モジュール１３６はベース本体１２０に設置されて、滴下装置１３０のハウジング１３５を第１方向（矢印Ａの方向）に往復運動させる。ハウジング移送モジュール１３６は、第１方向に向かって延びている第１移送ロード１３６ａ、及びハウジング１３５を第１移送ロード１３６ａに沿って移送させる第１移送モジュール１３６ｂを含む。
第１移送ロード１３６ａの両端部はベース本体１２０にピボット固定され、第１移送ロード１３６ａとハウジング１３５はスクリューによりねじ結合される。第１移送モジュール１３６ｂは第１移送ロード１３６ａを正回転または逆回転させ、その結果、ハウジング１３５は第１移送ロード１３６ａ上で第１方向に往復運動することができる。
または、第１移送ロード１３６ａをベース本体１２０に固定し、第１移送ロード１３６ａとハウジング１３５とをスライド可能に結合することができる。従って、油圧シリンダを利用して第１移送モジュール１３６ｂがハウジング１３５を第１方向に往復運動させ、その結果、ハウジング１３５は第１移送ロード１３６ａ上を第１方向に往復運動することができる。
滴下装置１３０はノズル１３２を基板１０に対して実質的に平行な状態を保持して回転させる回転ユニット１３７をさらに含むことができる。回転ユニット１３７の回転軸は基板１０の面に垂直である。回転ユニット１３７はノズル３１２を回転させることにより第１方向または第２方向に関しノズル１３２の間の間隔を調節してノズル１３２から滴下される液滴の間の間隔を調節し、基板１０に滴下された液滴１３０ａの間の間隔をノズル１３２の間の間隔（ノズルプレート１３４の長手方向に関するノズル間の間隔）より狭く形成することができる。
または、第１移送ロード１３６ａをベース本体１２０に固定し、第１移送ロード１３６ａとハウジング１３５とをスライド可能に結合することができる。従って、油圧シリンダを利用して第１移送モジュール１３６ｂがハウジング１３５を第１方向に往復運動させ、その結果、ハウジング１３５は第１移送ロード１３６ａ上を第１方向に往復運動することができる。
滴下装置１３０はノズル１３２を基板１０に対して実質的に平行な状態を保持して回転させる回転ユニット１３７をさらに含むことができる。回転ユニット１３７の回転軸は基板１０の面に垂直である。回転ユニット１３７はノズル３１２を回転させることにより第１方向または第２方向に関しノズル１３２の間の間隔を調節してノズル１３２から滴下される液滴の間の間隔を調節し、基板１０に滴下された液滴１３０ａの間の間隔をノズル１３２の間の間隔（ノズルプレート１３４の長手方向に関するノズル間の間隔）より狭く形成することができる。
蒸気供給装置１４０は、基板１０に滴下された各液滴１３０ａに含まれた揮発性溶媒の揮発速度を均一に調節して液滴１３０ａが乾燥した後に基板１０に均一なコーティング膜が形成されるようにする。
蒸気供給装置１４０はベース本体１２０に設置される。蒸気供給装置１４０は第１供給モジュール１４２及び第２供給モジュール１４４を含む。図２では第１及び第２供給モジュール１４２、１４４の両方が使用されているが、これとは異なり、第１供給モジュール１４２及び第２供給モジュール１４４のうちいずれか一つのみを使用してもよい。
第１供給モジュール１４２は第１支持部材１４２ａによってベース本体１２０に設けられる。第１供給モジュール１４２は直方六面体のボックス形状を有し、第１供給モジュール１４２の長辺は第１方向と平行になるように配置される。第１供給モジュール１４２は第１本体１４２ｂ、第１噴射溝１４２ｃ及び第１溶媒蒸気供給部１４２ｄを含む。第１供給モジュール１４２は複数の第１噴射溝１４２ｃを含むことができる。
蒸気供給装置１４０はベース本体１２０に設置される。蒸気供給装置１４０は第１供給モジュール１４２及び第２供給モジュール１４４を含む。図２では第１及び第２供給モジュール１４２、１４４の両方が使用されているが、これとは異なり、第１供給モジュール１４２及び第２供給モジュール１４４のうちいずれか一つのみを使用してもよい。
第１供給モジュール１４２は第１支持部材１４２ａによってベース本体１２０に設けられる。第１供給モジュール１４２は直方六面体のボックス形状を有し、第１供給モジュール１４２の長辺は第１方向と平行になるように配置される。第１供給モジュール１４２は第１本体１４２ｂ、第１噴射溝１４２ｃ及び第１溶媒蒸気供給部１４２ｄを含む。第１供給モジュール１４２は複数の第１噴射溝１４２ｃを含むことができる。
第１本体１４２ｂは中空の直方体のボックス形状を有する。第１本体１４２ｂの、ステージ１１０と向き合う面には複数個の第１噴射溝１４２ｃが形成される。第１溶媒蒸気供給部１４２ｄは、第１本体１４２ｂに、コーティング物質に含まれた揮発性溶媒と同一の溶媒の蒸気を供給する。第１溶媒蒸気供給部１４２ｄは、揮発性溶媒を貯蔵する第１貯蔵容器１４２ｅ、及び揮発性溶媒を気化する第１気化器１４２ｆを含む。
第２供給モジュール１４４は第２支持部材１４４ａによってベース本体１２０に設けられる。第２供給モジュール１４４は直方体のボックス形状を有し、第２供給モジュール１４４の長辺は第１方向と平行に配置される。本実施例において、第２供給モジュール１４４は第２本体１４４ｂ、第２噴射溝１４４ｃ、第２溶媒蒸気供給ユニット１４４ｄを含む。第２供給モジュール１４４は複数の第２噴射モジュール１４４ｃを含むことができる。
第２供給モジュール１４４は第２支持部材１４４ａによってベース本体１２０に設けられる。第２供給モジュール１４４は直方体のボックス形状を有し、第２供給モジュール１４４の長辺は第１方向と平行に配置される。本実施例において、第２供給モジュール１４４は第２本体１４４ｂ、第２噴射溝１４４ｃ、第２溶媒蒸気供給ユニット１４４ｄを含む。第２供給モジュール１４４は複数の第２噴射モジュール１４４ｃを含むことができる。
第２本体１４４ｃは中空の直方六面体のボックス形状を有する。第２本体１４４ｂの、ステージ１１０と向き合う面には複数個の第２噴射溝１４４ｃが形成される。第２溶媒蒸気供給ユニット１４４ｄは、第２本体１４４ｂへコーティング物質に含まれた揮発性溶媒蒸気を供給する。これを実現するために、第２溶媒蒸気供給ユニット１４４ｄは、揮発性溶媒を貯蔵する第２貯蔵容器１４４ｅ、及び揮発性溶媒を気化する第２気化器１４４ｆを含む。
または、第１及び第２供給モジュール１４２、１４４は一つの溶媒蒸気供給ユニットから、揮発性溶媒蒸気の供給を同時に受けることができる。
望ましくは、第１及び第２供給モジュール１４２、１４４の第１及び第２噴射本体１４２ｃ、１４４ｃからそれぞれ噴射された揮発性溶媒蒸気の直径は約５μｍ以下である。揮発性溶媒蒸気の直径が５μｍ以上である場合、揮発性溶媒蒸気が基板１０に直接ドロップしてしまい、基板１０が汚染されるか、コーティング物質の厚さが互いに異なって形成されてしまう可能性がある。
蒸気供給装置１４０から噴射された揮発性溶媒蒸気によって、基板１０に滴下された液滴１３０ａは液滴１３０ａの配置に関係なく一定の速度で乾燥され、液滴１３０ａが乾燥された後基板１０には一定の厚さを有するコーティング薄膜が形成される。
一方、蒸気供給装置１４０は間隔調節装置１４６をさらに含むことができる。滴下装置１３０のノズル１３２が回転ユニット１３７によって回転すると、ノズル１３２と蒸気供給装置１４０との間の間隔Ｄが変わる。間隔調節装置１４６はノズル１３２と蒸気供給装置１４０との間に形成される間隔Ｄを調節する。
望ましくは、第１及び第２供給モジュール１４２、１４４の第１及び第２噴射本体１４２ｃ、１４４ｃからそれぞれ噴射された揮発性溶媒蒸気の直径は約５μｍ以下である。揮発性溶媒蒸気の直径が５μｍ以上である場合、揮発性溶媒蒸気が基板１０に直接ドロップしてしまい、基板１０が汚染されるか、コーティング物質の厚さが互いに異なって形成されてしまう可能性がある。
蒸気供給装置１４０から噴射された揮発性溶媒蒸気によって、基板１０に滴下された液滴１３０ａは液滴１３０ａの配置に関係なく一定の速度で乾燥され、液滴１３０ａが乾燥された後基板１０には一定の厚さを有するコーティング薄膜が形成される。
一方、蒸気供給装置１４０は間隔調節装置１４６をさらに含むことができる。滴下装置１３０のノズル１３２が回転ユニット１３７によって回転すると、ノズル１３２と蒸気供給装置１４０との間の間隔Ｄが変わる。間隔調節装置１４６はノズル１３２と蒸気供給装置１４０との間に形成される間隔Ｄを調節する。
ベース本体移送装置１５０は滴下装置１３０及び蒸気供給装置１４０を第２方向（矢印Ｂの方向）に移送する。ベース本体移送装置１５０はベース本体１２０に設置される。ベース本体移送装置１５０はスクリュー方式、油圧方式などの多様な往復運送機具によって具現され得る。
実施例２
図４は本発明の第２実施例による液滴供給設備のブロック図である。
図４に示すように、液滴供給設備１００はベース本体１５１、滴下装置１６０及びチャンバー１７０を含む。
ベース本体１５１は、基板１０が搭載されるステージ１１０と向き合うように配置される。ベース本体１５０は、第２方向に延びた移送ロード１５２によって第２方向に沿って往復運動する。
滴下装置１６０は、ステージ１１０に搭載された基板１０にコーティング物質からなる液滴１６０ａを供給する。滴下装置１６０は基板１０に複数の液滴１６０ａを供給することもできる。滴下装置１６０はベース本体１５１に固定される。
滴下装置１６０は溶質及び揮発性溶媒を含むコーティング物質を含む液滴１６０ａを基板１０に滴下するためのノズルを有し、第１方向に往復運動し、第１方向と直交する第２方向（図４の矢印Ｂの方向）にシフトされる。滴下装置１６０は複数のノズル１６２を含むことができる。前記溶質は正孔注入物質、電子注入物質、有機発光物質などを含むことができる。このとき、滴下装置１６０から基板１０に滴下されるコーティング物質の溶質は有機発光物質である。
図４は本発明の第２実施例による液滴供給設備のブロック図である。
図４に示すように、液滴供給設備１００はベース本体１５１、滴下装置１６０及びチャンバー１７０を含む。
ベース本体１５１は、基板１０が搭載されるステージ１１０と向き合うように配置される。ベース本体１５０は、第２方向に延びた移送ロード１５２によって第２方向に沿って往復運動する。
滴下装置１６０は、ステージ１１０に搭載された基板１０にコーティング物質からなる液滴１６０ａを供給する。滴下装置１６０は基板１０に複数の液滴１６０ａを供給することもできる。滴下装置１６０はベース本体１５１に固定される。
滴下装置１６０は溶質及び揮発性溶媒を含むコーティング物質を含む液滴１６０ａを基板１０に滴下するためのノズルを有し、第１方向に往復運動し、第１方向と直交する第２方向（図４の矢印Ｂの方向）にシフトされる。滴下装置１６０は複数のノズル１６２を含むことができる。前記溶質は正孔注入物質、電子注入物質、有機発光物質などを含むことができる。このとき、滴下装置１６０から基板１０に滴下されるコーティング物質の溶質は有機発光物質である。
滴下装置１６０は、基板１０にコーティング物質を滴下するためにコーティング物質供給装置１６３、ノズルプレート１６４、ハウジング１６５及びハウジング移送モジュール１６６をさらに含む。
コーティング物質供給装置１６３は、ステージ１１０に固定された基板１０に、コーティング物質をノズル１６２を通じて供給する。コーティング物質供給装置１６３は、コーティング物質を貯蔵するコーティング物質貯蔵タンク１６３ａ及びコーティング物質貯蔵タンク１６３ａからコーティング物質をノズル１６２に送る配管１６３ｃ及びコーティング物質の流量を制御するための流量制御器（ｍａｓｓ ｆｌｏｗ ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ：ＭＦＣ）１６３ｂをさらに含む。コーティング物質貯蔵タンク１６３ａに貯蔵されたコーティング物質は溶質及び溶質を溶解させる揮発性溶媒からなる。貯蔵タンク１６３ａは、流量制御器１６３ｂを利用して、配管１６３ｃを通じて前記有機発光物質を断続的にノズル１６２に供給する。
コーティング物質供給装置１６３は、ステージ１１０に固定された基板１０に、コーティング物質をノズル１６２を通じて供給する。コーティング物質供給装置１６３は、コーティング物質を貯蔵するコーティング物質貯蔵タンク１６３ａ及びコーティング物質貯蔵タンク１６３ａからコーティング物質をノズル１６２に送る配管１６３ｃ及びコーティング物質の流量を制御するための流量制御器（ｍａｓｓ ｆｌｏｗ ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ：ＭＦＣ）１６３ｂをさらに含む。コーティング物質貯蔵タンク１６３ａに貯蔵されたコーティング物質は溶質及び溶質を溶解させる揮発性溶媒からなる。貯蔵タンク１６３ａは、流量制御器１６３ｂを利用して、配管１６３ｃを通じて前記有機発光物質を断続的にノズル１６２に供給する。
ノズルプレート１６４には複数個のノズル１６２が結合される。ノズル１６２は配管１６３ｃに連結されてコーティング物質の供給を受ける。ノズル１６２は有機発光物質を非常に小さいサイズの液滴１６０ａに変更しステージ１１０に搭載された基板１０に滴下する。
ハウジング１６５には、コーティング物質供給装置１６３のノズが固定される。
ハウジング移送モジュール１６６はベース本体１５０に設置され、滴下装置１６０のハウジング１６５を第１方向に往復運動させる。ハウジング移送モジュール１６６は第１方向に向かって延びた第１移送ロード１６６ａ及びハウジング１６５を第１移送ロード１６６ａに沿って移送させる第１移送モジュール１６６ｂを含む。
ハウジング１６５には、コーティング物質供給装置１６３のノズが固定される。
ハウジング移送モジュール１６６はベース本体１５０に設置され、滴下装置１６０のハウジング１６５を第１方向に往復運動させる。ハウジング移送モジュール１６６は第１方向に向かって延びた第１移送ロード１６６ａ及びハウジング１６５を第１移送ロード１６６ａに沿って移送させる第１移送モジュール１６６ｂを含む。
第１移送ロード１６６ａはベース本体１５０に取り付けられ、第１移送ロード１６６ａとハウジング１６５はスクリューによって結合されることができる。第１移送モジュール１６６ｂは第１移送ロード１６６ａを正回転または逆回転させ、その結果ハウジング１６５は第１移送ロード１６６ａに沿って第１方向に往復運動される。
または、ベース本体１５０に取り付けられた第１移送ロード１６６ａに対してシリンダを用いてハウジング１６５がスライド可能となるように、第１移送ロード１６６ａとハウジング１６５とを結合るすることができる。従って、ハウジング１６５は第１移送ロード１６６ａに沿って第１方向に往復運動される。
チャンバー１７０はチャンバー本体１７２及び蒸気供給装置１７４を含む。
チャンバー本体１７２はベース本体１５０及び滴下装置１６０を収納する収納空間１７０ａを提供する。
または、ベース本体１５０に取り付けられた第１移送ロード１６６ａに対してシリンダを用いてハウジング１６５がスライド可能となるように、第１移送ロード１６６ａとハウジング１６５とを結合るすることができる。従って、ハウジング１６５は第１移送ロード１６６ａに沿って第１方向に往復運動される。
チャンバー１７０はチャンバー本体１７２及び蒸気供給装置１７４を含む。
チャンバー本体１７２はベース本体１５０及び滴下装置１６０を収納する収納空間１７０ａを提供する。
蒸気供給装置１７４は、滴下装置１６０から基板１０に滴下される液滴１６０ａに含まれた揮発性溶媒と同一の揮発性溶媒蒸気１７４ａをチャンバー本体１７２の内部に形成された収納空間１７０ａに提供する。蒸気供給装置１７４から収納空間１７０ａに供給される揮発性溶媒蒸気１７４ａは、基板１０に滴下された液滴１６０ａに含まれた揮発性溶媒の蒸気圧と同一の蒸気圧を有する。なお、蒸気供給装置１７４から収納空間１７０ａに供給される揮発性溶媒蒸気は、基板１０に滴下された液滴１６０ａに含まれた揮発性溶媒の蒸気圧より多少低くしてもよい。
蒸気供給装置１７４は、貯蔵容器１７４ｂ、気化器１７４ｃ及び噴射部１７４ｄを含む。
蒸気供給装置１７４は、貯蔵容器１７４ｂ、気化器１７４ｃ及び噴射部１７４ｄを含む。
貯蔵ユニット１７４ｂは、液滴１６０ａに含まれる揮発性溶媒と同一の揮発性溶媒を貯蔵する。貯蔵容器１７４ｂに貯蔵された揮発性溶媒は、ポンプ１７４ｅによって気化器１７４ｃに供給される。気化器１７４ｃは、貯蔵容器１７４ｂから供給された揮発性溶媒を超音波または熱によって揮発性溶媒蒸気に変化させる。噴射部１７４ｄは、気化器１７４ｃからの揮発性溶媒蒸気を、チャンバー本体１７２の収納空間１７０ａに供給する。噴射部１７４ｄは、気化された揮発性溶媒蒸気を収納空間１７０ａに噴射することができる。このとき、噴射部１７４ｄは揮発性溶媒蒸気が供給される空いた空間を有し、また、噴射部１７４ｄには収納空間１７０ａに揮発性溶媒蒸気を供給するための複数個の噴射溝（図示せず）が設けられる。
これに加えて、貯蔵容器１７４ｂは、圧力計１７４ｆをさらに含むことができる。圧力計１７４ｆは、チャンバー本体１７２の内部に配置された揮発性溶媒蒸気の圧力を測定して、チャンバー本体１７２の内部に配置された揮発性溶媒蒸気の圧力を調節する。
これに加えて、貯蔵容器１７４ｂは、圧力計１７４ｆをさらに含むことができる。圧力計１７４ｆは、チャンバー本体１７２の内部に配置された揮発性溶媒蒸気の圧力を測定して、チャンバー本体１７２の内部に配置された揮発性溶媒蒸気の圧力を調節する。
表示装置の製造方法
実施例３
図５は本発明の第３実施例による基板に形成された周辺回路部を示す平面図であり、図６、図８及び図１０は本発明の第３実施例による周辺回路部の製造方法を示す平面図である。図７は図６のＩＩ−ＩＩ´ラインにおける断面図であり、図９は図８のＩＩＩ−ＩＩＩ´ラインにおける断面図であり、図１１は図１０のＩＶ−ＩＶ´ラインにおける断面図である。
図５乃至図７において、基板１０には全面積に亘ってゲート金属薄膜（図示せず）が形成される。ゲート金属薄膜は化学気相蒸着またはスパッタリング法によって蒸着され得る。ゲート金属薄膜の表面には、フォトレジストを塗布してフォトレジスト薄膜（図示せず）が形成される。フォトレジスト薄膜は第１パターンマスクを介して露光される。第１パターンマスクによって、ゲート金属薄膜の表面にはフォトレジストパターンが形成される。
ゲート金属薄膜はフォトレジストパターンをマスクとしてエッチングされ、フォトレジストパターンは除去される。従って、ゲート金属薄膜から基板１０にはゲート電極部ＧＥ、ゲート電極部ＧＥに連結されたゲートバスラインＧＢＬ、ストレージキャパシタの第１キャパシタ電極部Ｃｓｔ１、及び第１キャパシタ電極部Ｃｓｔ１と電気的に連結される第２ゲート電極Ｇ２が同時に形成される。
実施例３
図５は本発明の第３実施例による基板に形成された周辺回路部を示す平面図であり、図６、図８及び図１０は本発明の第３実施例による周辺回路部の製造方法を示す平面図である。図７は図６のＩＩ−ＩＩ´ラインにおける断面図であり、図９は図８のＩＩＩ−ＩＩＩ´ラインにおける断面図であり、図１１は図１０のＩＶ−ＩＶ´ラインにおける断面図である。
図５乃至図７において、基板１０には全面積に亘ってゲート金属薄膜（図示せず）が形成される。ゲート金属薄膜は化学気相蒸着またはスパッタリング法によって蒸着され得る。ゲート金属薄膜の表面には、フォトレジストを塗布してフォトレジスト薄膜（図示せず）が形成される。フォトレジスト薄膜は第１パターンマスクを介して露光される。第１パターンマスクによって、ゲート金属薄膜の表面にはフォトレジストパターンが形成される。
ゲート金属薄膜はフォトレジストパターンをマスクとしてエッチングされ、フォトレジストパターンは除去される。従って、ゲート金属薄膜から基板１０にはゲート電極部ＧＥ、ゲート電極部ＧＥに連結されたゲートバスラインＧＢＬ、ストレージキャパシタの第１キャパシタ電極部Ｃｓｔ１、及び第１キャパシタ電極部Ｃｓｔ１と電気的に連結される第２ゲート電極Ｇ２が同時に形成される。
続いて、ゲート電極部ＧＥ、ゲート電極部ＧＥに連結されたゲートバスラインＧＢＬ、ストレージキャパシタＣｓｔ１の第１キャパシタ電極部及び第１キャパシタ電極部と電気的に連結された第２ゲート電極Ｇ２が形成された基板１０には、全面積に亘って絶縁層１１が形成される。
絶縁層１１の上面には第１半導体層１２が形成される。前記第１半導体層１２は化学気相蒸着法によって形成することができる。第１半導体層１２はアモルファスシリコン薄膜を含む。
続いて、第１半導体層１２の上面には第２半導体層１３が形成される。前記第２半導体層１３は化学気相蒸着法によって形成することができる。第２半導体層１３の上面にはソース／ドレーン金属薄膜１４が形成される。前記ソース／ドレーン金属薄膜１４は化学気相蒸着法またはスパッタリング法によって形成することができる。
絶縁層１１の上面には第１半導体層１２が形成される。前記第１半導体層１２は化学気相蒸着法によって形成することができる。第１半導体層１２はアモルファスシリコン薄膜を含む。
続いて、第１半導体層１２の上面には第２半導体層１３が形成される。前記第２半導体層１３は化学気相蒸着法によって形成することができる。第２半導体層１３の上面にはソース／ドレーン金属薄膜１４が形成される。前記ソース／ドレーン金属薄膜１４は化学気相蒸着法またはスパッタリング法によって形成することができる。
図８及び図９に示すように、ソース／ドレーン金属薄膜１４の上面にフォトレジスト薄膜（図示せず）が塗布される。前記フォトレジスト薄膜（図示せず）はスピンコーティングまたはスリットコーティング法によって塗布することができる。第２パターンマスクを通してフォトレジスト薄膜は露光され、現象される。従って、ソース／ドレーン金属薄膜１４の上面にはフォトレジストパターン（図示せず）が形成される。ソース／ドレーン金属薄膜１４はフォトレジストパターンをマスクとしてパターニングされる。
ソース／ドレーン金属薄膜のパターニングによって、基板１０には第１ソース電極Ｓ１、第１ソース電極Ｓ１に電気的に連結されたデータバスラインＤＢＬ、第１ドレーン電極Ｄ１、第２ソース電極Ｓ２、第２ソース電極Ｓ２に電気的に連結された電力供給ラインＰＳＬ及び第２ドレーン電極Ｄ２が同時に形成される。
続いて、第１ソース電極Ｓ１、第１ソース電極Ｓ１に電気的に連結されたデータバスラインＤＢＬ、第１ドレーン電極Ｄ１、第２ソース電極Ｓ２、第２ソース電極Ｓ２に電気的に連結された電力供給ラインＰＳＬ及び第２ドレーン電極Ｄ２をマスクとして、第２半導体層１３及び第１半導体層１２がパターニングされる。
第２半導体層１３は、第１ソース電極Ｓ１、第１ソース電極Ｓ１に電気的に連結されたデータバスラインＤＢＬ、第１ドレーン電極Ｄ１、第２ソース電極Ｓ２、第２ソース電極Ｓ２に電気的に連結された電力供給ラインＰＳＬ及び第２ドレーン電極Ｄ２の形状と同一の形状となるようにパターニングされる。
ソース／ドレーン金属薄膜のパターニングによって、基板１０には第１ソース電極Ｓ１、第１ソース電極Ｓ１に電気的に連結されたデータバスラインＤＢＬ、第１ドレーン電極Ｄ１、第２ソース電極Ｓ２、第２ソース電極Ｓ２に電気的に連結された電力供給ラインＰＳＬ及び第２ドレーン電極Ｄ２が同時に形成される。
続いて、第１ソース電極Ｓ１、第１ソース電極Ｓ１に電気的に連結されたデータバスラインＤＢＬ、第１ドレーン電極Ｄ１、第２ソース電極Ｓ２、第２ソース電極Ｓ２に電気的に連結された電力供給ラインＰＳＬ及び第２ドレーン電極Ｄ２をマスクとして、第２半導体層１３及び第１半導体層１２がパターニングされる。
第２半導体層１３は、第１ソース電極Ｓ１、第１ソース電極Ｓ１に電気的に連結されたデータバスラインＤＢＬ、第１ドレーン電極Ｄ１、第２ソース電極Ｓ２、第２ソース電極Ｓ２に電気的に連結された電力供給ラインＰＳＬ及び第２ドレーン電極Ｄ２の形状と同一の形状となるようにパターニングされる。
従って、第１ソース電極Ｓ１の下部には第２半導体層１３のパターニングによって第１のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ１が形成され、第１ドレーン電極Ｄ１の下部には第２のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ２が形成される。第１のｎ＋アモルファスシリコンパターン及び第２のｎ＋アモルファスシリコンパターンは、互いに所定間隔で離隔され、電気的に絶縁される。一方、第２ソース電極Ｓ２の下部には第２半導体層１３のパターニングによって第３のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ３が形成され、第２のドレーン電極Ｄ２の下部には第４のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ４が形成される。第３のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ３及び第４のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ４も、互いに所定間隔で離隔され、電気的に絶縁される。
第１半導体層１２は、第１ソース電極Ｓ１が形成されたデータバスライン、第１ドレーン電極Ｄ１、第２ソース電極Ｓ２が形成された電力供給ラインＰＳＬ及び第２ドレーン電極Ｄ２がマスク役割をすることで、これらの形状と同一の形状となるようにパターニングされる。これにより、第１のｎ＋アモルファスシリコンパターン及び第２のｎ＋アモルファスシリコンパターンの底面には第１アモルファスシリコンパターンＡＳＰ１が形成され、第３のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ３及び第４のｎ＋アモルファスシリコンパターンの底面には第２アモルファスシリコンパターンＡＳＰ２が形成される。
第１半導体層１２は、第１ソース電極Ｓ１が形成されたデータバスライン、第１ドレーン電極Ｄ１、第２ソース電極Ｓ２が形成された電力供給ラインＰＳＬ及び第２ドレーン電極Ｄ２がマスク役割をすることで、これらの形状と同一の形状となるようにパターニングされる。これにより、第１のｎ＋アモルファスシリコンパターン及び第２のｎ＋アモルファスシリコンパターンの底面には第１アモルファスシリコンパターンＡＳＰ１が形成され、第３のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ３及び第４のｎ＋アモルファスシリコンパターンの底面には第２アモルファスシリコンパターンＡＳＰ２が形成される。
従って、第１ソース電極Ｓ１、第１ゲート電極Ｇ１、第１ドレーン電極Ｄ１、第１アモルファスシリコンパターンＡＳＰ１、第１のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ１及び第２のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ２を含む第１薄膜トランジスタＴＦＴ１と、第２ソース電極Ｓ２、第２ゲート電極Ｇ２、第２ドレーン電極Ｄ２、第２アモルファスシリコンパターンＡＳＰ２、第３のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ３及び第４のｎ＋アモルファスシリコンパターンｎＡＳＰ４を含む第２薄膜トランジスタＴＦＴ２と、ストレージキャパシタＣｓｔと、ゲートバスラインＧＢＬと、データバスラインＤＢＬと、電源供給ラインＰＳＬとが形成される。
図１０及び図１１に示すように、基板１０には全面積に亘って層間絶縁膜１５が形成される。前記層間絶縁膜１５は化学気相蒸着法によって形成することができる。層間絶縁膜１５の上面にはフォトレジスト薄膜（図示せず）が形成される。前記フォトレジスト薄膜（図示せず）はスピンコーティングまたはスリットコーティング法によって形成することができる。第４パターンマスクによってフォトレジスト薄膜がパターニングされて、基板１０にフォトレジストパターンが形成される。
フォトレジストパターンをマスクとして層間絶縁膜１５はエッチングされる。層間絶縁膜１５には、第１ドレーン電極Ｄ１を露出させる第１コンタクトホール、第２ゲート電極Ｇ２の一部を露出させる第２コンタクトホール、及び第２ドレーン電極Ｄ２の一部を露出させる第３コンタクトホールが形成される。
図１０及び図１１に示すように、基板１０には全面積に亘って層間絶縁膜１５が形成される。前記層間絶縁膜１５は化学気相蒸着法によって形成することができる。層間絶縁膜１５の上面にはフォトレジスト薄膜（図示せず）が形成される。前記フォトレジスト薄膜（図示せず）はスピンコーティングまたはスリットコーティング法によって形成することができる。第４パターンマスクによってフォトレジスト薄膜がパターニングされて、基板１０にフォトレジストパターンが形成される。
フォトレジストパターンをマスクとして層間絶縁膜１５はエッチングされる。層間絶縁膜１５には、第１ドレーン電極Ｄ１を露出させる第１コンタクトホール、第２ゲート電極Ｇ２の一部を露出させる第２コンタクトホール、及び第２ドレーン電極Ｄ２の一部を露出させる第３コンタクトホールが形成される。
続いて、パターニングされた層間絶縁膜１５の上面には、全面積に亘って透明で電気的抵抗が低い導電性透明薄膜（図示せず）が形成される。導電性透明薄膜（図示せず）の表面にフォトレジスト薄膜（図示せず）が塗布される。このとき、前記フォトレジスト薄膜（図示せず）はスピンコーティングまたはスリットコーティング法によって形成することができる。
フォトレジスト薄膜は第５パターンマスクを通過した光によって露光されてフォトレジスト薄膜はパターニングされる。従って、透明薄膜の上面にはフォトレジストパターンが形成される。続いて、前記フォトレジストパターン（図示せず）をマスクとして用いて前記導電性透明薄膜の一部をエッチングして層間絶縁膜１５上に第１電極１７及び連結電極１６が形成される。層間絶縁膜１５上に複数個の第１電極１７を形成することもできる。第１電極１７は第３コンタクトホールＣＴ３を介して第２ドレーン電極Ｄ２に連結され、連結電極１６は第１コンタクトホールＣＴ１を介して第１ドレーン電極Ｄ１に連結され、及び第２コンタクトホールＣＴ２を介して第２ゲート電極Ｇ２に電気的に連結される。
図１２は本発明の第３実施例による隔離壁を示す断面図であり、図１３は第３実施例による隔離壁を示す平面図である。
フォトレジスト薄膜は第５パターンマスクを通過した光によって露光されてフォトレジスト薄膜はパターニングされる。従って、透明薄膜の上面にはフォトレジストパターンが形成される。続いて、前記フォトレジストパターン（図示せず）をマスクとして用いて前記導電性透明薄膜の一部をエッチングして層間絶縁膜１５上に第１電極１７及び連結電極１６が形成される。層間絶縁膜１５上に複数個の第１電極１７を形成することもできる。第１電極１７は第３コンタクトホールＣＴ３を介して第２ドレーン電極Ｄ２に連結され、連結電極１６は第１コンタクトホールＣＴ１を介して第１ドレーン電極Ｄ１に連結され、及び第２コンタクトホールＣＴ２を介して第２ゲート電極Ｇ２に電気的に連結される。
図１２は本発明の第３実施例による隔離壁を示す断面図であり、図１３は第３実施例による隔離壁を示す平面図である。
図１２及び図１３に示すように、隔離壁１８は基板１０に配置された第１電極１７のエッジ部分を取り囲む。従って、隔離壁１８の内部には空いた空間であるキャビティ１８ａが形成される。隔離壁１８には複数のキャビティ１８ａを形成することができる。このとき、隔離壁１８は断面が台形形状を有することが望ましい。
このとき、キャビティ１８ａは第１電極１７と同様にマトリックス状に配置される。このとき、キャビティ１８ａは前記図１乃至図３で説明した液滴供給設備１００のノズル１３２の個数によってグループ化することができる。ダミー領域（Ｄｕｍｍｙ Ａｒｅａ）ＤＡは前記キャビティ１８ａを含む前記グループを取り囲む。キャビティ１８ａは第１グループ、第２グループ、第３グループに分けられ、第１グループ、第２グループ、第３グループの周辺には工程が進行されないダミー領域ＤＡが形成される。
このとき、キャビティ１８ａは第１電極１７と同様にマトリックス状に配置される。このとき、キャビティ１８ａは前記図１乃至図３で説明した液滴供給設備１００のノズル１３２の個数によってグループ化することができる。ダミー領域（Ｄｕｍｍｙ Ａｒｅａ）ＤＡは前記キャビティ１８ａを含む前記グループを取り囲む。キャビティ１８ａは第１グループ、第２グループ、第３グループに分けられ、第１グループ、第２グループ、第３グループの周辺には工程が進行されないダミー領域ＤＡが形成される。
図１４乃至図２０は液滴供給設備を用いて表示装置を製造する過程を示す概念図である。
液滴供給設備１００は前記実施例１及び実施例２に説明された液滴供給設備と同一であるのでその重複する説明は省略することにし、同一の構成部分に対しては同一の名称及び同一の参照符号を付与する。
図１４及び図１５に示すように、液滴供給設備１００の滴下装置１３０のノズル１３２は、基板１０のダミー領域ＤＡの第１ダミー領域ＤＡＬ１上に揮発性溶媒を含む有機発光物質を供給して、第１ダミー領域ＤＡＬ１にダミー液滴１３０ｂを形成する。滴下装置１３０は複数のノズル１３２を含むことができ、液滴供給設備１００は複数のダミー液滴１３０ｂを形成することもできる。ダミー液滴１３０ｂは以後、第１グループに属するキャビティ１８ａに滴下される液滴に含まれた揮発性溶媒の蒸気圧を均一にする。
液滴供給設備１００は前記実施例１及び実施例２に説明された液滴供給設備と同一であるのでその重複する説明は省略することにし、同一の構成部分に対しては同一の名称及び同一の参照符号を付与する。
図１４及び図１５に示すように、液滴供給設備１００の滴下装置１３０のノズル１３２は、基板１０のダミー領域ＤＡの第１ダミー領域ＤＡＬ１上に揮発性溶媒を含む有機発光物質を供給して、第１ダミー領域ＤＡＬ１にダミー液滴１３０ｂを形成する。滴下装置１３０は複数のノズル１３２を含むことができ、液滴供給設備１００は複数のダミー液滴１３０ｂを形成することもできる。ダミー液滴１３０ｂは以後、第１グループに属するキャビティ１８ａに滴下される液滴に含まれた揮発性溶媒の蒸気圧を均一にする。
ダミー領域ＤＡは第１グループ、第２グループ及び第３グループを取り囲む。ダミー領域ＤＡは、図１４において基板１０の左側に配置された第１ダミー領域ＤＡＬ１、基板１０の下側に配置された第２ダミー領域ＤＡＬ２及び基板１０の上側に配置された第３ダミー領域ＤＡＬ３を含む。
滴下装置１３０が第１ダミー領域ＤＡＬ１にダミー液滴１３０ｂを形成する間、第１グループには蒸気供給装置１４０の第２供給モジュール１４４が揮発性溶媒蒸気を供給する。
液滴供給設備１００が基板１０の第１ダミー領域ＤＡＬ１にダミー液滴１３０ｂを形成し終えると、液滴供給設備１００のベース本体１２０は第１グループに向かって第２方向に移動される。従って、蒸気供給装置１４０の第１供給モジュール１４２は第１ダミー領域ＤＡＬ１上に配置され、滴下装置１３０は第１グループ上に配置され、第２供給モジュール１４４は第２グループ上に配置される。このとき、滴下装置１３０は第１ダミー領域ＤＡＬ１に隣接する第３ダミー領域ＤＡＬ３にダミー液滴１３０ｂを形成しながら第１グループに向かって移動される。
滴下装置１３０が第１ダミー領域ＤＡＬ１にダミー液滴１３０ｂを形成する間、第１グループには蒸気供給装置１４０の第２供給モジュール１４４が揮発性溶媒蒸気を供給する。
液滴供給設備１００が基板１０の第１ダミー領域ＤＡＬ１にダミー液滴１３０ｂを形成し終えると、液滴供給設備１００のベース本体１２０は第１グループに向かって第２方向に移動される。従って、蒸気供給装置１４０の第１供給モジュール１４２は第１ダミー領域ＤＡＬ１上に配置され、滴下装置１３０は第１グループ上に配置され、第２供給モジュール１４４は第２グループ上に配置される。このとき、滴下装置１３０は第１ダミー領域ＤＡＬ１に隣接する第３ダミー領域ＤＡＬ３にダミー液滴１３０ｂを形成しながら第１グループに向かって移動される。
図１６及び図１７に示すように、滴下装置１３０のノズル１３２は、第１グループの内部に移動されながら第１グループに含まれたキャビティ１８ａ毎に有機発光物質を含む液滴１３０ａを滴下する。このとき、蒸気供給装置１４０の第１供給モジュール１４２は第１ダミー領域ＤＡＬ１上に配置されており、第１ダミー領域ＤＡＬ１に揮発性溶媒蒸気を供給する。蒸気供給装置１４０の第２供給モジュール１４４は第２グループに配置されており、第２グループに揮発性溶媒蒸気を供給する。
蒸気供給装置１４０が第１グループに隣接する前記第１ダミー領域ＤＡＬ１及び前記第２グループ内に揮発性溶媒蒸気を持続的に供給することによって、第１電極１７上には均一の厚さを有する薄膜が形成される。このとき、第１グループに滴下された液滴１３０ａは正孔注入物質を含む。
蒸気供給装置１４０が第１グループに隣接する前記第１ダミー領域ＤＡＬ１及び前記第２グループ内に揮発性溶媒蒸気を持続的に供給することによって、第１電極１７上には均一の厚さを有する薄膜が形成される。このとき、第１グループに滴下された液滴１３０ａは正孔注入物質を含む。
図１８及び図１９に示すように、滴下装置１３０のノズル１３２が第１グループ内の全てのキャビティ１８ａに液滴１３０ａを滴下した後、滴下装置１３０は第２グループに移動され、蒸気供給装置１４０の第１供給モジュール１４２は第１グループに移動され、蒸気供給装置１４０の第２供給モジュール１４４は第３グループに移動される。このとき、滴下装置１３０は、第２ダミー領域ＤＡＬ２にダミー液滴１３０ｂを供給した後、第２グループ内のキャビティ１８ａそれぞれに有機発光物質を含む液滴１３０ａを滴下する。このとき、蒸気供給装置１４０の第１供給モジュール１４２は第１グループ上に配置されて第１グループに滴下された液滴１３０ａに揮発性溶媒蒸気を供給し、蒸気供給装置１４０の第２供給モジュール１４４は第３グループ上に配置されて第３グループに揮発性溶媒蒸気を供給する。
前記揮発性溶媒蒸気が第１グループ及び第３グループ内に供給されて第２グループに滴下された全ての液滴１３０ａの蒸発速度が均一になる。従って、第２グループ内に形成されたキャビティ１８ａ内部に配置された第１電極１７上には、均一の厚さを有する薄膜が形成される。このとき、第２グループに滴下される液滴１３０ａは正孔注入物質を含む。
このような過程を繰り返して、液滴供給設備１００は基板１０に形成されたすべてのキャビティ１８ａに有機発光物質を含む液滴１３０ａを供給する。
その後、図２０に示すように、液滴１３０ａは乾燥され、第１電極１７の上面には正孔注入層１９ａが形成される。
このように各第１電極１７に正孔注入層が形成された後、液滴供給設備１００は、発光物質を含む液滴を正孔注入層の上面に供給して、第１電極１７の上面に有機発光層１９ｂを形成する。
そして、基板１０には全面積に亘って第２電極２０が形成される。第２電極２０はアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。
なお、、上述した図１４乃至図２０に示した工程の全てを、密閉されたチャンバー内で行ってもよい。
前記揮発性溶媒蒸気が第１グループ及び第３グループ内に供給されて第２グループに滴下された全ての液滴１３０ａの蒸発速度が均一になる。従って、第２グループ内に形成されたキャビティ１８ａ内部に配置された第１電極１７上には、均一の厚さを有する薄膜が形成される。このとき、第２グループに滴下される液滴１３０ａは正孔注入物質を含む。
このような過程を繰り返して、液滴供給設備１００は基板１０に形成されたすべてのキャビティ１８ａに有機発光物質を含む液滴１３０ａを供給する。
その後、図２０に示すように、液滴１３０ａは乾燥され、第１電極１７の上面には正孔注入層１９ａが形成される。
このように各第１電極１７に正孔注入層が形成された後、液滴供給設備１００は、発光物質を含む液滴を正孔注入層の上面に供給して、第１電極１７の上面に有機発光層１９ｂを形成する。
そして、基板１０には全面積に亘って第２電極２０が形成される。第２電極２０はアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。
なお、、上述した図１４乃至図２０に示した工程の全てを、密閉されたチャンバー内で行ってもよい。
実施例４
図２１は本発明の第４実施例によるカラーフィルターの製造方法を示す断面図であり、図２２は本発明の第４実施例によるカラーフィルター基板を示す断面図である。液滴供給設備１００は前記実施例及び実施例２に説明された液滴供給設備と同一であるので、その重複する説明は省略し、同一の部分に対しては同一の名称及び同一の参照符号を付与する。
図２１及び図２２に示すように、前記液滴供給設備１００は揮発性溶媒を供給しながらブラックマトリックス１００２が形成された基板１０００上に赤色顔料及び揮発性溶媒を含む液滴を供給して赤色カラーフィルター１００４ａを形成する。続いて、前記赤色カラーフィルター１００４ａが形成された基板１０００上に緑色顔料及び前記揮発性溶媒を含む液滴を供給して緑色カラーフィルター１００４ｂを形成する。続いて、前記赤色及び緑色カラーフィルター１００４ａ、１００４ｂが形成された基板１０００上に青色顔料及び前記揮発性溶媒を含む液滴を供給して青色カラーフィルター１００４ｃを形成する。このとき、液滴が赤色、緑色または青色染料を含むことができる。その後、前記赤色、緑色及び青色カラーフィルター１００４ａ、１００４ｂ、１００４ｃが形成された基板１０００上にオーバーコーティング層１００５及び共通電極１００６が形成される。
以上、詳細に説明したように、表示装置から光を発生させるために画素に滴下される液滴の乾燥速度を精密に調節して薄膜の厚さを均一にして映像の表示品質を向上させることができる。
以上、本発明を実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
図２１は本発明の第４実施例によるカラーフィルターの製造方法を示す断面図であり、図２２は本発明の第４実施例によるカラーフィルター基板を示す断面図である。液滴供給設備１００は前記実施例及び実施例２に説明された液滴供給設備と同一であるので、その重複する説明は省略し、同一の部分に対しては同一の名称及び同一の参照符号を付与する。
図２１及び図２２に示すように、前記液滴供給設備１００は揮発性溶媒を供給しながらブラックマトリックス１００２が形成された基板１０００上に赤色顔料及び揮発性溶媒を含む液滴を供給して赤色カラーフィルター１００４ａを形成する。続いて、前記赤色カラーフィルター１００４ａが形成された基板１０００上に緑色顔料及び前記揮発性溶媒を含む液滴を供給して緑色カラーフィルター１００４ｂを形成する。続いて、前記赤色及び緑色カラーフィルター１００４ａ、１００４ｂが形成された基板１０００上に青色顔料及び前記揮発性溶媒を含む液滴を供給して青色カラーフィルター１００４ｃを形成する。このとき、液滴が赤色、緑色または青色染料を含むことができる。その後、前記赤色、緑色及び青色カラーフィルター１００４ａ、１００４ｂ、１００４ｃが形成された基板１０００上にオーバーコーティング層１００５及び共通電極１００６が形成される。
以上、詳細に説明したように、表示装置から光を発生させるために画素に滴下される液滴の乾燥速度を精密に調節して薄膜の厚さを均一にして映像の表示品質を向上させることができる。
以上、本発明を実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
１０、１０００ 基板
１８ 隔離壁
１８ａ キャビティ
１００ 液滴供給設備
１１０ ステージ
１２０ ベース本体
１３０ 滴下装置
１３２ ノズル
１３３ コーティング物質供給モジュール
１３３ａ 貯蔵タンク
１３３ｂ 流量制御器
１３３ｃ 配管
１３４ ノズルプレート
１３５ ハウジング
１３６ ハウジング移送モジュール
１３６ｂ 第１移送モジュール
１３７ 回転ユニット
１４０ 蒸気供給装置
１４２ 第１供給モジュール
１４２ａ 第１支持部材
１４２ｂ 第１本体
１４２ｃ 第１噴射溝
１４２ｅ 第１貯蔵容器
１４２ｆ 第１気化器
１４４ 第２供給モジュール
１４４ａ 第２支持部材
１４４ｂ 第２本体
１４４ｃ 第２噴射溝
１４６ 間隔調節装置
１５０ ベース本体移送装置
１６０ 滴下装置
１６３ コーティング物質供給装置
１６３ｃ 配管
１６４ ノズルプレート
１６５ ハウジング
１６６ ハウジング移送モジュール
１６６ａ 第１移送ロード
１７０ チャンバー
１７０ａ 収納空間
１７２ チャンバー本体
１７４ 蒸気供給装置
１００２ ブラックマトリックス
１００４ａ 赤色カラーフィルター
１００４ｂ 緑色カラーフィルター
１００４ｃ 青色カラーフィルター
１００５ オーバーコーティング層
１００６ 共通電極
１８ 隔離壁
１８ａ キャビティ
１００ 液滴供給設備
１１０ ステージ
１２０ ベース本体
１３０ 滴下装置
１３２ ノズル
１３３ コーティング物質供給モジュール
１３３ａ 貯蔵タンク
１３３ｂ 流量制御器
１３３ｃ 配管
１３４ ノズルプレート
１３５ ハウジング
１３６ ハウジング移送モジュール
１３６ｂ 第１移送モジュール
１３７ 回転ユニット
１４０ 蒸気供給装置
１４２ 第１供給モジュール
１４２ａ 第１支持部材
１４２ｂ 第１本体
１４２ｃ 第１噴射溝
１４２ｅ 第１貯蔵容器
１４２ｆ 第１気化器
１４４ 第２供給モジュール
１４４ａ 第２支持部材
１４４ｂ 第２本体
１４４ｃ 第２噴射溝
１４６ 間隔調節装置
１５０ ベース本体移送装置
１６０ 滴下装置
１６３ コーティング物質供給装置
１６３ｃ 配管
１６４ ノズルプレート
１６５ ハウジング
１６６ ハウジング移送モジュール
１６６ａ 第１移送ロード
１７０ チャンバー
１７０ａ 収納空間
１７２ チャンバー本体
１７４ 蒸気供給装置
１００２ ブラックマトリックス
１００４ａ 赤色カラーフィルター
１００４ｂ 緑色カラーフィルター
１００４ｃ 青色カラーフィルター
１００５ オーバーコーティング層
１００６ 共通電極
Claims (26)
- 基板が搭載されるステージに対向するベース本体と、
前記ベース本体に配置され、複数のノズルを含み、液滴を前記基板に滴下する滴下装置と、
前記滴下装置に隣接して配置され、前記基板に滴下された液滴に揮発性溶媒蒸気を供給する蒸気供給装置と、
を含む液滴供給設備。 - 前記液滴は溶質及び揮発性溶媒を含むことを特徴とする請求項１記載の液滴供給設備。
- 前記溶質は、正孔注入物質と、電子注入物質と、有機発光物質またはカラーフィルター用物質と、を含むことを特徴とする請求項２記載の液滴供給設備。
- 前記滴下装置は第１方向に往復運動し第２方向にシフトされ、前記蒸気供給装置は前記滴下装置と共に前記第２方向にシフトされることを特徴とする請求項１記載の液滴供給設備。
- 前記液晶供給設備は前記ベース本体を前記第２方向に移送するベース本体移送装置をさらに含むことを特徴とする請求項４記載の液滴供給装置。
- 基板が搭載されるステージに対向するベース本体と、
前記ベース本体に配置され、複数のノズルを含み、第１方向に往復運動して溶質及び揮発性溶媒を含むコーティング物質を有する液滴を前記基板に滴下する滴下装置と、
前記ベース本体上に前記滴下装置に隣接して配置され、第２方向にシフトされ、前記揮発性溶媒の輝度速度を均一に調節するために前記基板に滴下された液滴に揮発性溶媒蒸気を供給する蒸気供給装置と、
前記ベース本体を前記第２方向に移送するベース本体移送装置と、
を含む液滴供給設備。 - 前記ノズルは一列に配列されることを特徴とする請求項６記載の液滴供給設備。
- 前記滴下装置は、前記ノズルを通じて前記コーティング物質を供給するコーティング物質供給モジュールと、前記ノズルに結合されたハウジングと、前記ハウジングを前記第１方向に往復運動させるハウジング移送モジュールと、をさらに含むことを特徴とする請求項６記載の液滴供給設備。
- 前記滴下装置は前記ノズルを回転させる回転ユニットをさらに含み、前記回転ユニットの回転軸は前記基板に対して垂直であることを特徴とする請求項６記載の液滴供給設備。
- 前記溶質は有機発光物質を含むことを特徴とする請求項６記載の液滴供給設備。
- 前記溶質は正孔注入物質または電子注入物質を含むことを特徴とする請求項６記載の液滴供給設備。
- 前記蒸気供給装置は、前記ノズルに隣接して配置された第１供給モジュール及び前記第１供給モジュールと対向する位置に配置された第２供給モジュールを含み、
前記ノズルは前記第１供給モジュールと前記第２供給モジュールとの間に配置されたことを特徴とする請求項６記載の液滴供給設備。 - 前記第１供給モジュールは、複数個の第１噴射溝を有する第１本体と、前記第１噴射溝を通じて前記第１本体に前記揮発性溶媒蒸気を供給する第１溶媒蒸気供給部とを含み、
前記第２供給モジュールは、複数個の第２噴射溝を有する第２本体と、前記第２噴射溝を通じて前記第２本体に前記揮発性溶媒蒸気を供給する第２溶媒蒸気供給部とを含むことを特徴とする請求項１２記載の液滴供給設備。 - 前記第１溶媒蒸気供給部は前記揮発性溶媒を貯蔵する第１貯蔵容器と、前記第１貯蔵容器から供給された前記揮発性溶媒を気化させる第１気化器とを含み、前記第２溶媒蒸気供給部は前記揮発性溶媒を貯蔵する第２貯蔵容器と、前記第２貯蔵容器から供給された前記揮発性溶媒を気化させる第２気化器とを含むことを特徴とする請求項１３記載の液滴供給設備。
- 前記第１及び第２噴射溝から噴射された前記揮発性溶媒蒸気の直径は５μｍ以下であることを特徴とする請求項１３記載の液滴供給設備。
- 前記蒸気供給装置は前記滴下装置の前記ノズルと成す間隔を調節するための間隔調節ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項６記載の液滴供給設備。
- 前記ベース本体移送装置は、前記ベース本体を１ｍｍ/秒〜１０ｍｍ/秒の速度で移動させることを特徴とする請求項６記載の液滴供給設備。
- 基板が搭載されるステージに対向するベース本体、
前記ベース本体に配置され、複数のノズルを含み、第１方向に往復運動して溶質及び揮発性溶媒を含むコーティング物質を有する液滴を前記基板に滴下する滴下装置、及び
前記ベース本体及び前記滴下装置を収納する収納空間を有するチャンバー本体と、前記収納空間に揮発性溶媒蒸気を供給部する供給モジュールとを有するチャンバー、
を含むことを特徴とする液滴供給設備。 - 前記ノズルは一列に配列されることを特徴とする請求項１８記載の液滴供給設備。
- 前記蒸気供給装置は、
前記揮発性溶媒を貯蔵する貯蔵容器と、
前記貯蔵容器から前記揮発性溶媒を前記揮発性溶媒蒸気に変更させて前記収納空間に供給する気化器と、
前記揮発性溶媒蒸気を前記収納空間に噴射する噴射部と、
を含むことを特徴とする請求項１８記載の液滴供給設備。 - 前記収納空間内の前記揮発性溶媒蒸気の蒸気圧力は、前記基板に滴下された液滴に含まれた前記揮発性溶媒の蒸気圧と同一であることを特徴とする請求項１８記載の液滴供給設備。
- 前記収納空間内の前記揮発性溶媒蒸気の蒸気圧力は前記基板に滴下された液滴に含まれた前記揮発性溶媒の蒸気圧より低いことを特徴とする請求項１８記載の液滴供給設備。
- 基板が搭載されるステージに対向するベース本体と、
前記ベース本体に配置され、複数のノズルを含み、液滴を前記基板に滴下する滴下装置と、
前記滴下装置に隣接して配置され、前記基板の上部表面に揮発性溶媒蒸気を供給する蒸気供給装置と、
を含むことを特徴とする液滴供給設備。 - 駆動信号が印加される第１電極を基板に形成する段階と、
前記基板に、前記第１電極の各々の周辺を取り囲んで前記第１電極の上部にキャビティを形成する隔離壁を形成する段階と、
前記キャビティに揮発性溶媒及び有機発光物質を含む液滴を滴下する段階と、
前記液滴上に前記揮発性溶媒蒸気を供給する段階と、
前記液滴を乾燥させて前記第１電極上に有機発光層を形成する段階と、
前記有機発光層を有する基板上に第２電極を形成する段階と、
を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記揮発性溶媒蒸気を供給する段階は密閉された空間で行われることを特徴とする請求項２４記載の表示装置の製造方法。
- 前記有機発光層を形成する段階は、
前記第１電極の表面に正孔注入物質を含む第１液滴を滴下する段階と、
前記第１液滴を乾燥させて正孔注入層を形成する段階と、
前記正孔注入層上に有機発光物質を含む第２液滴を滴下する段階と、
前記第２液滴を乾燥させて前記正孔注入層の上に有機発光層を形成する段階と、
を含むことを特徴とする請求項２４記載の表示装置の製造方法。
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