JP2007024925A - ディスプレイパネル、ディスプレイパネルの製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】正孔輸送層20d及び発光層20eの原料が溶解される溶媒を貯留溜64に注入した後、この貯留溜64から揮発した溶媒の蒸気によって、発光領域Eにおける雰囲気中の溶媒分圧を均等に維持した状態にすることにより、略均一な溶媒雰囲気下において有機EL層20bを形成する。
【選択図】図11
Description
そのため、跳ね返った有機EL材料が画素Pと隣接する画素Pに塗布された他の色の有機EL材料と混色されるといった問題や、噴射位置及び噴射時期の制御に関して高い精度が要求されるといった問題が生じていた。
そのため、周辺画素P2においては、溶媒の乾燥速度が画素P1の乾燥速度よりも早く、これに伴い溶媒が均一に乾燥せずに乾燥ムラが生じる。このため同一周辺画素P2では、有機ELディスプレイ101の中央に近い方が遠い方よりも乾燥が遅れ、濃度の高い溶液が凝集しやすくなり、最終的には、周辺画素P2又は周辺画素P2に近い画素P1ほど、有機EL層104の膜厚にばらつきが生じ、場合によっては発光特性が不均一になり易いといった問題が生じている。
基板の一面に有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液を塗布するディスプレイパネルの製造方法において、
前記有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する溶媒が含有された溶媒揮発部を具備する製造装置の所定の位置に配置された前記基板に、前記溶媒揮発部から前記溶媒が揮発している状態で、前記有機化合物含有溶液を塗布する塗布工程を具備することを特徴とする。
前記有機EL層が、互いに異なる発光色を発する複数の発光層であり、
前記塗布工程が、前記溶媒揮発部の延在方向に沿って同一の発光色を発する発光層が形成されるように前記有機化合物含有溶液を連続して塗布することを特徴とする
前記塗布工程が、
前記基板に塗布される第1有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する第1溶媒が含有された第1溶媒揮発部を具備する製造装置の所定の位置に配置された前記基板に、当該第1溶媒揮発部から前記溶媒が揮発している状態で、前記第1有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液を塗布する第1塗布工程と、
前記基板に塗布される第2有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する第2溶媒が含有された第2溶媒揮発部を具備する製造装置の所定の位置に配置された前記基板に、当該第2溶媒揮発部から前記溶媒が揮発している状態で、前記第2有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液を塗布する第2塗布工程とを有することを特徴とする。
前記第2有機EL層が、前記第1有機EL層と接するように成膜され、
前記第2溶媒が、前記第1有機EL層に対して不溶性又は難溶性の溶媒であることを特徴とする。
有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する溶媒を基板の非発光領域に塗布する第1塗布工程と、
有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液を前記基板の発光領域に塗布する第2塗布工程とを具備することを特徴とする。
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて説明する。但し、以下に述べる第1実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
ここで、図1は、ディスプレイパネル1における発光領域Eの配置構成を示す平面図であり、図2は、ディスプレイパネル1の概略構成を示す平面図であり、図3は、ディスプレイパネル1における発光領域Eの他の配置構成を示す平面図である。
ここで、図4は、各画素Pにおける回路構成を示す等価回路図である。
本実施形態における画素Pは、何れの画素Pも同様に構成されており、1ドットの画素Pには、図2に示すように、トランジスタ21と、キャパシタ22とを有する画素回路23と、画素回路23に接続された有機EL素子20と、が設けられている。各有機EL素子20の他端には、共通基準電圧Vssが印加されている。画素回路23のトランジスタ21は、複数のトランジスタでも単数のトランジスタであってもよく、複数のトランジスタの場合、単一チャネル型であってもよい。また、Nチャネル型トランジスタ及びPチャネル型トランジスタの両方を備えていてもよい。さらに、アモルファスシリコンTFT(Thin Film Transistor)であってもよく、ポリシリコンTFTであってもよい。
ここで、図5は、図1に示された破断線V−Vに沿って絶縁基板2の厚さ方向に切断した矢視断面図である。
本実施形態におけるディスプレイパネル1には、図5に示すように、光透過性を有する可撓性を有するシート状、または剛性を有する平板状の絶縁基板2が具備されている。この絶縁基板2は、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス、その他のガラス、PMMA(ポリメタクリ酸メチル)、ポリカーボネート、その他の樹脂等の透明な材料によって成形されている。
具体的には、絶縁基板2の上面に、各画素回路23のトランジスタ21のゲート21g、このゲート21gに接続された複数の走査線X、並びに複数の供給線Zが設けられている。そして、この上からゲート絶縁膜31がベタ一面に成膜されており、発光領域Eにおけるゲート絶縁膜31の上面には、複数の信号線Yと、ゲート21gに対向して配置した半導体膜21cとが設けられている。また、トランジスタ21は、上述したゲート21gの他に、半導体膜21cの中央部上に形成されたチャネル保護膜21pと、半導体膜21cの両端部上において互いに離間するよう形成され、チャネル保護膜21pに一部重なった不純物半導体膜21a,21bと、不純物半導体膜21aの上部に形成されたドレイン21dと、不純物半導体膜21bの上部に形成されたソース21sとを有している。
また、各画素Pにおける平坦化膜33及びトランジスタ保護絶縁膜32には、コンタクトホール91が穿設されており、このコンタクトホール91には、導電性パッド92が埋設されている。
ここで、本実施形態における絶縁基板2から平坦化膜33までの積層構造を、トランジスタアレイパネル50という。
また、隔壁Wは、画素Pが配列されている領域の外側において、互いに接続されていてもよい。
ここで、本実施形態においては、画素電極20a、有機EL層20b、対向電極20cの順に積層されたものを有機EL素子20とする。
ここで、図6は、ノズルプリンティング装置61の内部構造の概略を示す平面図であり、図7は、絶縁基板2が配置されたノズルプリンティング装置61を図6のVII−VII線に沿って厚さ方向に切断した断面図であり、図8は、絶縁基板2が配置されたノズルプリンティング装置61の他の内部構造を示す断面図であり、図9は、絶縁基板2が配置されたノズルプリンティング装置61の他の内部構造を示す断面図である。
このため、貯留溜64に貯留された溶媒は、有機化合物含有液の塗布作業中に乾燥しないだけの液量が貯留されている。このように、ディスプレイパネル1の外側に貯留溜64を設けることにより、ディスプレイパネル1の内側に貯留溜64を設けた場合に比べて少なくとも貯留溜64の幅寸法の分だけ狭額縁にすることができる。
ここで、本実施形態における溶媒には、有機EL層20bとなる材料液に含有される溶媒と同一の溶媒が用いられるが、有機EL層20bとなる材料の溶解性に応じて親油性溶媒であるか親水性溶媒であるかが選択される。
ここで、第2溶媒は、第1電荷輸送層に対して不溶性又は難溶性の溶媒であることが好ましい。
ここで、供給機構は、貯留溜64における溶媒の残量が一定となるように溶媒を供給することが好ましい。
ここで、図10は、有機化合物含有液の塗布工程の態様を示す平面図であり、図11は、有機EL層20bの乾燥後におけるディスプレイパネルを破断線XI−XIに沿って絶縁基板2の厚さ方向に切断した矢視断面図である。
そして、図10中の有機EL層20bの位置に沿って、ノズル66を第1基板ステージ62に対して相対的に移動又は適宜停止しながら、ノズル66が、PEDOT及びPSSを親水性溶媒に溶解させた有機化合物含有溶液を、隔壁Wによって囲繞された各中央側画素PC及び各周辺画素PSの画素電極20aの上面に塗布し、正孔輸送層20dを形成させる。
このとき、各周辺画素PSの近傍では、貯留溜64における有機化合物含有溶液の親水性溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する溶媒が揮発しているので、中央側画素PCにおける近傍の雰囲気と同程度になることで、周辺画素PSの膜厚を中央側画素PCと同様に均等に形成することができる。
このとき、各周辺画素PS近傍では、第2貯留溜64での有機化合物含有溶液の親油性溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する溶媒が揮発しているので、中央側画素PCにおける近傍の雰囲気と同程度になり、周辺画素PSの膜厚は中央側画素PCと同様に均等に形成される。
そのため、発光領域Eにおける乾燥ムラの発生を防止して、各画素Pの有機EL素子20の膜厚を均一にすることができる。
このようなノズルプリンティング装置61を適用することで、ディスプレイパネル1に貯留溜64や貯留容器65を設ける必要がなくなるため、ディスプレイパネル1の狭額縁化が可能となり、ディスプレイパネル1における発光領域Eの比率を高くすることができる。
次に、図13を参照しながら、第2実施形態におけるディスプレイパネル、ディスプレイパネルの製造方法及び製造装置について説明する。ただし、本実施形態は、上述した第1実施形態と比較すると、ノズル66と、ノズルプリンティング装置71における基板ステージ72の構成とが異なっており、その他の構成については、第1実施形態と同様である。そこで、本実施形態では、第1実施形態と同様の構成には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略し、有機化合物含有溶液の塗布方法を中心とした説明を行う。
ここで、図13は、有機溶媒及び有機化合物含有液の塗布工程の態様を示す平面図である。
また、ノズル66と同様に、有機EL層20bの材料を含有する有機化合物含有液を吐出する第1ノズル76が設けられるとともに、この有機化合物含有液の溶媒と同一又は類似の揮発特性の溶媒78を吐出する第2ノズル77が設けられている。
まず、第2ノズル77は、トランジスタアレイパネル50において垂直方向に沿って設けられた非発光領域Nに対して有機EL層20bとなる材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性の溶媒78を塗布する。
この際、第2ノズル77は、溶媒78の吐出量を均一にするために、トランジスタアレイパネル50に吐出する前に、トランジスタアレイパネル50の周囲の基板ステージ72上から吐出を開始することが好ましい。
その後、第1実施形態と同様に一連の工程を経て、ディスプレイパネル71が完成する。
上記実施形態では、第1ノズル76が各周辺画素PSに有機EL層20bとなる有機化合物含有溶液を塗布するのに同期して、第2ノズル77が、非発光領域Nに対して有機EL層20bとなる材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性の溶媒78を塗布してもよい。
まず、純粋超音波による洗浄処理済の絶縁基板2に、減圧酸素プラズマ法による親水化処理を施す。この際、親水化処理は、圧力50〜100Pa、陰極電力250W、処理時間10min以下の条件に設定して行った。
次に、対角6インチの発光領域Eと、この発光領域Eを囲繞する非発光領域Nとが配設された絶縁基板2の上面に、ノズルプリンティング法を用いた積層方法により、画素電極20aと、正孔輸送層20dと、発光層20eと、対向電極20cとを順次積層させて、有機EL素子20を形成させる。
さらに、適宜乾燥処理を施すことにより、残留した溶媒を除去させ、ディスプレイパネル1を成形した。
2 絶縁基板
20 有機EL素子
20a 画素電極
20b 有機EL層
20c 対向電極
20d 正孔輸送層
20e 発光層
21 トランジスタ
61,71 ノズルプリンティング装置
62,72 基板ステージ
64 貯留溜
E 発光領域
P 画素
W 隔壁
Claims (14)
- 基板の一面に有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液を塗布するディスプレイパネルの製造方法において、
前記有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する溶媒が含有された溶媒揮発部を具備する製造装置の所定の位置に配置された前記基板に、前記溶媒揮発部から前記溶媒が揮発している状態で、前記有機化合物含有溶液を塗布する塗布工程を具備することを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。 - 前記溶媒揮発部は、前記基板に沿って配置されていることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイパネルの製造方法。
- 前記塗布工程では、前記溶媒揮発部の延在方向に沿って前記基板に前記有機化合物含有溶液を塗布することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のディスプレイパネルの製造方法。
- 前記有機EL層は、互いに異なる発光色を発する複数の発光層であり、
前記塗布工程は、前記溶媒揮発部の延在方向に沿って同一の発光色を発する発光層が形成されるように前記有機化合物含有溶液を連続して塗布することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のディスプレイパネルの製造方法。 - 前記溶媒揮発部は、前記塗布工程中に前記溶媒を注入する供給機構を具備することを特徴とする請求項1から請求項4の何れか一項に記載のディスプレイパネルの製造方法。
- 前記溶媒は、有機EL層の原材料が含有されていることを特徴とする請求項1から請求項5の何れか一項に記載のディスプレイパネルの製造方法。
- 前記塗布工程は、
前記基板に塗布される第1有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する第1溶媒が含有された第1溶媒揮発部を具備する製造装置の所定の位置に配置された前記基板に、当該第1溶媒揮発部から前記溶媒が揮発している状態で、前記第1有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液を塗布する第1塗布工程と、
前記基板に塗布される第2有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する第2溶媒が含有された第2溶媒揮発部を具備する製造装置の所定の位置に配置された前記基板に、当該第2溶媒揮発部から前記溶媒が揮発している状態で、前記第2有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液を塗布する第2塗布工程とを有することを特徴とする請求項1から請求項6の何れか一項に記載のディスプレイパネルの製造方法。 - 前記第2有機EL層は、前記第1有機EL層と接するように成膜され、
前記第2溶媒は、前記第1有機EL層に対して不溶性又は難溶性の溶媒であることを特徴とする請求項7に記載のディスプレイパネルの製造方法。 - 請求項1から請求項8の何れか一項に記載したディスプレイパネルの製造方法における前記溶媒揮発部を有することを特徴とするディスプレイパネルの製造装置。
- 請求項1から請求項8の何れか一項に記載したディスプレイパネルの製造方法を用いて製造されたことを特徴とするディスプレイパネル。
- 有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液の溶媒と同一又は類似の揮発特性を有する溶媒を基板の非発光領域に塗布する第1塗布工程と、
有機EL層の原材料が溶解又は分散された有機化合物含有溶液を前記基板の発光領域に塗布する第2塗布工程とを具備することを特徴とするディスプレイパネルの製造方法。 - 前記第1塗布工程は、前記第2塗布工程より前に、または前記第2塗布工程と同期して行われることを特徴とする請求項11に記載のディスプレイパネルの製造方法。
- 請求項11又は請求項12に記載のディスプレイパネルの製造方法における前記第1塗布工程及び前記第2塗布工程を行う塗布装置を有することを特徴とするディスプレイパネルの製造装置。
- 請求項11又は請求項12に記載のディスプレイパネルの製造方法を用いて製造されたことを特徴とするディスプレイパネル。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008305602A (ja) * | 2007-06-06 | 2008-12-18 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 |
CN107799575A (zh) * | 2017-10-31 | 2018-03-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示器基板、其制造方法、显示器及补偿构件贴片 |
CN111384123A (zh) * | 2018-12-28 | 2020-07-07 | 乐金显示有限公司 | 电致发光照明装置 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002100472A (ja) * | 2000-07-10 | 2002-04-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 成膜装置、発光装置及びその作製方法 |
JP2002222695A (ja) * | 2000-11-27 | 2002-08-09 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス装置並びに電子機器 |
JP2003010756A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板塗布装置 |
JP2003077673A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-03-14 | Honda Motor Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2003164791A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-10 | Seiko Epson Corp | 塗布方法及び塗布装置 |
JP2003283104A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-03 | Seiko Epson Corp | デバイス製造方法、デバイス製造装置、デバイス |
JP2004298787A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Seiko Epson Corp | 描画装置、電子光学装置及び電子機器 |
JP2004361907A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-12-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 機能性素子の製造方法 |
JP2005040688A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成装置、薄膜形成方法、液晶装置の製造装置、液晶装置の製造方法、液晶装置、薄膜構造体の製造装置、薄膜構造体の製造方法、薄膜構造体、および電子機器 |
JP2005119139A (ja) * | 2003-10-16 | 2005-05-12 | Seiko Epson Corp | 機能液滴吐出ヘッドの吐出量測定方法およびその装置、機能液滴吐出ヘッドの駆動制御方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
JP2005152884A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-16 | Samsung Electronics Co Ltd | 液滴供給設備、これを用いた表示装置の製造方法。 |
JP2006015242A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置及び薄膜形成方法 |
JP2006159077A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Seiko Epson Corp | 膜形成装置、膜形成方法、液滴吐出装置及びパレット |
-
2005
- 2005-07-12 JP JP2005202567A patent/JP2007024925A/ja active Pending
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002100472A (ja) * | 2000-07-10 | 2002-04-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 成膜装置、発光装置及びその作製方法 |
JP2002222695A (ja) * | 2000-11-27 | 2002-08-09 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス装置並びに電子機器 |
JP2003077673A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-03-14 | Honda Motor Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2003010756A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板塗布装置 |
JP2003164791A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-10 | Seiko Epson Corp | 塗布方法及び塗布装置 |
JP2003283104A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-03 | Seiko Epson Corp | デバイス製造方法、デバイス製造装置、デバイス |
JP2004298787A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Seiko Epson Corp | 描画装置、電子光学装置及び電子機器 |
JP2004361907A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-12-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 機能性素子の製造方法 |
JP2005040688A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成装置、薄膜形成方法、液晶装置の製造装置、液晶装置の製造方法、液晶装置、薄膜構造体の製造装置、薄膜構造体の製造方法、薄膜構造体、および電子機器 |
JP2005119139A (ja) * | 2003-10-16 | 2005-05-12 | Seiko Epson Corp | 機能液滴吐出ヘッドの吐出量測定方法およびその装置、機能液滴吐出ヘッドの駆動制御方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
JP2005152884A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-16 | Samsung Electronics Co Ltd | 液滴供給設備、これを用いた表示装置の製造方法。 |
JP2006015242A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置及び薄膜形成方法 |
JP2006159077A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Seiko Epson Corp | 膜形成装置、膜形成方法、液滴吐出装置及びパレット |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008305602A (ja) * | 2007-06-06 | 2008-12-18 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 |
CN107799575A (zh) * | 2017-10-31 | 2018-03-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示器基板、其制造方法、显示器及补偿构件贴片 |
WO2019085818A1 (en) * | 2017-10-31 | 2019-05-09 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Substrate for light emitting display panel having display area and peripheral area, method of fabricating light emitting display panel, solvent vapor compensation reservoir for fabricating substrate for light emitting display panel, and display apparatus |
CN107799575B (zh) * | 2017-10-31 | 2020-04-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示器基板、其制造方法、显示器及补偿构件贴片 |
CN111384123A (zh) * | 2018-12-28 | 2020-07-07 | 乐金显示有限公司 | 电致发光照明装置 |
CN111384123B (zh) * | 2018-12-28 | 2024-02-27 | 乐金显示有限公司 | 电致发光照明装置 |
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