KR101926225B1 - 고해상도 유기 발광 다이오드 장치 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 134
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 55
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims abstract description 53
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 189
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 108
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 58
- 238000012876 topography Methods 0.000 claims description 50
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 45
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 41
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 32
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 26
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 594
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 42
- 239000010408 film Substances 0.000 description 34
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 28
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 28
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 20
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 20
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 19
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 19
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 18
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 17
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 16
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 15
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 15
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 14
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 11
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 11
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 11
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000011161 development Methods 0.000 description 9
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 9
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 9
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 7
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 7
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 7
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 7
- 238000003491 array Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 239000011540 sensing material Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 5
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 5
- -1 biimidazole Chemical compound 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKCRDQKHMMPWPG-UHFFFAOYSA-N 3-methylpiperidine-2,6-dione Chemical compound CC1CCC(=O)NC1=O DKCRDQKHMMPWPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001621 AMOLED Polymers 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 2
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- NLHUEOQYIDKBSL-UHFFFAOYSA-N indium;manganese;oxotin Chemical compound [Mn].[In].[Sn]=O NLHUEOQYIDKBSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- GHAKYKGFKFZYSJ-UHFFFAOYSA-N sulfonylmethanone Chemical compound O=C=S(=O)=O GHAKYKGFKFZYSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHAZUISNXJLXHR-UHFFFAOYSA-N 2-morpholin-4-ylbenzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1N1CCOCC1 HHAZUISNXJLXHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- POUXCZFBIBTXOL-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)C(=O)C(=O)C=C Chemical compound C=CC(=O)C(=O)C(=O)C=C POUXCZFBIBTXOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYDODUOPDJULET-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(=C(C(=O)[PH2]=O)C=C1)C)C Chemical class CC1=C(C(=C(C(=O)[PH2]=O)C=C1)C)C LYDODUOPDJULET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- BEMYGMNGZLBNNB-UHFFFAOYSA-N bis(2-methyl-2-thiophen-2-ylmorpholin-4-yl)methanone Chemical compound C1COC(C)(C=2SC=CC=2)CN1C(=O)N(C1)CCOC1(C)C1=CC=CS1 BEMYGMNGZLBNNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 238000011278 co-treatment Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- GZUCQIMKDHLSEH-UHFFFAOYSA-N manganese silver Chemical compound [Mn][Ag][Ag] GZUCQIMKDHLSEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000012776 robust process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/17—Carrier injection layers
-
- H01L51/56—
-
- H01L27/3211—
-
- H01L27/3216—
-
- H01L27/3218—
-
- H01L27/3246—
-
- H01L51/0005—
-
- H01L51/5088—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
-
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Abstract
본 개시물의 예시적인 실시예에 따라서, 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법이 제공될 수 있다. 복수의 전극이 기판상에 제공될 수 있다. 제1 홀 전도성 레이어는 잉크젯 프린팅으로 통해 기판상의 복수의 전극 위에 증착될 수 있다. 제1 홀 전도성 레이어의 선택된 표면 부분의 액체 친화성은 발광 레이어 가둠 영역을 형성하기 위해 변화될 수 있다. 각각의 발광 레이어 가둠 영역은 기판상에 제공된 복수의 전극의 각각에 해당하는 부분을 가질 수 있다. 유기 발광 레이어는 잉크젯 프린팅을 통해 각각의 발광 레이어 가둠 영역 내에 증착될 수 있다.
Description
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2013년 1월 17일에 출원된 미국 가특허 출원 번호 제61/753,692호에 우선권을 주장하고, 2013년 9월 18일에 출원된 미국 특허 출원 번호 제14/030,776호의 부분 계속 출원이다. 또한, 본 출원은 2013년 1월 17일에 출원된 미국 가특허 출원 번호 제61/753,713호에 대해 우선권을 주장하고, 상기 언급된 각각의 출원은 그 전체로서 본원에 참조로 포함된다.
기술 분야
본 개시물의 양상은 일반적으로 전자 디스플레이 및 전자 디스플레이를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 개시물의 양상은 OLED 디스플레이를 제작하기 위하여, 능동형 유기 발광 다이오드(OLED) 디스플레이 물질을 기판상에 증착 및 가두는(confine) 것에 관한 것이다.
본원에서 사용되는 섹션 제목은 단지 구조적 목적을 위함이지, 기술된 주제를 어떠한 방식으로 제한하려고 해석되어서는 아니된다.
전자 디스플레이는, 가령, 텔레비전 스크린, 컴퓨터 모니터, 셀 폰, 스마트폰, 태블릿, 휴대용 게임 콘솔등과 같은 다양하고 많은 종류의 전자 장비에 존재한다. 전자 디스플레이의 한 유형은 유기 발광 다이오드(OLED) 기술에 의존한다. OLED 기술은 기판 상에 배치된 두 개의 전극 사이에 샌드위치된 유기 발광 레이어를 사용한다. 전하 캐리어가 여기(excited)되고 유기 발광 레이어 내로 주입되도록 하는 전극에 걸쳐 전압이 인가될 수 있다. 발광은 전하 캐리어가 다시 정상 에너지 상태로 진정(relax)되면서, 광전자 방사를 통해 발생할 수 있다. OLED 기술은 비교적 높은 콘트라스트 비율(contrast ratio)을 디스플레이에 제공할 수 있는데, 왜냐하면, 각각의 픽셀이 개별적으로 어드레스되어서, 어드레스된 픽셀 내에서만 발광을 생성하기 때문이다. 또한, OLED 디스플레이는 픽셀의 발산 성질 때문에, 넓은 시야 각도를 제공할 수 있다. OLED 디스플레이의 전력 효율성은 다른 디스플레이 기술보다 더 개선될 수 있는데, 왜냐하면, OLED 픽셀이 직접 구동될 때, OLED 픽셀만 전력을 소비하기 때문이다. 또한, 생성된 판넬은, 디스플레이 자체 내의 광원에 대한 요구를 제거하는 기술의 광 생성 설질 및 얇은 장치 구조때문에, 다른 디스플레이 기술보다 훨씬 더 얇을 수 있다. 또한, OLED 디스플레이는, 능동형 OLED 레이어의 순응적 설질 때문에, 플렉서블하고, 구부러질 수 있게 제작될 수 있다.
잉크젯 프린팅은 OLED 제조에서 사용될 수 있는 기술이고, 제조 비용을 줄일 수 있다. 잉크젯 프린팅은 OLED 레이어 물질을 포함하는 잉크의 방울(droplet) 및 고속으로 노즐로부터 나온 하나 이상의 캐리어 액체를 사용하여, 가령, 홀 주입 레이어, 홀 이송 레이어, 전자 차단 레이어, 유기 발광 레이어, 전자 이송 레이어, 전자 주입 레이어, 및/또는 홀 차단 레이어를 포함하는 하나 이상의 능동형 OLED 레이어를 생성한다.
뱅크와 같은 가둠 구조물은 전형적으로 기판상에 제공되어서, 각각의 가둠 우물(confinement well)이 가령, 다른 발광 색이나 파장의 서브-픽셀과 같은 하나 이상의 서브-픽셀과 관련될 수 있는 가둠 우물을 형성한다. 가둠 우물은 증착된 능동 OLED 물질(들)이 인접한 서브-픽셀 사이에 퍼지지 않도록 막을 수 있다. 잉크젯 프린팅 방법은 실질적인 정확성을 요구할 수 있다. 특히, 픽셀 밀도가 증가 및/또는 디스플레이 크기가 감소하면서, 가둠 우물의 가둠 영역은 감소되고, 방울 위치에서의 작은 오차가 의도된 우물의 외부로 방울이 증착될 수 있다. 게다가, 방울 부피는 가둠 우물에 비해 너무 클 수 있고, 바람직하지 않게 방울이 인접한 서브-픽셀 내로 넘칠 수 있다.
또한, 필름 건조 결함(film drying imperfection) 때문에, 가둠 구조물과 접촉하는 에지에서 능동형 OLED 레이어에서의 불균일성이 형성될 수 있다. 필름 건조 결함은 제조 공정 및/또는 가둠 구조물에 사용되는 물질에 의해 야기될 수 있다. 가둠 우물이 감소하면서, 레이어의 불균일성은, 불균일성에 의해 야기된 픽셀로부터의 발광에서의 바람직하지 않은 가시적 아티팩트(artifact)를 생성하는 픽셀의 활성 발광 영역상에 잠식할 수 있다. 또한, 픽셀의 능동형 발광 영역과 관련된 레이어 균일성에서의 결과적인 상대적인 감소는 디스플레이의 효율에 있어서 부정적인 영향을 줄 수 있는데, 왜냐하면, 전극은 상대적인 밝기를 달성하기 위해 더 강하게 구동되어야 하기 때문이다. 가둠 구조물을 위해 사용되는 물질이 필름 건조 결함에 영향을 미칠 때, 능동형 OLED 물질은 새로 제조되어야 할 수 있다.
게다가, 전체 영역에 대한 활성 영역의 비율에서의 감소는(여기서, 전체 영역은 가둠 구조물과 불균일 활성 발광 영역에 의한, 각 픽셀의 비활성 영역과 활성 영역 모두를 포함하는 디스플레이의 수명을 감소시킬 수 있다. 왜냐하면, 각각의 전극은 등가의 디스플레이 밝기를 달성하기 위해 더 많은 전류를 사용하여 구동되어야 하고, 각각의 전극을 구동하기 위해 더 많은 전류를 사용하는 것은 픽셀 수명을 감소시킨다고 알려져 있다. 전체 영역에 대한 활성 영역의 비율을 "필 팩터(fill factor)"라고 한다.
전통적인 잉크젯 방법이 OLED 디스플레이 제조와 관련된 과제의 일부를 해결함에도 불구하고, 개선에 대한 요구가 계속 존재한다. 예를 들어, OLED, 특히, 고해상도(즉, 높은 픽셀 밀도)를 가진 OLED 디스플레이의 제조에서 방울 증착 정확성을 개선하려는 요구가 계속 존재한다. 게다가, 고해상도 디스플레이에서 유기 발광 레이어의 증착에 의해 생성된 바람직하지 않은 가시적 아티팩트를 감소하려는 요구가 존재한다. 또한, 각각의 픽셀의 필 팩터를 증가시킴에 의해, 장치 수명을 개선하려는 요구도 존재한다. 또한, 가령, 고해상도 모바일 폰 및 태블릿 컴퓨터에 제한되지 않지만 이를 포함하고, 허용 가능한 해상도, 전력 효율성, 디스플레이 수명 및 제조 비용을 달성하는데 있어 해결 과제가 있는 고해상도 디스플레이 응용 분야에서 OLED 디스플레이를 사용하고 제조에 있어서 개선에 대한 요구가 존재한다.
본 개시물은 하나 이상의 상기 언급된 문제점 및/또는 하나 이상의 상기 언급된 바람직한 특징을 해결할 수 있다. 다른 특징 및/또는 이점은 이하 설명으로부터 명백해질 수 있다.
본 개시물의 예시적인 실시예에 따라서, 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법이 제공된다. 복수의 전극이 기판상에 제공될 수 있다. 제1 홀 전도성 레이어는 잉크젯 프린팅으로 통해 기판상의 복수의 전극 위에 증착될 수 있다. 제1 홀 전도성 레이어의 선택된 표면 부분의 액체 친화성은 발광 레이어 가둠 영역을 형성하기 위해 변화될 수 있다. 각각의 발광 레이어 가둠 영역은 기판상에 제공된 복수의 전극의 각각에 해당하는 부분을 가질 수 있다. 유기 발광 레이어는 잉크젯 프린팅을 통해 각각의 발광 레이어 가둠 영역 내에 증착될 수 있다.
본 개시물의 또 다른 예시적인 실시예에 따라서, 유기 발광 디스플레이가 제공될 수 있다. 복수의 전극이 기판상에 증착될 수 있다. 복수의 전극은 어레이 형태(configuration)로 배열될 수 있다. 가둠 구조물은 기판상에 배치될 수 있다. 가둠 구조물은 복수의 전극을 감쌀 수 있다. 제1 홀 전도성 레이어는 가둠 구조물 내의 복수의 전극 위에 배치될 수 있다. 제1 홀 전도성 레이어의 표면 부분의 액체 친화성은 제1 홀 전도성 레이어 내의 발광 레이어 가둠 영역을 형성하기 위해 변화될 수 있다. 유기 발광 레이어는 각각의 발광 레이어 가둠 영역 내에 배치될 수 있다.
본 개시물의 또 다른 예시적인 실시예에서, 유기 발광 디스플레이가 제공되면서, 공정에 의해 제조될 수 있다. 기판상에 배치된 복수의 전극을 포함하는 기판이 제공될 수 있다. 적어도 하나의 홀 전도성 레이어는 잉크젯 프린팅을 통해 기판상의 복수의 전극 위에 증착될 수 있다. 적어도 하나의 홀 전도성 레이어의 선택 부분의 액체 친화성은 적어도 하나의 홀 전도성 레이어의 표면상의 발광 레이어 가둠 영역을 형성하기 위해 변화될 수 있다. 유기 발광 레이어는 잉크젯 프린팅을 통해 적어도 하나의 홀 전도성 레이어 내에 형성된 각각의 발광 레이어 가둠 영역 내에 증착될 수 있다.
추가적인 목적과 이점은 부분적으로는 이하의 설명에 제시될 것이고, 부분적으로는 설명으로부터 명백해질 것이고, 또한, 현재의 공개의 활용에 의해 배울 수 있다. 본 개시물의 목적 및 이점의 적어도 일부는 첨부된 청구항에서 특히 지적된 요소 및 조합에 의해 실현되고 얻을 수 있다.
상기 일반적인 설명 및 이하의 자세한 설명 모두는 예시적이고 설명적일 뿐, 청구함에 있어 제한적이지 않다는 것을 이해해야 한다. 가장 넓은 의미로 본 발명의 다양한 실시예는 이들 예시적인 양상 및 실시예의 하나 이상의 특징이 없이도 실시될 수 있다는 것을 이해해야 한다.
본 명세서에 포함되고, 일부를 구성하는 첨부 도면은 특정 원리를 설명하고, 기술하여 본 개시물의 일부 예시적인 실시예를 나타낸다. 도면에 있어서,
도 1은 종래의 픽셀 배열의 부분 평면도이며,
도 2는 본 개시물에 따른 예시적인 픽셀 배열의 부분 평면도이며,
도 3a는 본 개시물에 따른 예시적인 실시예의 도 1에서 3A-3A를 따른 가둠 우물의 단면도이며,
도 3b는 본 개시물에 따른 예시적인 실시예의 도 1에서 3B-3B를 따른 가둠 우물의 단면도이며
도 4는 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 도 3a의 도 도면과 유사한 단면도이며,
도 5a는 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 도 3a의 도 도면과 유사한 단면도이며,
도 5b는 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 도 3b의 도 도면과 유사한 단면도이며,
도 6은 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며,
도 7은 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며,
도 8 - 11은 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도 및 OLED 디스플레이를 생성하기 위한 예시적인 단계이며,
도 12 - 19는 본 개시물에 따른 다양하고 예시적인 픽셀 배열의 부분 평면도이며,
도 20은 본 개시물에 따른 전자 디스플레이를 포함하는 예시적인 장치의 정면도이며,
도 21은 본 개시물에 따른 전자 디스플레이를 포함하는 또 다른 예시적인 장치의 정면도이며,
도 22는 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이의 예시적인 실시예의 평면도이며,
도 23은 본 개시물에 따른 예시적인 실시예의 도 22에서의 라인 23-23에 따른 OLED의 단면도이며,
도 24 -29는 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며, 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이를 생성하기 위한 예시적인 단계를 기술하며,
도 30은 도 29에 도시된 확대된 부분 M의 단면도이며,
도 31은 도 29에 도시된 확대된 부분 M의 평면도이며,
도 32는 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 확대된 부분의 또 다른 평면도이며,
도 33은 도 29에 도시된 확대된 부분 M의 단면도의 대안적인 예시적인 실시예이며,
도 34 -36은 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며, 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이를 생성하기 위한 예시적인 단계를 기술하며,
도 37은 본 개시물에 따른 도 29에 기술된 확대된 부분 M의 단면도의 대안적인 예시적인 실시예이며,
도 38 및 39는 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며, 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이를 생성하기 위한 예시적인 단계를 기술하며,
도 40은 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 도 39에 기술된 확대된 부분의 단면도이며, 및
도 41은 본 개시물에 따른 예시적인 픽셀 배열의 부분 평면도이다.
도 1은 종래의 픽셀 배열의 부분 평면도이며,
도 2는 본 개시물에 따른 예시적인 픽셀 배열의 부분 평면도이며,
도 3a는 본 개시물에 따른 예시적인 실시예의 도 1에서 3A-3A를 따른 가둠 우물의 단면도이며,
도 3b는 본 개시물에 따른 예시적인 실시예의 도 1에서 3B-3B를 따른 가둠 우물의 단면도이며
도 4는 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 도 3a의 도 도면과 유사한 단면도이며,
도 5a는 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 도 3a의 도 도면과 유사한 단면도이며,
도 5b는 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 도 3b의 도 도면과 유사한 단면도이며,
도 6은 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며,
도 7은 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며,
도 8 - 11은 본 개시물에 따른 가둠 우물의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도 및 OLED 디스플레이를 생성하기 위한 예시적인 단계이며,
도 12 - 19는 본 개시물에 따른 다양하고 예시적인 픽셀 배열의 부분 평면도이며,
도 20은 본 개시물에 따른 전자 디스플레이를 포함하는 예시적인 장치의 정면도이며,
도 21은 본 개시물에 따른 전자 디스플레이를 포함하는 또 다른 예시적인 장치의 정면도이며,
도 22는 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이의 예시적인 실시예의 평면도이며,
도 23은 본 개시물에 따른 예시적인 실시예의 도 22에서의 라인 23-23에 따른 OLED의 단면도이며,
도 24 -29는 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며, 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이를 생성하기 위한 예시적인 단계를 기술하며,
도 30은 도 29에 도시된 확대된 부분 M의 단면도이며,
도 31은 도 29에 도시된 확대된 부분 M의 평면도이며,
도 32는 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 확대된 부분의 또 다른 평면도이며,
도 33은 도 29에 도시된 확대된 부분 M의 단면도의 대안적인 예시적인 실시예이며,
도 34 -36은 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며, 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이를 생성하기 위한 예시적인 단계를 기술하며,
도 37은 본 개시물에 따른 도 29에 기술된 확대된 부분 M의 단면도의 대안적인 예시적인 실시예이며,
도 38 및 39는 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 단면도이며, 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이를 생성하기 위한 예시적인 단계를 기술하며,
도 40은 본 개시물에 따른 OLED 디스플레이의 또 다른 예시적인 실시예의 도 39에 기술된 확대된 부분의 단면도이며, 및
도 41은 본 개시물에 따른 예시적인 픽셀 배열의 부분 평면도이다.
본 개시물의 다양한 예시적 실시예가 참조되며, 이의 예시가 첨부된 도면에서 도시된다. 가능한 경우, 동일한 참조번호가 동일하거나 유일한 부품을 참조하는 것으로 도면 전체에서 사용될 것이다.
상세한 설명 및 청구항에 대하여, 다른 표시가 없다면, 수량, 퍼센티지, 또는 비율, 및 상세한 설명 및 청구항에서 사용되는 그 밖의 다른 수치 값을 표현하는 모든 숫자는, 모든 사례에서, 이미 변경되지 않은 한, "약"이라는 표현에 의해 변경되는 것으로 이해될 것이다. 따라서, 반대 표시가 없다면, 다음의 상세한 설명 및 청구항에서 제공되는 수치 파라미터는 획득하고자 하는 속성에 따라 달라질 수 있는 근사치이다. 균등론의 적용을 청구범위까지 제한하려는 시도가 아니며, 각각의 수치 파라미터는 보고된 유의미한 숫자와 관련하여 통상적인 반올림 기법에 의해 해석되어야 할 것이다.
본 명세서에서 사용될 때, 단수형의 사용("a", "an" 및 "the")은 하나의 대상물로 명시적이고 명백하게 제한되지 않는 한 복수의 대상물도 포함한다. 본 명세서에서 사용될 때, 하나의 목록 내 항목들의 언급이 나열된 항목들에 추가되거나 치환될 수 있는 그 밖의 다른 유사한 항목들의 제외가 아니도록, 용어 "포함하다" 및 이의 문법적 변형 형태는 비-제한적임을 의도한다.
또한, 이 기재에서의 용어들은 본 발명을 한정하려는 의도를 갖지 않는다. 예를 들어, 공간 관계 용어 - 가령, "아래", "아래", "하단", "상부", "하부", "위에", "상단", "수평", "수직" 등이 도면에서 도시된 하나의 요소 또는 특징부의 또 다른 요소 또는 특징부와의 관계를 기술하는 데 사용될 수 있다. 이들 공간 관계 용어들은 도면에 도시된 위치 및 배향에 추가로 사용 또는 동작 중인 장치의 서로 다른 위치(즉, 장소) 및 배향(즉, 회전 배치)을 포함하는 것을 의도한다. 예를 들어, 도면의 장치가 뒤집힌 경우, 다른 요소 또는 특징부 "아래"라고 기재된 요소들은 상기 요소 또는 특징부 "위"가 될 것이다. 따라서 예시적 용어 "아래"는 장치의 전체적인 배향에 따라 위 및 아래의 위치 및 배향 모두를 포함할 수 있다. 장치는 다르게 배향될 수 있고(90도 회전 또는 그 밖의 다른 배향) 본 명세서에서 사용된 공간 관계 설명어가 이에 따라 해석된다.
본원에서 사용될 때, "픽셀"은 발광 픽셀 어레이의 기능적으로 완벽하고 반복되는 최소 단위를 의미한다. 용어 "서브-픽셀"은 픽셀의 이산 발광 부분을 구성하지만, 반드시 모든 발광 부분을 구성하는 것은 아닌 하나의 픽셀의 일부분을 의미하도록 의도된다. 예를 들어, 풀 컬러 디스플레이(full color display)에서, 픽셀이 3개의 주요 컬러 서브-픽셀, 가령, 적색, 녹색, 및 청색을 포함할 수 있다. 모노크롬 디스플레이(monochrome display)에서, 서브-픽셀과 픽셀이라는 용어는 동등하고 상호 교환 가능하게 사용될 수 있다.
전자 구성요소를 언급하면서 사용될 때 용어 "결합된"은, 신호(가령, 전류, 전압, 또는 광학 신호)가 서로 간에 전송될 수 있도록 하는 방식으로 둘 이상의 전자 구성요소, 회로, 시스템, 또는 (1) 적어도 하나의 전자 구성요소, (2) 적어도 하나의 회로, 또는 (3) 적어도 하나의 시스템의 임의의 조합의 접속(connection), 링킹(linking), 또는 연관(association)을 의미하는 의도를 가진다. 둘 이상의 전자 구성요소, 회로, 또는 시스템의 접속, 링킹, 또는 연관이 직접적일 수 있고, 대안적으로 중간 접속, 링킹, 또는 연관이 존재할 수 있으며 따라서 연결이 물리적 접속을 반드시 필요로 하는 것은 아니다.
해당 분야의 통상의 기술자라면 일반적으로 "고해상도"라는 용어가 인치당 픽셀 수(ppi)가 100을 초과하는 해상도를 의미하고, 때로는 300ppi가 초고해상도로 지칭될 수 있음을 이해할 것이다. 해당 분야의 통상의 기술자라면 픽셀 밀도가 디스플레이의 크기와 직접 상관되지 않음을 알 것이다. 본 명세서에 개시된 다양한 예시적 실시예가 소형 디스플레이 크기 및 대형 디스플레이 크기에서 고해상도를 얻기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, 약 3인치 내지 약 11인치의 크기를 갖는 디스플레이가 고해상도 디스플레이로서 구현될 수 있다. 덧붙여, 더 큰 크기를 갖는 디스플레이, 가령, 55" 이상의 텔레비전 디스플레이가 또한 본 명세서에 기재된 다양한 예시적 실시예와 함께 사용되어 고해상도 디스플레이를 얻을 수 있다.
본원에서 사용될 때, 표면 "상"에 존재하는 층 또는 구조물은 상기 층이 이들이 형성되는 표면과 인접 그리고 간접적으로 접촉하는 경우와, 층 또는 구조물과 이들이 형성되는 표면 사이에 중간 층 또는 구조물이 존재하는 경우 모두를 포함한다.
용어 "반응 표면-활성 물질(reactive surface-active material)"은, 디스플레이의 제조 동안에 레이어의 표면에 가해질 때, OLED 디스플레이의 레이어의 적어도 하나의 속성을 수정하는데 사용될 수 있는 물질을 의미한다. 예를 들어, 반응 표면-활성 물질이 가령, 방사선에 물질이 노출되면, 반응 표면-활성 물질과 연관된 레이어의 적어도 하나의 물리적, 화학적 및/또는 전기적 속성이 변화될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 용어 "액체-친화 영역(liquid-affinity region)" 및 "액체-거부 영역(liquid-repelling region)"은 반응 표면-활성 물질이 가공되기 이전 및/또는 이후에, 반응 표면-활성 물질과 연관된 레이어의 표면상에 생성되는 결과적인 상대적 표면 에너지를 언급하기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, "액체-친화 영역"은 액체에 끌리는 경향이 있는 표면 에너지를 가진 레이어의 표면의 일부를 언급하는데 사용될 수 있어서, 액체가 물 기반 유체일 때, 액체-친화 영역 부분은 가령, 비교적 친수성일 수 있다. "액체-거부 영역"은 액체를 거부하는 경향이 있는 표면 에너지를 가진 레이어의 표면의 일부를 언급하는데 사용될 수 있어서, 액체가 물 기반 유체일 때, 액체-거부 부분은 가령, 비교적 소수성일 수 있다. 그러나, 액체-거부 부분은 유체에 완전히 소수성이지는 않는다. 다시 말해, 액체-거부 영역은 유체를 완전히 거부하는 표면 에너지를 갖는 것이 아니라, 대신에, 액체-거부 부분은 액체-친화 영역에 인접할 때, 액체가 액체-거부 영역으로부터 이주하여, 액체-친화 영역으로 이끌리는 경향이 있을 것이다.
다양한 인자들이 OLED 디스플레이 제작 기법에서 유기 발광 층의 증착 정밀도에 영향을 미칠 수 있으며, 이러한 인자들은 예를 들어 OLED 층 물질 및 하나 이상의 캐리어 유체를 포함하는 OLED 층 물질(가령, 능동형 OLED 물질) 잉크와 연관된 디스플레이 해상도, 방울 크기, 타겟 방울 면적, 방울 위치 오차, 유체 속성(가령, 표면 장력, 점도, 끓는점), 방울이 증착되는 속도를 포함한다. 디스플레이 해상도가, 예를 들어, 100ppi 초과로 또는 예를 들어 300ppi 초과로 증가할 때, OLED 디스플레이 제작을 위해 잉크젯 프린팅 기법을 이용함에 있어 다양한 문제가 발생한다. 종래의 인쇄 기법에서 사용되는 높은 정밀도의 잉크젯 헤드가 약 1 피코리터(pL) 내지 약 50 피코리터(pL)의 방울 크기를 생성할 수 있으며, 이때 약 10pL이 고정밀도 잉크젯 프린팅 응용 분야에 대한 비교적 일반적인 크기이다. 종래의 잉크젯 프린팅 시스템의 방울 위치 정확도가 약 ±10㎛이다. 다양한 예시적 실시예에서, 방울 위치 오차를 보상하기 위해 가둠 우물이 기판상에 제공될 수 있다. 가둠 우물은 OLED 물질이 바람직한 서브-픽셀 영역 밖으로 이주하지 못하게 하는 구조물일 수 있다. 방울이 기판상의 원하는 위치에 정확히, 가령, 가둠 우물 내에 온전 착륙함을 보장하기 위해, 다양한 예시적 실시예가 가둠 우물을 방울 지름에 시스템의 방울 위치 오차의 2배를 더한 값보다 넓게 구성한다. 예를 들어, 10pL 방울의 지름이 약 25㎛이고 따라서 앞서 언급된 파라미터는 자신의 최소 치수로서 적어도 45㎛ (25㎛ + (2*10㎛))의 가둠 우물의 사용을 나타낼 것이다. 1pL 방울의 경우라도, 방울 지름은 12㎛이고, 이는 최소 치수로 적어도 32㎛를 갖는 가둠 우물을 가리킨다.
최소 치수로서 적어도 45㎛를 갖는 가둠 우물에 의존하는 다양한 픽셀 레이아웃이 최대 100ppi의 해상도를 갖는 OLED 디스플레이에서 사용될 수 있다. 그러나 100ppi 초과의 고해상도 디스플레이에서, 예를 들어, 각각의 서브-픽셀 주변의 가둠 우물 내로의 방울의 일관된 로딩을 신뢰할만하게 제공하기엔 10pL 방울이 너무 크고 방울 위치 정확도가 너무 열악하다. 덧붙여, 앞서 언급된 바와 같이, 고해상도 디스플레이의 경우, 디스플레이 영역의 증가되는 크기를 가둠 우물을 형성하기 위해 사용된 구조물로 덮는 것이 각각의 픽셀의 필 팩터에 부정적으로 영향을 미칠 수 있으며, 여기서 필 팩터는 전체 픽셀 면적에 대한 픽셀의 발광 면적의 비로서 정의된다. 필 팩터가 감소할 때, 각각의 픽셀은 동일한 전체 디스플레이 밝기를 얻도록 더 강하게 구동되어야 함으로써 디스플레이의 각각의 픽셀의 수명 및 성능을 감소시킬 수 있다.
초고해상도 디스플레이의 작업 시의 앞서 언급된 문제들 중 일부를 추가로 설명하기 위해, 도 1은 한 가지 종래의 픽셀 레이아웃(1700)을 도시한다. 픽셀(1750)은 사이드-바이-사이드(side-by-side) 형태로 배열된 서브-픽셀(1720, 1730, 1740)을 포함할 수 있으며, 서브-픽셀(1720)은 적색 스펙트럼 범위에서의 발광과 관련되고, 서브-픽셀(1730)은 녹색 스펙트럼 범위에서의 발광과 관련되며, 서브-픽셀(1740)은 청색 스펙트럼 범위에서의 발광과 관련된다. 각각의 서브-픽셀은 서브-픽셀(1720, 1730, 1740)에 직접 대응하는 가둠 우물을 형성하는 가둠 구조물(1704)에 의해 둘러싸일 수 있다. 전극(1726)은 서브-픽셀(1720)에 대응되고 전극(1736)은 서브-픽셀(1730)에 대응되며, 전극(1746)은 서브-픽셀(1740)에 대응되도록 하나의 서브-픽셀 전극은 각각의 가둠 우물과 관련될 수 있다. 서브-픽셀(1720)은 폭 D를 가질 수 있으며, 서브-픽셀(1730)은 폭 C를 가질 수 있고, 서브-픽셀(1740)은 폭 B를 가질 수 있으며, 이들 폭은 서로 동일하거나 상이할 수 있다. 도시된 바와 같이, 모든 서브-픽셀은 길이 A를 가질 수 있다. 덧붙여, 치수 E, F, 및 G가 가둠 우물 개구부(opening)들 사이 공간을 가리킬 수 있다. 치수 E, F, G에 할당되는 값은, 일부 경우, 특히, 더 낮은 해상도 디스플레이에서, 매우 클 수 있는데, 가령, 100㎛ 초과일 수 있다. 그러나 더 고해상도 디스플레이의 경우, 이들 치수를 최소화하여 활성 픽셀 영역을 최대화하고 필 팩터를 최대화할 수 있는 것이 바람직하다. 도 1에 도시된 바와 같이, 빗금친 영역으로 표시되는 활성 픽셀 영역은 서브-픽셀 가둠 우물 각각 내 전체 영역이다.
다양한 인자들이 치수 E, F, G에 영향을 미칠 수 있으며, 가령, 이들 치수에 대한 최소 값이 가공 방법에 의해 제한될 수 있다. 예를 들어, 본 명세서에 기재된 다양한 예시적 실시예에서, 최소 치수로서 E = F = G = 12㎛이다. 예를 들어, 326 ppi 해상도를 갖는 디스플레이에서, 픽셀 피치가 78㎛와 동일할 수 있고 E = F = G = 12㎛이다. 서브-픽셀(1720, 1730, 1740) 각각과 연관된 가둠 우물은 14㎛ × 66㎛의 타깃 역적 면적(즉, 치수 B × A, C × A, 및 D × A)을 가질 수 있으며, 14㎛는 10pL의 부피를 갖는 잉크젯 방울을 이용하는 것과 관련하여 앞서 언급된 45㎛ 미만의 최소 치수이다. 또한 1pL 방울에 대해 앞서 언급된 바와 같이 이는 32㎛ 미만의 치수이다. 덧붙여, 전체 픽셀 영역에 대한 활성 픽셀 영역(즉, 발광과 연관된 영역)의 비로서 정의된 픽셀의 필 팩터는 46%이다. 다시 말하면, 픽셀 영역의 54%가 가둠 구조물(1704)에 대응한다. 동일한 선(line)을 따라, 440ppi 해상도를 갖는 디스플레이에서, 픽셀 피치 P가 58㎛와 동일할 수 있고 E = F = G = 12㎛이다. 발광 서브-픽셀(1720, 1730, 1740) 각각과 연관된 가둠 우물은 7㎛ × 46㎛의 타겟 방울 영역을 가질 수 있으며, 여기서 7㎛의 치수가 10pL 및 1pL 잉크젯 방울 모두의 정확한 방울 위치에 대해 앞서 언급된 최소 치수보다 상당히 작은 치수이다. 이 경우, 440ppi를 갖는 디스플레이에 대한 필 팩터가 약 30%이다.
본원에 기재된 다양한 예시적 실시예에 따르는 증착 기법이 가둠 우물의 로딩 및 전자 디스플레이, 가령, 고해상도 디스플레이에 대한 능동형 OLED 레이어의 증착 시 개선된 신뢰성을 제공할 수 있다. 능동형 OLED 레이어는, 예를 들어, 다음의 레이어 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 홀 주입 레이어, 홀 이송 레이어, 전자 차단 레이어, 유기 발광 레이어, 전자 이송 레이어, 전자 주입 레이어, 및 홀 차단 레이어. 전자 디스플레이에 대해 앞서 식별된 능동형 OLED 레이어들 중 일부의 구현이 선호되고 일부 능동형 OLED 레이어의 구현이 선택사항이다. 예를 들어, 적어도 하나의 홀 전도 레이어, 가령, 홀 주입 레이어 또는 홀 이송 레이어뿐 아니라 유기 발광 레이어는 존재해야 한다. 그 밖의 다른 모든 앞서 식별된 레이어들은 전자 디스플레이, 가령, OLED 디스플레이의 발광 및 전력 효율을 변경(가령, 개선)하기 위해 필요에 따라 포함될 수 있다.
본원에 기재된 가둠 우물 형태의 다양한 예시적 실시예가 높은 픽셀 해상도를 유지하면서 가둠 우물의 크기를 증가시킬 수 있다. 예를 들어, 다양한 예시적 실시예가, 비교적 높은 픽셀 밀도를 획득하면서, 능동형 OLED 레이어의 증착 시 비교적 성취 가능한 방울 크기 및 종래의 프린팅 시스템 정확도의 사용을 가능하게 하는, 복수의 서브-픽셀에 걸쳐 있는 비교적 큰 가둠 우물을 이용한다. 따라서 이용 가능할 수도 있고 이용 가능하지 않을 수 있는 더 작은 방울 부피를 갖는 특수하게 구성 또는 재구성된 프린팅헤드 및 새로운 프린팅 시스템을 필요로 하기보다는, 1pL 내지 50pL의 부피의 방울을 증착하는 잉크젯 노즐이 사용될 수 있다. 덧붙여, 이러한 더 큰 가둠 우물을 이용함으로써, 작은 제작 오차가 증착 정밀도에 실질적으로 부정적 영향을 미치지 않을 것이며 증착된 능동형 OLED 레이어는 가둠 우물 내에 담긴 채 유지될 수 있다.
다양한 예시적 실시예에 따르면, 잉크젯 프린팅 기법은 능동형 OLED 레이어의 충분히 균일한 증착을 제공할 수 있다. 예를 들어, OLED 디스플레이에서 일반적으로 사용되는 다양한 구성요소가 가둠 우물의 상부 표면 레이어 상에 다양한 높이, 가령, 약 100나노미터(㎚) 이상만큼 차이 나는 높이의 토포그래피를 도출한다. 예를 들어, 구성요소, 가령, 전극이 기판상에 증착되어, 이웃하는 전극들 사이에 갭이 형성되도록 함으로써, 서로 다른 서브-픽셀과 각각 연관된 개별적으로 어드레싱 가능한 전극을 형성할 수 있다. 어느 능동형 OLED 레이어가 디스플레이의 기판상에 배치되는 전극 위에 증착되는지에 무관하게, 전극의 상부 표면의 평면과 이웃 전극들 사이의 영역 내 디스플레이의 기판의 상부 표면의 평면 간 높이 차이가 차후 증착되는 OLED 레이어의 토포그래피에 기여할 수 있다. 가령, 활성 전극 영역 위에서, 능동형 OLED 레이어의 두께가 충분히 균일하도록, 본 발명에 따르는 예시적 잉크젯 프린팅 기법 및 최종 디스플레이에 의해 능동형 OLED 레이어가 증착될 수 있으며, 이때, 활성 전극 영역은 광이 발산되는 활성 서브-픽셀 영역과 연관된 전극의 영역일 수 있다. 예시적 실시예에서, 적어도 활성 전극 영역 위의 OLED 레이어의 두께가 서브-픽셀 전극의 두께보다 작을 수 있다. 활성 전극 영역 위의 OLED 레이어의 충분히 균일한 두께가 바람직하지 않은 가시적 아티팩트를 감소시킬 수 있다. 예를 들어, 영역은 전극 및 비-전극 영역을 모두 포함할 때조차, 특정 증착 영역 내 증착된 필름 두께의 불균일부를 최소화하도록 OLED 잉크 제제 및 프린팅 공정이 구현될 수 있다. 다시 말하면, 증착 영역 내에서 OLED 레이어가 아래 놓인 구조물에 충분히 순응(conform)할 수 있도록, 전극 구조물에 의해 덮이지 않는 증착 영역 내 일부분이 OLED 레이어 토포그래피에 기여할 수 있다. 증착된 필름 두께의 불균일부를 최소화함으로써, 특정 서브-픽셀 전극이 어드레싱되고 활성화될 때, 실질적으로 균일한 발광이 제공될 수 있다.
또 다른 예시적 실시예에 따르면, 본 발명에 의해 고려되는 픽셀 레이아웃 형태가 활성 영역 면적을 증가시킬 수 있다. 예를 들어, 가둠 구조물은 디스플레이의 비-활성 부분(가령, 가둠 구조물과 연관된 기판 영역)이 감소되도록 복수의 서브-픽셀에 걸쳐 있는 인접 영역을 갖는 가둠 우물을 형성할 수 있다. 예를 들어, 다양한 OLED 디스플레이에서처럼 각각의 서브-픽셀 전극을 둘러싸는 가둠 구조물 대신, 복수의 개별적으로 어드레싱되는 서브-픽셀 전극이 가둠 구조물에 의해 둘러싸일 수 있으며, 이때 각각의 서브-픽셀 전극이 서로 다른 픽셀과 연관될 수 있다. 가둠 구조물이 차지하는 면적을 감소시킴으로써, 각각의 픽셀의 활성 영역에 대한 비-활성 영역의 비가 증가되기 때문에, 필 팩터가 최대화될 수 있다. 필 팩터의 이러한 증가를 획득함으로써, 더 작은 크기 디스플레이에서 고해상도가 가능할 수 있을 뿐 아니라 디스플레이의 수명이 개선될 수 있다.
또 다른 예시적 실시예에 따라, 본 개시물은 기판 상에 배치된 가둠 구조물을 포함하는 유기 발광 디스플레이를 고려하고, 여기서 가둠 구조물은 어레이 구성에서 복수의 우물을 형성한다. 디스플레이는 각각의 우물 내에 배치되며 서로 이격되어 있는 복수의 전극을 더 포함한다. 상기 디스플레이는 복수의 우물 중 적어도 하나에서 제1, 제2, 및 제3 유기 발광 레이어를 더 포함할 수 있으며, 각각의 레이어는 각각 제1, 제2, 및 제3 발광 파장 범위를 가진다. 제1 및 제2 유기 발광 레이어와 연관된 우물 내에 배치되는 전극의 개수는 제3 유기 발광 레이어와 연관된 우물 내 배치되는 전극의 개수와 상이하다.
또 다른 예시적 실시예에 따르면, 본 발명은 기판상에 배치되는 가둠 구조물을 포함하는 유기 발광 디스플레이를 고려하며, 이때, 가둠 구조물은 어레이 형태로 복수의 우물, 가령, 제1 우물, 제2 우물, 및 제3 우물을 형성한다. 상기 디스플레이는 제1 우물 내에 배치되고 다른 픽셀과 연관된 제1 복수의 전극, 제2 우물 내에 배치되고 다른 픽셀과 연관된 제2 복수의 전극, 및 제3 우물 내에 배치되는 적어도 하나의 제3 전극을 포함할 수 있으며, 여기서 제1 및 제2 우물 내에 각각 배치되는 전극의 개수는 제3 우물 내에 배치되는 복수의 전극과 상이하다. 디스플레이는 제1 우물 내에 배치되는 제1 발광 파장 범위를 갖는 제1 레이어, 제2 우물 내에 배치되는 제2 발광 파장 범위를 갖는 제2 유기 발광 레이어, 및 제3 우물 내에 배치되는 제3 발광 파장 범위를 갖는 제3 유기 발광 레이어를 더 포함할 수 있다.
다양한 그 밖의 다른 예시적 실시예에 따라, 픽셀 레이아웃 형태가 소자의 수명을 연장하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 서브-픽셀 전극 크기가 대응하는 유기 발광 레이어 파장 범위를 기초로 할 수 있다. 예를 들어, 청색 파장 범위에서의 발광과 연관된 서브-픽셀 전극은 적색 또는 녹색 파장 범위의 발광과 연관된 서브-픽셀 전극보다 클 수 있다. 일반적으로 OLED 소자에서의 청색 발광과 연관된 유기 레이어는 적색 또는 녹색 발광과 연관된 유기 레이어에 비해 단축된 수명을 가진다. 덧붙여, 감소된 밝기 레벨을 얻기 위한 동작하는 OLED 소자가 소자의 수명을 증가시킨다. 적색 및 녹색 서브-픽셀의 밝기보다 낮은 상대적 밝기를 얻기 위해 (가령, 해당 분야의 통상의 기술자에게 친숙한 방식으로, 서브-픽셀을 어드레싱할 때 공급되는 전류를 조절함으로써) 청색 서브-픽셀을 구동시키는 것에 추가로, 적색 및 녹색 서브-픽셀에 비해 청색 서브-픽셀의 발광 면적을 증가시킴으로써, 여전히 디스플레이의 적절한 전체 색상 밸런스를 제공하면서, 청색 서브-픽셀이 상이한 색상의 서브-픽셀들의 수명과 균형을 더 잘 이룰 수 있다. 이 개선된 수명 균형이, 청색 서브-픽셀의 수명을 연장함으로써, 디스플레이의 전체 수명을 증가시킬 수 있다.
도 2는 본 개시물의 예시적 실시예에 따르는 유기 발광 다이오드(OLED) 디스플레이(100)의 하나의 예시적 픽셀 배열의 부분 평면도를 도시한다. 도 3a는 OLED 디스플레이를 형성하기 위한 다양한 구조물을 도시하는, 기판의 하나의 예시적 실시예의 도 2에서 표시된 섹션 3A-3A을 따르는 횡단면도를 도시한다. 도 3b는 OLED 디스플레이를 형성하기 위한 다양한 구조물을 도시하는 기판의 하나의 예시적 실시예의 도 2에 표시된 섹션 3B-3B을 따르는 횡단면도를 도시한다.
상기 OLED 디스플레이(100)는 선택적으로 구동될 때 사용자에게 디스플레이될 이미지를 생성할 수 있는 광을 발산하는, 가령, 점선 경계부(150, 151, 152)에 의해 형성되는, 복수의 픽셀을 포함하는 것이 일반적이다. 풀 컬러 디스플레이(full color display)에서, 픽셀(150, 151, 152)은 상이한 컬러의 복수의 서브-픽셀을 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 픽셀(150)은 적색 서브-픽셀 R, 녹색 서브-픽셀 G, 및 청색 서브-픽셀 B를 포함할 수 있다. 도 2의 예시적 실시예에서 나타난 바와 같이, 서브-픽셀은 동일한 크기일 필요가 없지만, 예시적 실시예에서 동일할 크기일 수 있다. 픽셀(150, 151, 152)은 발광을 야기하는 회로를 구동시킴으로써 형성(define)되어, 어떠한 추가 구조물도 픽셀을 반드시 형성할 필요가 없다. 대안적으로, 본 발명의 예시적 실시예는 복수의 픽셀(150, 151, 152)의 라인을 정하도록(delineate) 디스플레이(100) 내에 포함될 수 있는 픽셀 형성 구조물의 다양한 새 배열을 고려한다. 해당 분야의 통상의 기술자라면 픽셀과 서브-픽셀 간 크리스퍼(crisper) 도해를 제공하기 위해 사용되는 종래의 픽셀 형성 구조물의 물질 및 배열에 친숙하다.
도 2에 추가로 도 3a 및 3b를 참조하면, OLED 디스플레이(100)는 기판(102)을 포함할 수 있다. 기판(102)은 하나 이상의 물질의 하나 이상의 레이어를 포함할 수 있는 임의의 강성 또는 플렉서블 구조물일 수 있다. 기판(102)은, 예를 들어, 유리, 폴리머, 금속, 세라믹, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 간결함을 위해 도시되지는 않지만, 기판(102)은 해당 분야의 통상의 기술자에게 자명할 추가 전자 구성요소, 회로, 또는 전도성 부재를 포함할 수 있다. 예를 들어, 박막 트랜지스터(TFT)(미도시)가, 그 밖의 다른 구조물 중 임의의 것이 증착(이하에서 더 상세히 언급됨)되기 전에, 기판상에 형성될 수 있다. 예를 들어 TFT는 활성 반도체 레이어, 유전체 레이어, 및 금속 접촉부의 박막 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 여기서 해당 분야의 통상의 기술자라면 이러한 TFT의 제작 시 사용되는 물질에 친숙할 것이다. 이하에서 언급된 바와 같이, 기판(102) 상에 형성된 TFT 또는 그 밖의 다른 구조물에 의해 생성된 임의의 토포그래피에 순응(conform)되도록 능동형 OLED 레이어들 중 임의의 것이 증착될 수 있다.
가둠 구조물(104)이 기판(102) 상에 배치되어, 가둠 구조물(104)이 복수의 가둠 우물을 형성하도록 할 수 있다. 예를 들어, 가둠 구조물(104)은 뱅크 구조물일 수 있다. 복수의 서브-픽셀이 각각의 가둠 우물과 연관될 수 있고, 각각의 가둠 우물 내에 증착되는 유기 발광 물질에 의해 가둠 우물과 연관된 모든 서브-픽셀이 동일한 발광 컬러를 가질 수 있다. 예를 들어, 도 2의 배열에서, 가둠 우물(120)은 R로 표시되는 적색 광을 발산하는 서브-픽셀과 연관된 OLED 잉크의 방울을 수용할 수 있고, 가둠 우물(130)이 G로 표시되는 녹색 광을 발산하는 서브-픽셀과 연관된 OLED 잉크의 방울을 수용할 수 있고, 가둠 우물(140)은 B로 표시되는 청색 광을 발산하는 서브-픽셀과 연관된 OLED 잉크의 방울을 수용할 수 있다. 해당 분야의 통상의 기술자라면, 이하에서 더 설명되겠지만, 가둠 우물은 그 밖의 다른 다양한 능동형 OLED 레이어, 비-제한적 예를 들면, 추가 유기 발광 물질 및 홀 전도 레이어를 수용할 수 있음을 알 것이다.
가둠 구조물(104)은 복수의 서브-픽셀과 연관된 물질을 가두기 위해 가둠 우물(120, 130, 140)을 형성할 수 있다. 덧붙여, 가둠 구조물(104)은 OLED 잉크의 인접 우물로의 확산을 막거나 및/또는 (적절한 지오메트리 및 표면 화학을 통해) 로딩 및 건조 공정을 보조하여 증착된 필름이 가둠 구조물(104)에 의해 경계지어지는 영역 내에서 연속이도록 할 수 있다. 예를 들어, 증착된 필름의 가장자리는 가둠 우물(120, 130, 140)을 둘러싸는 가둠 구조물(104)과 접촉할 수 있다. 가둠 구조물(104)은 단일 구조물이거나 가둠 구조물(104)을 형성하는 복수의 개별 구조물을 포함할 수 있다.
상기 가둠 구조물(104)은 다양한 물질, 가령, 포토레지스트 물질, 가령, 광영상화 가능 폴리머(photoimageable polymer) 또는 감광성 실리콘 유전체로 형성될 수 있다. 상기 가둠 구조물(104)은 공정 후 OLED 잉크의 부식 작용에 실질적으로 비활성이거나, 낮은 가스방출(outgassing)을 갖거나, 가둠 우물 가장자리에서 얕은(가령, < 25도) 측벽 기울기를 갖거나, 및/또는 가둠 우물 내에 증착될 OLED 잉크 중 하나 이상에 대한 혐성(phobicity)을 가질 수 있는 하나 이상의 유기 성분을 포함할 수 있으며, 원하는 적용예를 기초로 선택될 수 있다. 적합한 물질의 비-제한적 예를 들면, PMMA(폴리-메틸메타크릴레이트), PMGI(폴리-메틸글루타르이미드), DNQ-노볼락(Novolac)(서로 다른 페놀 포름알데히드 수지와 화학적 디아존아피토퀴논(diazonaphithoquinone)과의 결합), SU-8 레지스트(MicroChem Corp.에 의해 제조되는 널리 사용되는 상용화된 에폭시계 레지스트), 종래의 포토레지스트의 플루오르화 변형 및/또는 본 명세서에 나열된 앞서 언급된 물질들 중 임의의 것, 및 유기-실리콘류 레지스트가 있으며, 이들 각각은 서로 추가로 결합되거나 하나 이상의 첨가제와 결합되어, 가둠 구조물(104)의 원하는 특성을 추가로 튜닝할 수 있다.
가둠 구조물(104)은 임의의 형상, 형태, 또는 배열을 갖는 가둠 우물을 형성할 수 있다. 예를 들어, 가둠 우물(120, 130, 140)은 가령 장방형, 사각형, 원형, 육각형 등의 임의의 형태를 가질 수 있다. 단일 디스플레이 기판 내 가둠 우물이 동일한 형태 및/또는 크기 또는 상이한 형태 및/또는 크기를 가질 수 있다. 서로 다른 발광 색상과 연관된 가둠 우물은 서로 다른 또는 동일한 형태 및/또는 크기를 가질 수 있다. 덧붙여, 인접한 가둠 우물은 교대하는 발광 색상과 연관되거나 인접한 가둠 우물은 동일한 발광 색상과 연관될 수 있다. 덧붙여, 가둠 우물은 열(column) 및/또는 행(row)로 배열될 수 있고 여기서 열 및/또는 행은 균일한 또는 불균일한 정렬을 가질 수 있다.
가둠 우물은 다양한 제조 방법, 가령, 잉크젯 프린팅, 노즐 프린팅, 슬릿 코팅, 스핀 코팅, 분사 코팅, 스크린 프린팅, 진공 열 증발증착, 스퍼터링(또는 그 밖의 다른 물리적 기상 증착 방법), 화학 기상 증착 등, 및 임의의 것을 이용해 형성될 수 있고, 증착 기법 동안 달리 얻어지지 않는 임의의 추가 패터닝이 쉐도우 마스킹(shadow masking), 하나 이상의 포토리소그래피 단계(가령, 포토레지스트 코팅, 노광, 현상, 및 박리(stripping)), 습식 에칭, 건식 에칭, 리프트-오프 공정 등에 의해 얻어질 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 픽셀(150, 151, 152)에 걸쳐 뻗어 있을 수 있도록, 가둠 구조물(104)에 의해 다양한 예시적 실시예에 따르는 가둠 우물(120, 130, 140)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 픽셀(150)은 서로 다른 가둠 우물(120, 130, 140)의 각각의 부분인 적색 서브-픽셀 R, 녹색 서브-픽셀 G, 및 청색 서브-픽셀 B를 포함한다. 각각의 가둠 우물(120, 130, 140)은 복수의 전극(가령, 106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144)을 포함할 수 있으며, 여기서 가둠 우물 내 인접한 전극들 간에 갭 S가 형성되도록 가둠 우물(120, 130, 140) 내 전극들은 서로 이격되어 있다. 예시적 실시예에서, 갭 S는 하나의 전극을 임의의 인접 전극으로부터 전기적으로 고립시키기에 충분한 크기를 가질 수 있으며, 구체적으로, 인접 전극의 활성 전극 영역이 서로로부터 고립될 수 있다. 갭 또는 공간 S가 전류 누설을 감소시킬 수 있으며 서브-픽셀 형성 및 전체 픽셀 형성을 개선할 수 있다.
설명의 명료성 및 편의를 위해 생략되지만, 구동 회로가 기판(102) 상에 배치될 수 있고, 이러한 회로는 활성 픽셀 영역(즉, 발광 영역) 아래 또는 비-활성 픽셀 영역(즉, 비-발광 영역) 내에 배치될 수 있다. 덧붙여, 도시되지 않았지만, 회로는 또한 가둠 구조물(104) 아래에 배치될 수 있다. 구동 회로가 각각의 전극으로 연결될 수 있으며, 각각의 전극은 가둠 우물 내 다른 전극에 독립적으로 선택적으로 어드레싱될 수 있다. 전극들 사이의 갭 S로 인해 야기되는 불균일한 토포그래피의 영역이 이하에서 더 상세히 기재된다.
가둠 우물(120, 130, 140) 내 각각의 전극(106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144 )이 서로 다른 서브-픽셀과 연관될 수 있다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 가둠 우물(120)은 적색 발광과 연관될 수 있다. 전극(106, 107, 108, 109)은 가둠 우물(120) 내에 배치될 수 있으며, 각각의 전극은 서로 다른 픽셀(가령, 도시된 픽셀(151 및 152))의 서브-픽셀을 어드레싱하도록 동작 가능하다. 적어도 2개의 전극이 각각의 가둠 우물(120, 130, 140) 내에 위치될 수 있다. 각각의 가둠 우물(120, 130, 140) 내 배치되는 전극의 개수는 타 가둠 우물의 것과 동일하거나 상이할 수 있다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 가둠 우물(140)은 청색 발광과 연관된 2개의 서브-픽셀 전극(142, 144)을 포함할 수 있고 가둠 우물(130)은 녹색 발광과 연관된 4개의 서브-픽셀 전극(136, 137, 138, 139)을 포함할 수 있다.
예시적 실시예에서, 가둠 구조물(104)은 전극(106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144)의 일부분 상에 배치될 수 있다. 도 3a 및 3b에서 도시된 바와 같이, 가둠 우물(120)은 가둠 구조물(104)에 의해 형성될 수 있고, 여기서 가둠 구조물(104)은 전극(106, 108)의 일부분 위에 부분적으로 배치되고, 전극 위가 아니라 기판(102) 위에 직접 부분적으로 배치된다. 대안적으로, 가둠 구조물(104)은 인접한 가둠 우물의 전극들 사이에서 기판(102) 위에 배치될 수 있다. 예를 들어, 가둠 구조물(104)은 기판(102) 위에서 서로 다른 서브-픽셀 방출 색상과 연관된 전극들 사이에 형성된 공간 내에 배치되어, 가둠 구조물(104)이 기판(102) 상에 직접 배치되고 전극의 임의의 부분 위에 배치되지 않도록 할 수 있다. 이러한 구성(도시되지 않음)에서, 서브-픽셀에 대응하는 전극이 가둠 구조물(104)에 직접 이접하여(접하여) 배치되거나 전극이 가둠 구조물(104)로부터 이격되어 서브-픽셀 형성이 이뤄질 수 있다.
전극(106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144)에 전압이 선택적으로 인가될 때, 픽셀, 가령, 픽셀(150, 151, 152)의 서브-픽셀 내에서 발광이 발생될 수 있다. 전극(106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144)은 투명하거나 반사성일 수 있으며 전도성 물질, 가령, 금속, 혼합 금속, 합금, 금속 옥사이드, 혼합 옥사이드, 또는 이들의 결합물로 형성될 수 있다. 예를 들어, 다양한 예시적 실시예에서, 전극은 인듐-틴-옥사이드 망간 은, 또는 알루미늄으로 만들어질 수 있다. 전극(106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144)은 임의의 형태, 배열, 또는 구성을 가질 수 있다. 예를 들어 도 3a를 참조하면, 전극(106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144)은, 전극의 측부 가장자리(106b, 108b)가 기판의 표면에 대해 기울어지거나 및/또는 둥글 수 있으면서 상부 표면(106a, 108a)이 기판(102)의 표면과 실질적으로 동 평면 및 평행할 수 있도록 하는 프로파일을 가질 수 있다.
전극의 활성 부분, 즉, 발광과 연관된 부분은, 전극 표면과 OLED 레이어 사이에서 기판 구조물을 절연하는 어떠한 중간재 없이, 증착된 OLED 레이어 아래에 직접 배치되는 전극의 부분임이 자명하다. 예를 들어, 도 3a를 다시 참조하면, 가둠 구조물(104) 아래에 배치되는 전극(106 및 108)의 일부분이 전극 영역의 활성 부분으로부터 배제되며, 반면에 전극(106 및 108)의 영역의 나머지 부분은 전극 영역의 활성 부분에 포함된다.
전극은 다양한 방식으로 증착될 수 있는데, 가령, 열 증발증착, 화학 기상 증착, 또는 스퍼터링 방법에 의해 증착될 수 있다. 전극의 패터닝이, 예를 들어, 쉐도우 마스킹 또는 포토리소그래피를 이용해 얻어질 수 있다. 앞서 언급된 바와 같이, 다양한 횡단면도, 가령, 도 3a에 도시된 것에서 가장 잘 나타나는 바와 같은 토포그래피가 기판(102) 상에 형성되도록 전극(106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144)은 두께를 갖고 서로 이격되어 있다. 예시적 실시예에서, 전극(106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144)은 60㎚ 내지 120㎚의 두께를 가질 수 있지만, 이 범위는 비-제한적이며 더 크거나 더 작은 두께가 역시 가능하다.
각각의 가둠 우물(120, 130, 140) 내에 하나 이상의 능동형 OLED 레이어, 가령, 도 3a 및 3b에 도시된 홀 전도 레이어(110) 및 유기 발광 레이어(112)가 제공될 수 있다. 능동형 OLED 레이어는 가둠 우물(120, 130, 140) 내 전극(106, 107, 108, 109, 136, 137, 138, 139, 142, 144)의 두께 및 이들 사이의 공간뿐 아니라 각자의 능동형 OLED 레이어의 두께로부터 도출된 토포그래피에 충분히 순응할 수 있도록 증착될 수 있다. 예를 들어, 능동형 OLED 레이어는 벽 내에서 연속일 수 있으며, 각각의 가둠 우물 내에 배치되는 아래 놓이는 전극 구조물의 최종 토포그래피에 충분히 순응하고 따르도록 하는 두께를 가질 수 있다.
따라서 증착된 OLED 레이어는 기판에 평행하고 전체 가둠 우물에 걸쳐 있는 단일 평면에 놓여 있지 않는 표면 토포그래피를 도출할 수 있다. 예를 들어, OLED 레이어(110, 112) 중 하나 또는 둘 모두가, 기판(102) 상에 배치되는 전극을 포함하는 임의의 표면 특징부와 연관된 상대적 오목부 또는 돌출부 때문에, 디스플레이의 단일 평면(상기 디스플레이의 평면은 기판(102)에 평행인 평면으로 의도됨)에서 비-평면적이고 불연속일 수 있다. 도시된 바와 같이, OLED 레이어(110, 112)는 아래 놓인 표면 특징부 토포그래피에 충분히 순응하여, OLED 레이어의 상부 표면이 아래 놓인 표면 특징부의 토포그래피를 따르는 최종 토포그래피를 가질 수 있다. 다시 말하면, 각각의 증착된 OLED 레이어는 모든 아래 놓인 레이어 및/또는 기판(102) 상에 배치된 표면 특징부에 충분히 순응하여, 이들 아래 놓인 레이어가 증착된 후 OLED 레이어의 최종 비-평면 상부 표면 토포그래피에 기여하도록 한다. 이러한 방식으로, 디스플레이의 평면에 평행인 가둠 우물 위의 평면에서, 가둠 우물 내 전극, 회로, 픽셀 형성 레이어 등으로부터의 기존 표면 특징부에 의해, 레이어(들)가 상기 평면에 비해 상승 및/또는 하강되어 있음에 따라, 레이어(110 또는 112 또는 둘 모두)의 불연속성이 발생할 수 있다. 능동형 OLED 레이어(110 및/또는 112)이 아래 놓인 표면 토포그래피(가령, 이하에서 설명될 바와 같이 가장자리 영역 주변 등의 두께에서 국소적 불균일부가 존재할 수 있다)에 완벽하게 순응할 필요는 없지만, 어떠한 실질적인 물질의 빌드업 또는 공핍(depletion)이 없는 충분한 등각 코팅(conformal coating)이 더 고르고, 균일하며, 재현 가능한 코팅을 촉진할 수 있다.
도 3a에 도시된 바와 같이, 각각의 레이어가 가둠 우물(120) 내 실질적으로 모든 표면 특징부(가령, 서브-픽셀 전극, 회로, 픽셀 형성 레이어 등) 위에 배치되도록, 각각의 레이어(110, 112)가 전체 가둠 우물(120) 내에 실질적으로 연속일 수 있으며, 여기서, 각각의 레이어의 가장자리가 가둠 우물(120)을 둘러싸는 가둠 구조물(104)과 접촉한다. 다양한 예시적 실시예에서, 가둠 우물 내에 온전히 이산 연속 레이어를 형성하여 우물 내 레이어의 어떠한 불연속부(다시 말하면, 능동형 OLED 레이어 물질이 소실된 우물 내 영역)를 실질적으로 방지하도록 능동형 OLED 레이어 물질이 증착될 수 있다. 이러한 불연속부가 서브-픽셀의 방출 영역 내에 바람직하지 않은 가시적 아티팩트를 초래할 수 있다. 각각의 레이어(110, 112)가 가둠 우물 내에서 실질적으로 연속임에도 불구하고, 앞서 언급된 바와 같이 레이어가 증착되는 가둠 우물에 배치되는 특징부의 기존 토포그래피에 충분히 순응함에 따른 레이어의 상승/하강부 때문에 단일 평면에서 불연속부가 존재할 만하다. 예를 들어, 예시적 실시예에서, 이러한 상승부 및/또는 하강부가 우물 내 증착된 레이어의 가장 얇은 부분의 두께, 가령, 50㎚보다, 가령 100㎚만큼 더 큰 경우, OLED 물질 레이어는 우물 내 디스플레이에 평행인 평면에서 연속이 아닐 것이다.
레이어(110, 112)는 각각의 가둠 우물 내에서 실질적으로 균일한 두께를 가질 수 있으며, 이는 더 균일한 발광을 제공할 수 있다. 이 적용예의 목적을 위해, 실질적으로 균일한 두께가 평면 표면 영역 위에서의, 가령, 활성 전극 영역 위에서의 OLED 레이어의 평균 두께를 지칭할 수 있지만, 이하에서 기재될 바와 같은 두께에서의 사소한 변동 또는 국소적인 불균일부를 포함할 수 있다. 평면 표면 영역(가령, 106a, 108a) 및 도 3a의 갭의 하부 표면 위에, 실질적으로 균일한 OLED 코팅에 대해 OLED 레이어의 평균 두께의 변동이 ±20% 미만, 가령, ±10% 미만 또는 ±5% 미만일 수 있음이 예상된다.
그러나 앞서 언급된 바와 같이, 두께의 국소적인 불균일부가 표면 토포그래피 및/또는 표면 화학의 변경 부분을 둘러싸는 레이어(110, 112)의 부분에서 발생할 수 있고, 이러한 영역에서, 필름 두께는 앞서 특정된 실질적으로 국소적인 ±20%, ±10%, 또는 ±5%의 파라미터 편차를 가질 수 있다. 예를 들어, 연속 레이어의 두께에서의 국소적인 불균일부가 기판(102) 상에 배치된 표면 특징부와 연관된 토포그래피 및/또는 기판(102) 상에 배치되는 표면 특징부, 가령, 가둠 우물 구조물(104)의 가장자리, 픽셀 형성 레이어의 가장자리(이하에서 설명), 전극 가장자리 측벽(가령, 106b, 108b를 따르는 가장자리 측벽), 또는 전극이 기판 표면과 만나는 곳에서의 표면 화학의 변경 때문에 발생할 수 있다. 국소적인 불균일부가 필름 두께의 편차를 이끌 수 있다. 예를 들어, 국소적인 불균일부는 전극(106, 108)의 활성 전극 영역(가령, 106a, 108a을 따라) 위에 제공되는 레이어(110, 112)의 두께에서 편이될 수 있다. 상기 불균일부는 가령 전극, 회로, 픽셀 형성 레이어 등의 가장자리에서, 가둠 우물 내 기판(102) 상에 배치되는 이러한 표면 특징부 주변에서 대략 5㎛ - 10㎛ 범위의 일반적으로 국소화된 "가장자리 효과" 편차를 생성할 수 있다. 본원에서, 우물 내에서 "실질적으로 균일한 두께"를 갖는 것으로 OLED 필름 코팅을 기술할 때 이러한 "가장자리 효과" 편차가 포함되는 것으로 의도된다.
예시적 실시예에서, 레이어가 전극들의 활성 영역들 사이의 갭을 가로지를 때 형성되는 필름 내 딥(dip) 때문에, 각각의 레이어의 상부 표면이 디스플레이의 평면에 평행인 단일 평면(즉, 기판에 평행인 평면)에 놓이지 않도록, 각각의 레이어(110, 112)의 두께는 전극의 두께와 동일하거나 작을 수 있다. 이는, 예를 들어, 도 3a에 도시되어 있으며, 여기서 점선이 기판(102)의 평면에 평행인 평면 P를 도시하도록 제공된다. 도시된 바와 같이, 레이어(110, 112) 각각은 전극(106, 108)의 활성 전극 영역에서 끝나는 레이어(110, 112)의 영역 내에서 실질적으로 균일한 평균 두께를 가질 수 있다. 그러나 레이어(110, 112)는 표면 특징부, 가령, 이들 표면 특징부의 가장자리(가령, 갭에 인접한 전극(106, 108)의 가장자리) 주변의 특징부에 의해 야기된 토포그래피 변경과 연관된 영역에서 소형의 국소화된 불균일부 두께를 포함할 수 있다.
임의의 제조 방법을 이용해 레이어(110, 112)가 증착될 수 있다. 예시적 실시예에서, 홀 전도 레이어(110) 및 유기 발광 레이어(112)가 잉크젯 프린팅 기법을 이용해 증착될 수 있다. 예를 들어, 홀 전도 레이어(110)의 물질이 캐리어 유체와 혼합되어, 가둠 우물로의 신뢰할만하고 균일한 로딩을 제공하도록 제제되는 잉크젯 잉크를 형성할 수 있다. 홀 전도 레이어(110)을 증착하기 위한 잉크가 고속으로 잉크젯 헤드 노즐로부터 각각의 가둠 우물 내부로 기판에 전달될 수 있다. 다양한 예시적 실시예에서, 동일한 홀 전도성 물질이 모든 가둠 우물(120, 130, 140)로 전달되어 모든 가둠 우물(120, 130, 140) 내 동일한 홀 전도 레이어(110)의 증착을 제공할 수 있다. 홀 전도 레이어(110)을 형성하기 위해 물질이 가둠 우물 내로 로딩된 후, 디스플레이(100)는 건조되어 임의의 캐리어 유체가 증발되게 할 수 있으며, 이 공정은 디스플레이를 일정 시간 주기 동안 열, 진공, 또는 대기 상태로 노출하는 것을 포함할 수 있다. 건조 후, 디스플레이가 상승된 온도로 베이킹(bake)되어, 증착된 필름 물질을 처리, 가령, 증착된 필름의 품질 또는 전체 공정에 유익한 화학적 반응 또는 필름 형태의 변화를 유도할 수 있다. 각각의 유기 발광 레이어(112)와 연관된 물질이 캐리어 유체, 가령, 유기 용매 또는 용매의 혼합물과 유사하게 혼합되어, 가둠 우물 내로의 신뢰할만하고 균일한 로딩을 제공하도록 제제된 잉크젯 잉크를 형성할 수 있다. 그 후, 이들 잉크는 각각의 발광 색상과 연관된 적절한 가둠 우물(120, 130, 140) 내에 잉크젯 공정을 이용해 잉크젯 증착될 수 있다. 예를 들어, 적색 유기 발광 레이어와 연관된 잉크, 녹색 유기 발광 레이어와 연관된 잉크, 및 청색 유기 발광 레이어와 연관된 잉크가 대응하는 가둠 우물(120, 130, 140) 내로 개별적으로 증착된다. 서로 다른 유기 발광 레이어(112)가 동시에 또는 순차적으로 증착될 수 있다. 유기 발광 레이어와 연관된 잉크들 중 하나 이상을 로딩한 후, 홀 전도 레이어에 대해 앞서 설명된 것과 유사하게 디스플레이가 건조되고 베이킹될 수 있다.
도시되지 않지만, 물질의 추가 능동형 OLED 레이어가 가둠 우물 내에 증착될 수 있다. 예를 들어, OLED 디스플레이(100)가 홀 주입 레이어, 홀 이송 레이어, 전자 차단 레이어, 홀 차단 레이어, 전자 이송 레이어, 전자 주입 레이어, 습기 보호 레이어, 캡슐화 레이어 등을 더 포함할 수 있으며, 이들 레이어 모두는 해당 분양의 통상의 기술자에게 친숙하므로 본 명세서에서 상세히 설명되지 않는다.
상기 홀 전도 레이어(110)는 유기 발광 레이어(112)으로의 홀의 주입을 촉진시키는 물질의 하나 이상의 레이어를 포함할 수 있다. 예를 들어, 홀 전도 레이어(110)는 홀 전도성 물질의 단일 레이어, 가령, 홀 주입 레이어를 포함할 수 있다. 대안적으로, 홀 전도 레이어(110)는 복수의 레이어, 가령, 홀 주입 레이어, 가령, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜: 폴리(스티렌술포네이트)(PEDOT:PSS), 및 홀 이송 레이어, 가령, N,N'-디-((1-나프틸)-N,N'-디페닐)-1,1'-비페닐)-4,4'-디아민(NPB) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
유기 발광 레이어(112)가 전극, 전극들 사이의 공간, 및 홀 전도 레이어의 토포그래피에 의해 생성된 토포그래피에 충분히 순응(conform)하도록, 상기 유기 발광 레이어(112)는 홀 전도 레이어(110) 위에 증착될 수 있다. 유기 발광 레이어(112)는 발광을 촉진시키기 위한 물질, 가령, 유기 발광 물질(유기 루미네선스 물질)을 포함할 수 있다.
예시적 실시예에서, OLED 스택(가령, 가둠 우물 내 전극 위에 증착되는 모든 능동형 OLED 레이어)의 두께의 범위는 10㎚ 내지 250㎚일 수 있다. 예를 들어, 홀 이송 레이어는 10㎚ 내지 40㎚의 두께를 가질 수 있고, 홀 주입 레이어는 60㎚ 내지 150㎚의 두께를 가질 수 있으며, 유기 발광 레이어는 30㎚ 내지 150㎚의 두께를 가질 수 있으며, 선택사항으로서, 홀 차단 레이어, 전자 수공 레이어, 및 전자 주입 레이어는 10㎚ 내지 60㎚의 결합 두께를 가진다.
예시적 실시예에서, 약 10pL 미만의 부피를 갖는 방울이 레이어(110, 112) 각각을 생성하도록 사용될 수 있음이 고려된다. 다양한 예시적 실시예에서, 5pL 이하, 3pL 이하, 또는 2pL 이하의 방울 부피가 사용될 수 있다. 앞서 기재된 부피를 갖는 1 내지 20 방울의 방울을 이용해 OLED 레이어(110, 112)가 형성될 수 있다.
하나의 비제한적 예시적 실시예에서, 본 발명은 326 ppi의 해상도를 갖는 디스플레이의 경우(가령, 피치 = 78 um) 적색, 녹색, 또는 청색 발광과 연관된 우물(120, 130, 140)의 면적이 66㎛ × 66㎛일 수 있도록 배열된 가둠 우물을 고려하며, 여기서 본 실시예에서 이웃하는 우물들 간 폭은 12㎛일 수 있다. 적색 또는 녹색 서브-픽셀 발광과 연관된 면적은 31.5㎛ × 31.5㎛일 수 있고, 청색 서브-픽셀 발광과 연관된 면적은 66㎛ × 30㎛일 수 있어서, 도 1을 참조하여 기재되는 종래의 RGB 사이드-바이-사이드 레이아웃에 대한 46%의 필 팩터에 비교할 때, 65%의 전체 픽셀 필 팩터를 이끈다. 또 다른 비제한적 예시적 실시예에서, 440 ppi의 해상도를 갖는 디스플레이(가령, 피치 = 58㎛)의 경우, 적색, 녹색, 또는 청색 발광과 연관된 우물(120, 130, 140)의 면적이 46㎛ × 46㎛일 수 있도록 가둠 우물을 배열하는 것이 고려되며, 여기서 다시 말하자면 본 실시예에서 이웃하는 우물들 사이의 폭이 12㎛이다. 이러한 디스플레이 구조물의 적색 또는 녹색 서브-픽셀 발광과 연관된 면적이 20.3㎛ × 20.3㎛일 수 있으며, 반면에 청색 서브-픽셀 발광과 연관된 면적이 76㎛ × 49.1㎛일 수 있음으로써, 도 1을 참조하여 기재된 종래의 RGB 사이드-바이-사이드 레이아웃에 대한 30%의 필 팩터에 비교할 때, 대략 46%의 필 팩터를 생성할 수 있다. 이 실시예에서, 인접한 우물들 사이의 폭은 12㎛일 수 있지만, 앞서 언급된 바와 같이, 이 폭은 상이한 값을 가질 수 있으며, 더 작은 값이 바람직한 경우(활성 전극 면적에 할당된 기판 면적의 더 높은 비율을 위해), 우물 구조물의 형성에 대한 제약 및 회로 레이아웃 제약이 이 치수에 하한을 효과적으로 설정할 수 있다. 12㎛의 값이 이들 예시에 대한 대표값으로서 선택되지만, 해당 분야의 통상의 기술자라면, 본 발명의 범위 내에서, 그 밖의 다른 치수, 가령, 더 큰 치수, 가령, 20㎛, 또는 더 작은 치수, 가령, 8㎛, 6㎛, 심지어 1㎛가 사용될 수 있음을 알 것이다. 해당 분야의 통상의 기술자라면 상기의 예시에서, 적색, 녹색, 및 청색 가둠 우물 각각이 동일한 치수를 갖지만, 그 밖의 다른 배열이 가능함을 더 알 수 있다. 예를 들어, 서로 다른 발광 색상과 연관된 2개의 가둠 우물이 동일한 치수를 가질 수 있으며, 또 다른 상이한 발광 색상과 연관된 하나의 가둠 우물이 상이한 치수를 갖거나 각각의 발광 색상과 연관된 가둠 우물이 상이한 치수를 가질 수 있다.
본 발명에 따르는 이들 예시적 비제한적 배열이 440ppi의 초고해상도 경우라도 45㎛ 초과의 최소 우물 치수를 갖는 가둠 우물을 제공하고, 따라서 약 10pL의 방울 부피가 사용될 수 있게 하며, 이로 인하여, 기존 잉크젯 프린팅으로부터 이용 가능한 방울 부피의 사용을 가능하게 함으로써 제조를 단순화할 수 있다. 덧붙여, 상기의 비-제한적 예시적 배열은 326 ppi 및 440 ppi 경우 각각 약 43% 및 84%만큼 종래의 RGB 사이드-바이-사이드 레이아웃에 비교할 때 픽셀 필 팩터를 증가시킨다. 더 일반적으로, 본 발명에 따르는 다양한 예시적 실시예가 잉크젯, 가령, 초고해상도 디스플레이를 이용해 제작되는 고해상도 디스플레이의 필 팩터의 개선을 제공하며, 여기서, 40% 이상의 개선이 가능하다.
해당 분야의 통상의 기술자라면, 공통 전극(도시되지 않음)이 증착 후 유기 발광 레이어(112) 위에 배치될 수 있다. 공통 전극이 증착된 후, 공통 전극의 최종 토포그래피가 유기 발광 레이어(112)의 토포그래피에 충분히 순응될 수 있다. 임의의 제작 기법을 이용해, 가령, 진공 열 증발증착, 스퍼터링, 화학적 기상 증착, 분사 코팅, 잉크젯 프린팅, 또는 그 밖의 다른 기법을 이용해, 공통 전극이 증착될 수 있다. 공통 전극은 투명하거나 반사성이고 전도성 물질, 가령, 금속, 혼합 금속, 합금, 금속 옥사이드, 혼합 옥사이드, 또는 이들의 조합으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 인듐 틴 옥사이드 또는 망간 은의 얇은 레이어. 공통 전극의 두께의 범위는 약 30㎚ 내지 500㎚일 수 있다.
덧붙여, 공통 전극은 임의의 형태, 배열, 또는 구성을 가질 수 있다. 예를 들어, 공통 전극이 단일 서브-픽셀 또는 단일 픽셀과 연관된 이산 레이어로서 배치될 수 있다. 대안적으로, 공통 전극은 복수의 서브-픽셀 또는 픽셀 위에, 가령, 디스플레이(100)의 전체 픽셀 배열 위에 배치될 수 있다. 예를 들어, 공통 전극은 가둠 우물(120, 130, 140) 내에 증착될 뿐 아니라 가둠 구조물(104) 위에 증착되는 블랭킷(blanket)일 수 있다. 공통 전극의 증착 전에, (단순성을 위해 도시되지 않는) 추가 능동형 OLED 레이어, 가령, 전자 이송 레이어, 전자 주입 레이어, 및/또는 홀 차단 레이어가 유기 발광 레이어(112) 위에 증착될 수 있다. 이러한 추가 OLED 레이어는 잉크젯 프린팅에 의해, 진공 열 증발증착, 또는 또 다른 방법에 의해 증착될 수 있다.
예시적 실시예에 따르면, OLED 소자(100)는 상부 발광 형태(top emissive configuration) 또는 하부 발광 형태(bottom emissive configuration)를 가질 수 있다. 예를 들어, 도 3a에 도시된 바와 같이, 상부 발광 형태에서, 전극(106, 108)은 반사성 전극일 수 있고 유기 발광 레이어 위에 배치되는 공통 전극이 투명 전극일 수 있다. 대안적으로, 하부 발광 형태에서, 전극(106, 108)이 투명할 수 있고 공통 전극이 반사성일 수 있다.
또 다른 예시적 실시예에서, 상기 OLED 디스플레이(100)는 능등-매트릭스 OLED(AMOLED)일 수 있다. AMOLED 디스플레이는, 수동-매트릭스 OLED(PMOLED) 디스플레이에 비교할 때, 디스플레이 성능을 개선하지만, 기판상의 능동 구동 회로, 가령, 박막 트랜지스터(TFT)에 의존하며 이러한 회로는 투명하지 않다. PMOLED 디스플레이가 투명하지 않은 일부 요소, 가령, 전도성 버스 라인을 갖지만, AMOLED 디스플레이는 불투명한 요소를 실질적으로 더 많이 가진다. 따라서 하부 발광 AMOLED 디스플레이의 경우, 광이 기판의 하부를 통해 불투명한 회로 요소들 사이에서만 발산될 수 있기 때문에 PMOLED에 비해 필 팩터가 감소될 수 있다. 이러한 이유로, AMOLED 디스플레이에 대한 상부 발광 형태를 이용하여 LED 소자가 이러한 불투명 능동 회로 요소의 상부 상에 구성될 수 있기 때문에, 이러한 구성을 이용하는 것이 바람직할 수 있다. 따라서 아래 놓인 요소의 불투명함에 대한 우려 없이, OLED 소자의 상부를 통해 광이 발산될 수 있다. 일반적으로, 상부 발광 구조물을 이용함으로써, 기판(102) 상에 증착된 추가 불투명 요소(가령, TFT, 구동 회로 구성요소 등)에 의해 발광이 차단되지 않기 때문에, 디스플레이(100)의 각각의 픽셀(150)의 필 팩터가 증가될 수 있다.
또한, 각각의 픽셀의 비-활성 면적이 기판(102) 상에 형성되는 가둠 구조물, 표면 특징부, 및/또는 픽셀 형성 레이어(pixel definition layer)(이의 예시가 이하에서 기재될 것이다)으로 한정될 수 있다. 전도 격자(conductive grid)가 기판(102) 상에 배치되어, 상부 발광 OLED 구조물에서 사용되는 투명한 상부 전극이 일반적으로 낮은 전도율을 갖기 때문에 발생할 수 있는 디스플레이(100) 양단의 바람직하지 않은 전압 강하를 방지할 수 있다. 공통 전극이 가둠 우물(120, 130, 140) 내에 그리고 가둠 구조물(104) 상에 증착되는 블랭킷일 때, 전도 격자가 상기 기판(102)의 비활성 부분에 배치될 수 있고 선택된 가둠 구조물(104)에 형성된 비아 홀을 통해 공통 전극으로 연결될 수 있다. 그러나 본 발명은 상부 발광 능동-매트릭스 OLED 구성으로 제한되지 않는다. 본 명세서에 언급된 기법 및 배열은 임의의 그 밖의 다른 유형의 디스플레이, 가령, 하부 발광 및/또는 수동 디스플레이에 의해 사용될 수 있을 뿐 아니라 해당 분야의 통상의 기술자라면 적절한 변형을 이용하는 법을 이해할 것이다.
예시적 실시예에서, 도 3a에 도시된 바와 같이, 각각의 가둠 우물이 W1 및 W2에 각각 걸쳐 있는 복수의 활성 서브-픽셀 영역을 포함할 수 있고, 갭 S에 의해 이격되며, 폭 CW를 갖는 우물 내에 가둬진다. 치수 W1, W2, 및 CW가 픽셀 피치와 주로 관련되며, 이는 디스플레이의 해상도(가령, 326 ppi, 440 ppi)에 대응한다. 갭 S의 치수가 제조 기법 및 공정과 연관된 제한, 및 레이아웃과 관련된다. 일반적으로, 갭 S와 연관된 치수를 최소화하는 것이 바람직할 수 있다. 예를 들어, 3㎛는 최소 치수일 수 있지만, 해당 분야의 통상의 기술자라면 1㎛만큼 작은 치수에서 10㎛을 초과하는 치수까지 가능함을 알 것이다. 가둠 구조물(104)의 높이 H는 특정 디스플레이 레이아웃 또는 해상도보다는 공정 제한과 관련된다. 가둠 구조물(104)의 높이 H의 예시적 값이 1.5㎛일 수 있지만, 다양한 예시적 실시예에서, 높이 H의 범위는 0.5㎛ 내지 5㎛일 수 있다. 도 3b를 참조하면, BW는 인접한 우물들(가령, 도 3b의 우물들(120 및 130)) 사이의 가둠 구조물(104)의 폭이다. 앞서 기재된 바와 같이, 이 치수를 최소화하는 것이 바람직할 수 있으며 예시적 값은 12㎛일 수 있다. 그러나 해당 분야의 통상의 기술자라면, 이 값이 일부 경우 BW에 대한 작은 값을 허용할 수 있는 제조 기법 및 공정에 따라 임의적으로 클 수 있으며(가령, 수 백 미크론), 1㎛만큼 작을 수도 있음을 알 것이다.
도 4를 참조하면, 디스플레이(200)의 가둠 우물(220)의 예시적 실시예의 횡단면도가 도시된다. 도 4의 배열이 도 3a를 참조하여 앞서 기재된 것과 유사하며, 여기서, 100 시리즈와 달리 200 시리즈를 이용하는 것을 제외하고는, 유사한 번호가 유사한 요소를 나타내도록 사용된다. 그러나 도시된 바와 같이, OLED 디스플레이(200)는 전극(206, 208) 사이의 갭 S에 배치되는 추가 표면 특징부(216)를 포함한다.
표면 특징부(216)는 전기 전류를 이 위에 배치된 OLED 필름 내부로 직접 제공하지 않음으로써, 전극(206 및 208)과 연관된 활성 영역들 사이에 픽셀 영역의 비-활성 영역을 포함하는 임의의 구조물일 수 있다. 예를 들어, 표면 특징부(216)는 불투명한 물질을 더 포함할 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 표면 특징부(216)에 의해 토포그래픽적으로 나타나는 바와 같이, 홀 전도 레이어(210) 및 유기 발광 레이어(212)가 이러한 회로 요소의 일부분 위에 증착될 수 있다. 표면 특징부(216)가 전기적 요소를 포함하는 경우, 이러한 요소는 전기 절연 물질로 더 코팅되어 이들 요소를 표면 특징부(216) 상으로 증착되는 OLED 필름으로부터 전기적으로 고립시킬 수 있다.
예시적 실시예에서, 표면 특징부(216)는 구동 회로, 비-제한적 예를 들면, 인터커넥트, 버스 라인, 트랜지스터, 및 해당 분야의 통상의 기술자에게 친숙한 그 밖의 다른 회로를 포함할 수 있다. 일부 디스플레이에서, 구동 회로는 이러한 회로에 의해 구동되는 픽셀의 활성 영역에 근위(proximal)에 배치되어 복잡한 인터커넥션을 최소화하고 전압 강하를 감소시킬 수 있다. 일부 경우, 가둠 우물이 개별 서브-픽셀을 둘러싸며, 이러한 회로는 가둠 우물 영역 외부에 위치하여 회로가 능동형 OLED 레이어로 코팅되지 않을 것이다. 그러나 도 4의 예시적 실시예 및 그 밖의 다른 본 명세서에 기재된 실시예에서, 가둠 우물(220)은 서로 다른 픽셀과 연관된 복수의 서브-픽셀을 포함할 수 있기 때문에, 이러한 구동 회로 요소가 가둠 우물 내에 제공될 수 있고, 이는 구동 전자소자의 전기적 성능을 최적화, 구동 전자소자 레이아웃을 최적화, 및/또는 필 팩터를 최적화할 수 있다.
레이어(210, 212)는 아래 놓인 표면 특징부 토포그래피에 충분히 순응하고 가둠 우물 내에서 실질적으로 균일한 두께를 가질 수 있도록 하여 비평면 상부 표면을 갖는 레이어(210 및 212)를 도출하도록, 홀 전도 레이어(210) 및 유기 발광 레이어(212)는 가둠 우물 구조물(204)에 의해 형성되는 영역 내로 그리고 표면 특징부(216) 위로 증착될 수 있다. 표면 특징부(216)가 레이어(210 및 212) 중 하나 또는 둘 모두의 두께보다 큰 거리만큼 전극의 상부 표면의 평면 위에 뻗어 있는 구성에서, 이들 레이어의 하나 또는 둘 모두는 우물(220) 내 디스플레이의 평면에 평행인 평면에서 불연속일 것이다. 따라서 표면 특징부(216)와 연관된 돌출부 때문에 레이어(210, 212) 중 하나 또는 둘 모두는 디스플레이의 평면에 평행인 평면에서 비평면적이고 불연속적일 것이다. 앞서 언급된 바와 같이, 이는 예를 들어 전극(206, 208) 위에 배치되는 레이어(212)의 표면과 동 평면인 평면 P를 도시하는 점선에 의해 도시된다. 도시된 바와 같이, 레이어(212)는 전체 가둠 우물에 걸쳐 평면이 아니며, 대신 아래 놓인 토포그래피에 충분히 순응적이어서, 레이어(212)가 갭 영역 S 및 돌출부(216) 때문에 전체적으로 비평면적 상부 표면을 가진다. 다시 말하면, 레이어(210, 212) 중 하나 또는 둘 모두가 가둠 우물에 걸쳐 상승 및 하강하여 레이어(210, 212)의 증착 전에 우물의 기존 토포그래피에 충분히 순응할 수 있다.
도 4에 표면 특징부(216)가 전극보다 큰 두께를 갖는 것으로 도시되지만, 대안적으로, 표면 특징부(216)는 전극보다 작은 두께 또는 동일한 두께를 가질 수 있다. 또한, 표면 특징부(216)가 기판(202) 상에 배치되는 것으로 도 4에 도시되어 있지만, 표면 특징부(216)는 전극(206, 208) 중 하나 또는 둘 모두 위에 추가로 배치될 수 있다. 표면 특징부(216)가 어레이 내 각각의 가둠 우물에 대해 상이할 수 있으며, 모든 가둠 우물이 표면 특징부를 포함할 필요는 없다. 표면 특징부(216)는 픽셀 형성 레이어로서 더 기능할 수 있으며, 여기서, 서브-픽셀의 일부분 또는 전체 픽셀 배열을 형성하기 위해 표면 특징부(216)의 불투명한 속성이 사용될 수 있다.
도 5a 및 5b를 참조하면, 본 발명에 따르는 디스플레이 가둠 우물의 또 다른 예시적 실시예의 부분 횡단면도가 도시된다. 도 5a 및 5b의 배열이 도 3a 및 3b를 참조하여 앞서 기재된 것과 유사하며, 여기서 100 시리즈 대신 300 시리즈가 사용되는 것을 제외하고 유사한 번호가 요사한 요소를 나타내도록 사용된다. 그러나 도 5a 및 5b에서 도시된 바와 같이, OLED 디스플레이(300)는 형성 레이어(definition layer)(314)를 더 포함한다. 형성 레이어(314)는 기판(302) 상에 증착될 수 있으며, 여기서 가둠 구조물(304)은 형성 레이어(314) 위에 배치될 수 있다. 또한, 형성 레이어(314)는 전극(306, 308) 중 비활성 부분 위에 배치될 수 있다. 형성 레이어(definition layer)(314)는 OLED 디스플레이(300)의 일부분을 형성(define)하도록 사용되는 전기 절연 속성을 갖는 임의의 물리적 구조물일 수 있다. 일부 실시예에서, 형성 레이어(314)는 픽셀 어레이 내 픽셀들의 라인을 정하도록(delineate) 사용되는 임의의 물리적 구조물일 수 있는 픽셀 형성 레이어일 수 있다. 형성 레이어(314)는 또한 서브-픽셀의 라인을 정할 수 있다.
도시된 바와 같이, 예시적 실시예에서, 형성 레이어(314)는 가둠 구조물(304) 너머, 전극(306, 308)의 일부분 위에 뻗어 있을 수 있다. 형성 레이어(314)는 전기적 저항성 물질로 만들어져 형성 레이어(314)가 전류 흐름을 막고 따라서 서브-픽셀의 가장자리를 통한 발광을 상당히 막음으로써, 원치 않는 가시적 아티팩트를 감소시킬 수 있다. 또한 OLED 필름이 형성 레이어의 가장자리 위를 코팅하는 불균일부의 형성을 완화 또는 방지하기 위한 구조물 및 화학물을 갖도록 형성 레이어(314)가 제공될 수 있다. 이러한 방식으로, 형성 레이어(314)는, 다른 경우라면 픽셀 면적의 활성 영역에 포함됐고 픽셀 불균일부에 기여했을 표면 특징부 주변에서 형성되는 필름 불균일부를 마스킹하는 것을 보조할 수 있다(이러한 불균일부는, 예를 들어, OLED 필름이 가둠 우물과 접촉하는 각각의 서브-픽셀의 외부 가장자리에서 또는 OLED 필름이 기판 표면과 접촉하는 각각의 서브-픽셀의 내부 가장자리에서 발생할 수 있다).
홀 전도 레이어(310) 및 유기 발광 레이어(312)는 각각 가둠 구조물(304)에 의해 형성되는 영역 내에 그리고 픽셀 형성 레이어 위에 증착되어 가둠 우물(320) 내 연속적인 레이어를 형성할 수 있다. 앞서 도 3a 및 3b와 관련하여 기재된 바와 같이, 레이어(310, 312)는 가둠 우물의 전체 토포그래피에 충분히 순응할 수 있고 따라서 예를 들어 도 5a의 평면 P에 의해 도시되는 바와 같이 디스플레이의 평면에서 비평면 표면을 갖거나 및/또는 불연속일 수 있다. 앞서 도 3a의 예시적 실시예를 참조하여 설명된 바와 같이, 홀 전도 레이어(310) 및 유기 발광 레이어(312)의 두께가 실질적으로 균일할 수 있다.
예시적 실시예에서, 도 5에서 도시된 바와 같이, 각각의 가둠 우물은 갭 S 만큼 이격되고 폭 CW를 갖는 가둠 우물 내에 포함된 W1 및 W2를 포함하는 복수의 활성 서브-픽셀 영역을 포함할 수 있으며, 이때, 앞서 도 3a를 참조하여 언급된 바와 같이, W1, W2, 및 CW는 픽셀 피치와 주로 관련된다. 마찬가지로, 갭 S의 치수가 제조 및 공정 기법, 및 레이아웃과 관련되며, 여기서 S는, 예시적 실시예에서, 1㎛ 내지 10㎛ 초과의 범위를 가질 수 있으며, 여기서 3㎛는 S에 대한 예시적 치수이다. 가둠 구조물(304)의 높이 H가 앞서 도 3a를 참조하여 기재된 바와 같을 수 있다. 도 5b를 참조하면, 앞서 언급된 바와 같이, BW는 인접한 우물 사이의 가둠 구조물(304)의 폭이며, 도 3b를 참조하여 앞서 기재된 바와 같이 선택될 수 있다.
형성 레이어의 두께와 연관된 치수 T는 제조 기법 및 공정 상태와 사용되는 형성 레이어 물질의 유형에 따라 달라질 수 있다. 다양한 예시적 실시예에서, 형성 레이어의 두께와 연관된 치수 T는 25㎚ 내지 2.5㎛일 수 있지만, 100㎚ 내지 500㎚이 가장 일반적인 범위로 간주될 수 있다. 가둠 우물 내 가둠 구조물(104)의 가장자리 너머까지의 형성 레이어의 범위와 연관되고 도 5a에서 B1, B2, 도 5b에서 B1, B1'으로 라벨링된 치수가 원하는 대로 선택될 수 있다. 그러나 더 큰 치수가 이용 가능한 활성 픽셀 전극 영역의 크기를 감소시킴으로써 필 팩터의 감소에 기여할 수 있다. 따라서 일반적으로 활성 전극 영역에서 가장자리 불균일부를 배제하기 위한 원하는 기능을 수행할 최소 치수를 선택하는 것이 바람직할 수 있다. 다양한 예시적 실시예에서, 이 치수는 1㎛ 내지 20㎛일 수 있으며, 예를 들어, 2㎛ 내지 5㎛일 수 있다.
이제 도 6을 참조하면, 디스플레이(400)의 가둠 우물(420)의 예시적 실시예의 횡단면도가 도시된다. 도 6의 배열이 앞서 도 5a 및 5b를 참조하여 앞서 기재된 바와 유사하며, 300 시리즈 대신 400 시리즈를 이용하는 것을 제외하고 유사한 번호가 유사한 요소를 나타내도록 사용된다. 그러나 도시된 바와 같이, OLED 디스플레이(400)는 전극(406, 408) 사이의 갭 S 내에 배치되는 추가 형성 레이어(416)를 포함한다. 도 6에 도시된 바와 같이, 형성 레이어(416)는, 추가 형성 레이어(416)의 일부분이 기판(402) 상의 갭 S를 통해 그리고 갭에 인접한 전극(406, 408)의 일부분 위에 뻗어 있다는 점에서, 도 4의 표면 특징부와 약간 상이한 구조물을 갖는 표면 특징부일 수 있다. 추가 형성 레이어(416)가 임의의 토포그래피를 가질 수 있으며, 여기서 도 6에 도시된 것은 예시에 불과하다. 도 6에 도시된 바와 같이, 노치(notch)(417)가 기판(102)의 반대 면인 추가 형성 레이어(416)의 표면에 존재할 수 있다. 상기 노치(417)는 다양한 방법을 이용해 형성될 수 있다. 예를 들어, 추가 형성 레이어(416)의 증착 동안, 레이어(416)이 가둠 우물 내에 존재하는 임의의 토포그래피, 가령, 전극(406, 408)에 일반적으로 순응할 수 있도록 노치(417)는 제조 공정으로부터 도출될 수 있으며, 여기서 전극(406, 408) 위의 실질적으로 균일한 두께와 표면이 전극(406, 407)의 상부 표면과 연관되지 않은 실질적으로 불균일 두께 간 차이 나는 두께에 의해 노치(417)가 형성된다. 대안적으로, 예를 들어, 아래 놓인 표면 토포그래피가 매끄럽도록 비-등각적 증착 방법을 이용해 추가 형성 레이어(416)가 증착되는 경우, 노치(417)가 생략될 수 있고, 추가 형성 레이어(416)의 상부 표면이 실질적으로 평면인 토포그래피를 가질 수 있다.
어느 형태라도, (앞서, 예를 들어 도 3a 및 3b를 참조하여 설명된 바와 같이) 홀 전도 레이어(410) 및/또는 유기 발광 레이어(412)가 증착되어, 앞서 기재된 바와 같이 레이어(410, 412)가 추가 형성 레이어(416)의 토포그래피에 충분히 순응되고 실질적으로 균일한 두께를 가질 수 있다.
추가 형성 레이어(416)의 상부 표면(즉, 기판 반대 쪽의 표면)과 상기 기판(402) 사이의 거리가 전극(406, 408)의 상부 표면과 기판(402) 사이의 거리보다 크거나 작을 수 있다. 대안적으로, 추가 형성 레이어(416)의 상부 표면과 기판(402) 사이의 거리가 전극(406, 408)의 상부 표면과 기판(402) 사이의 거리에 실질적으로 동일할 수 있다. 즉, 추가 형성 레이어(416)의 두께는, 기판의 상부 표면과 주변 가둠 구조물(404)의 상부 표면 사이이도록 또는 가둠 구조물(404)의 상부 표면과 실질적으로 동일한 평면 내에 있도록 정해질 수 있다. 대안적으로, 추가 형성 레이어(416)가 전극(406, 408)의 일부분에 겹치지 않고 이들 사이의 갭 S을 채우도록 추가 형성 레이어(416)는 전극(406, 408)과 실질적으로 동일한 높이일 수 있다.
홀 전도 레이어(410) 및 유기 발광 레이어(412)는 가둠 구조물(404) 너머 우물(420) 내부까지 뻗어 있는 형성 레이어(414)의 일부분 위에 뻗어 있을 수 있으며, 레이어(410, 412)는 가둠 구조물(404)에 의해 형성되는 가둠 우물(420) 내 추가 형성 레이어(416) 위에 뻗어 있을 수 있다. 서브-픽셀의 가장자리를 통한 발광을 막음으로써 전류 흐름을 막고 따라서 바람직하지 않은 가시적 아티팩트를 감소시킬 수 있도록 추가 형성 레이어(416)는 전기 저항성 물질로 만들어질 수 있다. 형성 레이어(414)과 추가 형성 레이어(416)는 동일한 물질 또는 상이한 물질로 만들어질 수 있다.
예시적 실시예에서, 도 6에 도시된 바와 같이, 각각의 가둠 우물은 갭 S에 의해 분리되고 폭 CW를 갖는 가둠 우물 내에 포함되는 W1 및 W2을 포함하는 복수의 활성 서브-픽셀 영역을 포함할 수 있으며, 이때, 앞서 언급된 바와 같이, W1, W2, CW, 및 S는 주로 픽셀 피치와 관련된다. 앞서 언급된 바와 같이, 3㎛는 S에 대한 최소 치수일 수 있지만, 해당 분야의 통상의 기술자라면, 1㎛만큼 작은 치수에서 10㎛보다 큰 치수까지 가능함을 알 것이다. 가령 앞서 도 3a 및 3b를 참조하여 기재된 범위 중에서 가둠 구조물(404)의 높이 H가 선택될 수 있다.
형성 레이어의 두께와 연관된 치수 T1 및 추가 형성 레이어의 두께와 연관된 치수 T2가 제작 기법, 공정 상태, 및 사용되는 형성 레이어 물질의 유형을 기초로 가변적일 수 있다. 따라서, 형성 레이어의 두께와 연관된 치수 T1 및 추가 형성 레이어의 두께와 연관된 치수 T2가 50㎚ 내지 2.5㎛, 가령, 100㎚ 내지 500㎚일 수 있다. 가둠 우물의 가장자리 내부에서의 형성 레이어의 범위와 연관된 치수 SB1, SB2, 및 B2가 필요에 따라 선택될 수 있다. 그러나 더 큰 치수가 이용 가능한 활성 픽셀 전극 면적의 크기를 감소시킴으로써 필 팩터의 감소에 기여할 것이다. 따라서 일반적으로 활성 전극 영역으로부터 가장자리 불균일부를 배제시키기 위한 원하는 기능을 수행할 최소 치수를 선택하는 것이 바람직할 수 있다. 다양한 예시적 실시예에서, 이 치수는 1㎛ 내지 20㎛, 예를 들어, 2㎛ 내지 5㎛일 수 있다.
해당 분야의 통상의 기술자라면 본 발명을 기초로, 개시된 형성 레이어 구성들 중 임의의 것이 바람직한 픽셀 형성 구성(pixel definition configuration)을 얻기 위한 서로 다른 방식의 임의의 조합으로 사용될 수 있음을 알 것이다. 가령, 형성 레이어(414) 및/또는 추가 형성 레이어(416)는 임의의 픽셀 및/또는 서브-픽셀 영역 또는 임의의 부분 픽셀 및/또는 서브-픽셀 영역을 형성하도록 구성될 수 있으며, 여기서 형성 레이어(414)는 임의의 가둠 구조물(404) 아래에 증착되는 형성 레이어와 연관될 수 있고 추가 형성 레이어(416)는 전극들 사이에서 가둠 우물 내, 가령, 가둠 우물(420) 내에 증착되는 임의의 형성 레이어와 연관될 수 있다. 해당 분야의 통상의 기술자라면 본 명세서에 도시된 횡단면도는 예시적 횡단면도에 불과하며 본 발명은 도시된 특정 횡단면도에 국한되지 않음을 알 것이다. 예를 들어, 도 3a 및 3b가 각각 라인 3A-3A 및 3B-3B을 따라 도시되지만, 다른 라인, 가령, 3A-3A 및 3B-3B에 직교하는 방향을 따라 취해진 다른 횡단면도가 여러 다른 형성 레이어 구성을 반영할 수 있다. 예시적 실시예에서, 형성 레이어는 픽셀, 가령, 도 2에 도시된 픽셀(150, 151, 152)의 윤곽을 정하도록 조합되어 사용될 수 있다. 대안적으로, 형성 레이어가 가둠 우물 내로 서브-픽셀 전극을 완전히 또는 부분적으로 둘러싸도록 형성 레이어가 서브-픽셀을 형성하도록 구성될 수 있다.
도 7을 참조하면, 또 다른 예시적 실시예의 횡단면도가 도시된다. OLED 디스플레이(500)가 표면 특징부(516) 및 형성 레이어(514)를 포함할 수 있다. 도 7의 배열이 도 4을 참조하여 앞서 기재된 것과 유사하며, 이때 200 시리즈 대신 500 시리즈를 이용하는 것을 제외하고 유사한 번호가 유사한 요소를 나타낸다. 그러나 도 7에 도시된 바와 같이, OLED 디스플레이(500)는 가둠 구조물(504) 아래 배치된 형성 레이어(514)를 더 포함한다. 상기 형성 레이어(514)는 OLED 디스플레이(500)의 일부분을 형성하도록 사용되는 임의의 물리적 구조물일 수 있다. 하나의 실시예에서, 형성 레이어(514)는 픽셀을 갖는 픽셀 어레이 및/또는 서브-픽셀 내 픽셀들의 라인을 정하도록 사용되는 임의의 물리적 구조물일 수 있는 형성 레이어일 수 있다. 도시된 바와 같이, 예시적 실시예에서, 형성 레이어(514)는 가둠 구조물(504) 너머 전극(506, 508)의 일부분 위에 뻗어 있을 수 있다. 형성 레이어(514)는 전기 저항성 물질로 만들어져, 형성 레이어(514)이 전류 흐름을 막고 따라서 서브-픽셀의 가장자리를 통한 발광을 막음으로써 원치 않는 가시적 아티팩트를 감소시킬 수 있다. 이러한 방식으로, 형성 레이어(514)는 가장자리 건조 효과로 인해 발생할 수 있는 각각의 서브-픽셀의 가장자리에서 형성된 필름 레이어 불균일부를 마스킹하는 데 도움이 될 수 있다. 앞서 언급된 바와 같이, 레이어(510, 512)이 아래 놓인 표면 특징부 토포그래피에 충분히 순응하고 실질적으로 균일한 두께를 갖도록 (가령, 도 3a 및 3b를 참조하여 앞서 언급된 바와 같이) 홀 전도 레이어(510) 및 유기 발광 레이어(512)가 증착될 수 있다.
해당 분야의 통상의 기술자라면, 다양한 배열 및 구조물, 가령, 표면 특징부, 형성 레이어 등은 예시에 불과하며, 그 밖의 다른 다양한 조합 및 배열이 고려될 수 있고 본 발명의 범위 내에 있음을 알 것이다.
도 8-11을 참조하면, OLED 디스플레이(600)를 제작하는 예시적 방법이 동안의 다양한 예시적 단계들을 보여주는 기판의 부분 횡단면도가 도시된다. 제작 방법이 디스플레이(600)를 참조하여 이하에서 설명될 것이지만, 그 밖의 다른 OLED 디스플레이, 가령, 앞서 기재된 OLED 디스플레이(100, 200, 300, 400, 및 500)를 제작하는 데, 기재된 단계들 중 일부 및/또는 전부가 사용될 수 있다. 도 8에서 도시된 바와 같이, 전극(606, 608) 및 표면 특징부(616)가 기판(602) 위에 제공될 수 있다. 임의의 제작 방법, 가령, 잉크젯 프린팅, 노즐 프린팅, 슬릿 코팅, 스핀 코팅, 진공 열 증발증착, 스퍼터링(또는 그 밖의 다른 물리 기상 증착 방법), 화학 기상 증착 등을 이용해 전극(606, 608) 및 표면 특징부(616)가 형성될 수 있으며, 쉐도우 마스킹, 포토리소그래피(포토레지스트 코팅, 노광, 현상, 및 박리), 습식 에칭, 건식 에칭, 리프트-오프 등을 이용함으로써, 증착 기법에 달리 포함되지 않는 임의의 추가 패터닝이 이뤄질 수 있다. 전극(606, 608)은 표면 특징부(616)와 함께 형성되거나 전극 또는 표면 특징부가 먼저 형성되고 나중에 형성될 수 있다.
그리고 나서, 도 9에 도시된 바와 같이 형성 레이어(614) 및 추가 형성 레이어(618)가 표면 특징부(616) 및 전극(606, 608) 위에 증착될 수 있다. 임의의 제조 방법, 가령, 잉크젯 프린팅, 노즐 프린팅, 슬릿 코팅, 스핀 코팅, 진공 열 증발증착, 스퍼터링(또는 그 밖의 다른 물리적 기상 증착 방법), 화학 기상 증착 등을 이용해, 레이어(614 및 618)이 형성될 수 있으며, 쉐도우 마스킹, 포토리소그래피(포토레지스트 코팅, 노광, 현상, 및 박리), 습식 에칭, 건식 에칭, 리프트-오프 등을 이용해, 증착 기법에 달리 포함되지 않는 임의의 요구되는 추가 패터닝이 얻어질 수 있다. 형성 레이어(614)는 추가 형성 레이어(618)와 동시에 형성되거나 레이어(614 또는 618)가 먼저 형성되고 그 후 형성될 수 있다.
형성 레이어(614) 위에 가둠 구조물(604)이 제공된다. 복수의 픽셀에 걸쳐 있으면서 복수의 서브-픽셀 전극(606, 608)을 둘러싸는 가둠 우물(620)을 형성하도록 상기 가둠 구조물(604)이 형성될 수 있다. 임의의 제조 방법, 가령, 잉크젯 프린팅, 노즐 프린팅, 슬릿 코팅, 스핀 코팅, 진공 열 증발증착, 스퍼터링(또는 그 밖의 다른 물리 기상 증착 방법), 화학 기상 증착 등을 이용해, 가둠 구조물(604)이 형성될 수 있고, 쉐도우 마스킹, 포토리소그래피(포토레지스트 코팅, 노광, 현상, 및 박리), 습식 에칭, 건식 에칭, 리프트-오프 등을 이용함으로써, 증착 기법에 달리 포함되지 않는 임의의 추가 패터닝이 이뤄질 수 있다. 하나의 예시적 기법에서, 도 10에 도시된 바와 같이, 연속 레이어(604')으로 가둠 구조물 물질이 기판(602) 위에 증착될 수 있고 그 후 레이어(604')의 일부분(605)이 제거되어 서브-픽셀 전극(606, 608)을 노출시킬 수 있도록 마스크(607)를 이용해 레이어가 패터닝될 수 있다. 부분(605)이 제거된 후 남아 있는 레이어(604')의 물질에 의해 가둠 구조물(604)이 형성된다. 대안적으로, 증착된 가둠 구조물(604)이 경계를 형성짓고 상기 증착된 가둠 구조물(604)의 경계 내에 형성되도록 가둠 구조물만 형성하도록 물질을 능동적으로 증착함으로써 가둠 구조물(604)이 형성될 수 있다.
도 10에 도시된 바와 같이, 예시적 실시예에서, 각각의 가둠 우물이 갭 S에의해 이격된 W1 및 W2를 포함하는 복수의 활성 서브-픽셀 영역을 포함할 수 있다. 앞서 언급된 바와 같이, 치수 W1, W2, 및 CW는 주로 픽셀 피치와 관련된다. 그리고 갭 S의 치수가 제조 기법 및 공정, 및 레이아웃과 연관된 한정과 관련되며, 1㎛ 내지 10㎛ 초과일 수 있고, 3㎛가 예시적 최소 치수이다. 가둠 우물의 가장자리 내부의 형성 레이어의 확장과 연관된 치수 SB1 및 SB2가 필요에 따라 선택될 수 있다. 그러나 이용 가능한 활성 픽셀 전극 영역의 크기를 감소시킴으로써, 더 큰 치수가 필 팩터의 감소에 기여할 것이다. 따라서 일반적으로 활성 전극 영역에서 가장자리 불균일부를 배제시키는 원하는 기능을 수행할 최소 치수를 선택하는 것이 바람직할 수 있다. 다양한 예시적 실시예에서, 이 치수는 1㎛ 내지 20㎛, 가령, 2㎛ 내지 5㎛일 수 있다.
도 11에 도시된 바와 같이, 그 후 잉크젯 프린팅를 이용해 가둠 우물(620) 내에 홀 전도 레이어(610)가 증착될 수 있다. 가령, 잉크젯 노즐(650)이 홀 전도성 물질의 방울(들)(651)을 가둠 우물(620) 내로 형성된 타겟 영역 내로 지향시킬 수 있다. 상기 홀 전도 레이어(610)은 2개의 이산 레이어, 가령, 홀 주입 레이어 및 홀 이송 레이어를 더 포함할 수 있고, 이들 레이어는 본 명세서에 기재된 바의 잉크젯 방법에 의해 순차적으로 증착될 수 있다. 또한, 잉크젯 프린팅를 이용해 홀 전도 레이어(610) 위에서 가둠 우물(620) 내에 유기 발광 레이어(612)가 증착될 수 있다. 잉크젯 노즐(650)이 유기 발광 물질의 방울(들)(651)을 홀 전도 레이어(610) 위의 타겟 영역 내로 지향시킬 수 있다. 해당 분야의 통상의 기술자라면, 도 11을 참조하여 단일 노즐이 언급되더라도, 홀 전도성 물질 또는 유기 발광 물질을 함유하는 방울을 복수의 가둠 우물 내로 제공하기 위해 복수의 노즐이 구현될 수 있음을 알 것이다. 해당 분야의 통상의 기술자라면 일부 실시예에서, 복수의 잉크젯 노즐 헤드로부터 동시에 동일하거나 상이한 색상의 유기 발광 물질이 증착될 수 있음을 알 것이다. 또한, 해당 분야의 통상의 기술자에게 자명한 기술을 이용해 타겟 기판 표면 상의 방울 분출 및 배치가 수행될 수 있다.
예시적 실시예에서, 가둠 우물(620) 내에 단일 유기 발광 레이어(612), 가령, 적색, 녹색, 또는 청색 레이어가 증착될 수 있다. 대안적 예시적 실시예에서, 복수의 유기 발광 레이어가 가둠 우물(620) 내에서 하나씩 위아래로 증착될 수 있다. 하나의 발광 레이어가 광을 발산하도록 활성화될 때, 다른 발광 레이어는 광을 발산하거나 제1 유기 발광 레이어의 발광과 간섭을 일으키지 않도록, 이러한 배열은, 가령, 발광 레이어가 서로 다른 발광 파장 범위를 가질 때 효과적일 수 있다. 가령, 적색 유기 발광 레이어 또는 녹색 유기 발광 레이어가 가둠 우물(620) 내에 증착될 수 있고, 그 후 청색 유기 발광 레이어가 적색 또는 녹색 유기 발광 레이어 위에 증착될 수 있다. 이러한 방식으로, 가둠 우물이 2개의 서로 다른 발광 레이어를 포함할 수 있지만, 가둠 우물 내에서 단 하나의 발광 레이어만 광을 발산하도록 구성된다.
앞서 기재된 바와 같이, 형성 레이어(614)의 토포그래피, 표면 구조물(616), 추가 형성 레이어(618), 및 전극(606, 608)에 충분히 순응하도록 레이어(610 및 612)가 증착될 수 있고, 앞서 기재된 바와 같이, 실질적으로 균일한 두께를 가질 수 있다.
본 발명에 따라 다양한 픽셀 및 서브-픽셀 레이아웃에 대해 도 3a-11을 참조하여 앞서 기재된 다양한 양태가 사용될 수 있으며, 도 2는 하나의 예시이며 이러한 레이아웃을 한정하지 않는다. 본 발명에 의해 고려되는 다양한 추가 예시적 레이아웃이 도 12-18에 도시되어 있다. 다양한 예시적 레이아웃이 본 명세서에 기재된 예시적 실시예를 구현하기 위한 많은 방식이 존재함을 나타내고, 많은 경우에서, 임의의 특정 레이아웃의 선택은 다양한 인자들, 가령, 아래 놓인 전기 회로의 레이아웃, 원하는 픽셀 형태(도시된 실시예에서 장방형 또는 육각형으로 도시되지만 그 밖의 다른 형태, 가령, 꺽쇠형(chevron), 원, 육각형, 삼각형 등일 수 있음), 및 디스플레이의 가시적 외관과 관련된 인자들(가령, 서로 다른 구성 및 서로 다른 유형의 디스플레이 콘텐츠, 가령, 텍스트, 그래픽, 또는 동영상에 대한 관측될 수 있는 가시적 아티팩트)에 의해 구동된다. 해당 분야의 통상의 기술자라면 그 밖의 다른 복수의 레이아웃이 본 발명의 범위 내에 속하고 본 명세서에 기재된 원리를 기초로 하는 변형예를 통해 획득될 수 있음을 알 것이다. 또한, 해당 분야의 통상의 기술자라면, 간결성을 위해 이하에서 도 12-18의 기재로서 가둠 우물을 형성짓는 가둠 구조물만 기재되지만, 도 3a-11를 참조하여 앞서 기재된 표면 특징부, 회로, 픽셀 형성 레이어, 및 그 밖의 다른 레이어 등의 특징부 중 임의의 것이 여기서의 픽셀 레이아웃들 중 임의의 것과 조합되어 사용될 수 있다.
도 12는 OLED 디스플레이(700)에 대한 픽셀 및 서브-픽셀 레이아웃의 예시적 실시예의 부분 평면도이며 도 2의 레이아웃과 유사하며 레이아웃의 추가 양태가 이하에서 기재된다. 가둠 구조물(704), 가령, 앞서 기재된 뱅크 구조물이 기판 상에 제공되어 배열 구성으로 복수의 가둠 우물(720, 730, 740)을 형성지을 수 있다. 유기 레이어가 가둠 우물(720, 730, 740)을 통해 가둠 우물을 둘러싸는 가둠 구조물(704)까지 뻗어 있다, 가령, 각각의 우물(720, 730, 740) 내 OLED 물질의 레이어의 가장자리가 가둠 구조물(704)과 접촉할 수 있도록, 각각의 가둠 우물(720, 730, 740)이 (빗금 영역에 의해 나타난) OLED 물질의 실질적으로 연속인 레이어를 포함할 수 있다. OLED 레이어는, 가령, 홀 주입 물질, 홀 이송 물질, 전자 이송 물질, 전자 주입 물질, 홀 차단 물질, 및 유기 발광 물질 중 서로 다른 발광 파장 범위의 발광을 제공하는 하나 이상을 포함할 수 있다. 가령, 가둠 우물(720)은 적색 파장 범위 내 발광과 연관되며 R로 지시되는 유기 발광 레이어를 포함할 수 있고, 가둠 우물(730)은 녹색 파장 범위 내 발광과 연관되며 G로 지시되는 유기 발광 레이어를 포함할 수 있고, 가둠 우물(740)은 청색 파장 범위 내 발광과 연관되며 B로 지시되는 유지 발광 레이어를 포함할 수 있다. 우물(720, 730, 740)은 서로에 대해(가령, 레이아웃) 다양한 배열 및 구성을 가질 수 있다. 가령, 도 12에 도시된 바와 같이, 적색 유기 발광 레이어 R 및 녹색 유기 발광 레이어 G를 각각 포함하는 가둠 우물(720) 및 가둠 우물(730)이 교대 배열로 행(R1, R3)에 배치된다. 행(R1 및 R3)은 청색 유기 발광 레이어 B를 담는 가둠 우물(740)의 행(R2, R4)과 교대한다. 가둠 우물(720, 730)은 행(R1, R3) 내에 교대로 배열될 수 있다.
복수의 전극(706, 707, 708, 709; 736, 737, 738, 739; 및 742, 744)이 각각의 가둠 우물(720, 730, 740) 내에 각각 배치될 수 있으며, 각각의 전극은 특정 발광 색상, 가령, 적색, 녹색, 또는 청색 발광과 연관된 서브-픽셀과 연관될 수 있다. 도 12에서 점선으로 식별된 픽셀(750, 751, 752, 753)은 적색 발광을 갖는 하나의 서브-픽셀, 녹색 발광을 갖는 하나의 서브-픽셀, 및 청색 발광을 갖는 하나의 서브-픽셀을 포함하도록 형성될 수 있다. 가령, 각각의 가둠 우물(720, 730, 740)은 이들 연관된 전극 활성 영역이 도 12에 도시된 전극 아웃라인에 대응하도록 구성되며 복수의 전극(706, 707, 708, 709; 736, 737, 738, 739; 및 742, 744)을 포함할 수 있으며, 서로 이격되어 있다. 가둠 우물(720, 730, 740)은 가둠 우물 내 서로 다른 개수 및/또는 배열의 전극을 가질 수 있다. 대안적으로, 추가 배열이 가능한데, 가령, 적색, 녹색, 및 청색이 아닌 다른 색상 세트, 가령, 넷 이상의 서브-픽셀 색상과 관련된 색상의 조합을 갖는 배열이 가능하다. 단일 색상의 둘 이상의 서브-픽셀이 특정 픽셀과 연관된 그 밖의 다른 배열이 또한 가능한데, 가령, 각각의 픽셀이 하나의 적색, 하나의 녹색, 및 2개의 청색 서브-픽셀, 또는 특정 색상의 복수의 서브-픽셀의 그 밖의 다른 조합 및 그 밖의 다른 색상의 조합과 연관될 수 있다. 또한, 서로 다른 발광 물질의 복수의 레이어가 위 아래로 배치되는 경우, 서로 다른 색상 서브-픽셀이 서로 겹칠 수 있다. 도 12에 도시된 바와 같이, 서브-픽셀 전극이 가둠 우물을 형성 짓는 구조물로부터 이격되어 있을 수 있다. 대안적 실시예에서, 서브-픽셀 전극은 가둠 우물 구조물에 바로 인접하여 전극과 가둠 구조물 간에 어떠한 갭도 없도록 증착될 수 있다. 또한, 가둠 우물은 서브-픽셀 전극의 일부분 위에 배치될 수 있다.
또한, 인접한 가둠 우물이 서로 다른 서브-픽셀 배열을 가질 수 있다. 예를 들어, 도 12에 도시된 바와 같이, 가둠 우물(720 및 730)이 2×2 활성 전극 영역 배열을 포함하고, 가둠 우물(740)이 1×2 활성 전극 영역 배열을 포함하고, 이때 2×2 배열 내 활성 전극 영역이 동일 크기의 정사각형이고 1×2 배열 내 활성 전극 영역이 동일한 크기의 직사각형이다. 앞서 언급된 바와 같이, 서로 다른 가둠 우물 내 전극들은 활성 영역의 서로 다른 표면 영역을 가질 수 있다.
하나의 예시적 배열에서, 청색 파장 범위 B 내 발광의 서브-픽셀을 어드레싱하도록 사용되는 전극과 연관된 활성 영역이 적색 및/또는 녹색 파장 범위 R, G 내 발광을 어드레싱하기 위해 사용되는 전극과 연관된 활성 영역보다 넓은 표면적을 가질 수 있다. 동일한 면적 밝기 레벨에서 동작할 때 청색 발광과 연관된 서브-픽셀이 종종 적색 또는 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀보다 실질적으로 더 짧은 수명을 갖기 때문에, 청색 파장 범위 B 내 발광을 갖는 서브-픽셀과 연관된 전극의 활성 영역이 적색 또는 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀 전극과 연관된 활성 영역보다 넓은 표면적을 갖는 것이 바람직할 수 있다. 청색 발광과 연관된 서브-픽셀의 상대적 활성 면적을 증가시킴으로써, 여전히 동일한 전체 디스플레이 밝기를 유지하면서 비교적 낮은 면적 밝기 레벨에서의 동작이 가능하고, 따라서 청색 발광과 연관된 서브-픽셀의 수명 및 디스플레이의 전체 수명이 증가될 수 있다. 청색 발광과 연관된 서브-픽셀과 관련하여 적색 및 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀이 감소될 수 있다. 적색 및 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀이 청색 발광과 연관된 서브-픽셀과 관련하여 감소될 수 있다. 이는 적색 및 녹색 OLED 소자 수명을 감소시킬 수 있는 청색 발광과 연관된 서브-픽셀과 관련하여 더 높은 밝기 레벨에서 구동될 적색 및 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀을 도출할 수 있다. 그러나 적색 및 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀의 수명이 청색 발광과 연관된 서브-픽셀이 남아 있는 청색 서브-픽셀과 연관된 서브-픽셀의 수명보다 상당히 더 길 수 있고, 전체 디스플레이 수명과 관련하여 서브-픽셀을 제한하다. 가둠 우물(740) 내 전극의 활성 영역이 도 12에서 수평 방향으로 뻗어 있는 기다란 방향으로 배열되는 것으로 도시되지만, 전극은 전극의 기다란 방향이 도 12의 수직 방향으로 뻗어 있도록 배열될 수 있다.
인접한 가둠 우물들 간 간격이 픽셀 레이아웃을 통해 동일하거나 변할 수 있다. 가령, 도 12를 참조하면, 가둠 우물(720과 730) 간 간격 b'가 가둠 우물(720과 740) 또는(730과 740) 간 간격 f'보다 크거나 같을 수 있다. 다시 말하면, 도 12의 배향에서, 하나의 행 내 인접한 가둠 우물 간 수평 방향 간격이 인접한 행들 내 인접한 가둠 우물들 간 수직 간격과 상이할 수 있다. 또한, 행 R1, R3에서의 수평 방향 간격 b'이 행 R2, R4에서의 수평방향 간격 a'보다 크거나 같을 수 있다.
서로 다른 가둠 우물(720, 730, 740) 각각 내 전극의 활성 영역들 간 공간(갭)이 동일하거나 상이할 수 있으며, 공간의 방향(가령, 수평방향 또는 수직방향)에 따라 달라질 수 있다. 하나의 예시적 실시예에서, 가둠 우물(720, 730) 내 전극들의 활성 영역들 간 갭 d 및 e가 동일할 수 있으며, 가둠 우물(740) 내 전극들의 활성 영역들 간 갭과 상이할 수 있다. 또한, 다양한 예시적 실시예에서, 가둠 우물 내 인접한 활성 전극 영역들 간 갭이 동일한 행 내 또는 상이한 행 내 이웃하는 가둠 우물 내 인접한 활성 전극 영역들 간 갭보다 작다. 가령, c, d 및 e 각각이 도 12의 a, b, 또는 f보다 작을 수 있다.
도 12에서, 각각의 가둠 우물(가령, 720)의 내부 가장자리와 가둠 우물(가령, 706, 707, 708, 709) 내 각각의 활성 전극 영역의 외부 가장자리 사이에 갭이 존재한다. 그러나 도 2에 도시된 바와 같이, 다양한 예시적 실시예에 따르면, 이러한 갭은 제공되지 않을 수 있고 각각의 활성 전극 영역의 외부 가장자리가 가둠 우물의 내부 가장자리와 동일할 수 있다. 이 구성은, 가령, 구조물, 가령, 도 3a에 도시된 구조물을 이용해 이뤄질 수 있으며, 여기서 이러한 갭이 존재하는 도 12에 도시된 구성이, 가령, 구조물, 도 5a에 도시된 구조물을 이용해, 이뤄질 수 있다. 그러나 그 밖의 다른 구조물이 또한 도 2 및 12에 도시된 동일한 구성을 얻을 수 있다.
픽셀(750, 751, 752, 753)이 가둠 우물 배열 및 대응하는 서브-픽셀 레이아웃을 기초로 형성될 수 있다. 픽셀(750, 751, 752, 753)의 전체 공간, 또는 피치가 디스플레이의 해상도를 기초로 할 수 있다. 가령, 디스플레이 해상도가 높을수록, 피치가 작아진다. 또한, 인접한 픽셀들은 서로 다른 서브-픽셀 배열을 가질 수 있다. 가령, 도 12에 도시된 바와 같이, 픽셀(750)은 상단 좌측 부분에 있는 적색 서브-픽셀 R, 상단 우측 부분에 있는 녹색 서브-픽셀 G, 픽셀의 하단 부분의 대부분에 걸쳐 있는 청색 서브-픽셀 B을 포함한다. 녹색 서브-픽셀 G 및 적색 서브-픽셀 G의 상대적 부분이 뒤바뀌고, 녹색 서브-픽셀 G가 상단 좌측 부분에 있고, 적색 서브-픽셀 R이 상단 우측 부분에 있다는 것을 제외하고, 상기 픽셀(751)의 서브-픽셀 레이아웃은 픽셀(750)의 서브-픽셀 레이아웃과 유사하다. 각각 픽셀(751 및 750) 아래에서 인접한 픽셀(752 및 753)은 픽셀(751 및 750)의 거울 이미지이다. 따라서 픽셀(752)은 상단 부분에 있는 청색 서브-픽셀 B, 하단 좌측 부분에 있는 녹색 서브-픽셀 G, 및 하단 우측 부분에 있는 적색 서브-픽셀 R을 포함한다. 그리고 픽셀(753)은 상부 부분에 있는 청색 서브-픽셀, 하단 좌측 부분에 있는 녹색 서브-픽셀, 및 하단 우측 부분에 있는 적색 서브-픽셀을 포함한다.
도 12에 따르는 인치당 326 픽셀(ppi)을 갖는 고해상도 디스플레이의 예시적 실시예에서, 적색 서브-픽셀, 녹색 서브-픽셀, 및 청색 서브-픽셀을 포함하는 픽셀은 326ppi를 얻기 위해 필요한 디스플레이의 전체 피치에 대응하는 약 78㎛ × 78㎛의 전체 치수를 가질 수 있다. 이 실시예에 대해 앞서 언급한 바와 같이 종래 기술에 따르는 가둠 영역들 사이의 최소 간격을 반영하여, a'=b'=f'=12㎛라고 가정하고, 가둠 우물 가장자리 내부에서 3㎛만큼 뻗어 있는 형성 레이어가 사용되는 경우를 반영하여 a=b=f=12㎛+6㎛=18㎛라고 가정하고, 마지막으로 가둠 우물 내 전극 활성 영역들 사이의 통상의 갭으로서 c=d=e=3㎛를 가정할 때, 적색 및 녹색 서브-픽셀 각각과 연관된 면적이 28.5㎛ × 28.5㎛일 수 있고, 청색 서브-픽셀과 연관된 면적이 60㎛ × 27㎛일 수 있다. 앞서 언급된 바와 같이 전체 디스플레이 수명을 증가시키도록 청색 서브-픽셀의 표면적은 적색 및 녹색 서브-픽셀 각각의 표면적보다 클 수 있다. 이러한 레이아웃은 66㎛ × 66㎛의 치수를 갖는 2×2 적색 및 녹색 서브-픽셀의 그룹과 연관된 가둠 우물, 및 66㎛ × 66㎛의 치수를 갖는 1×2 청색 서브-픽셀의 그룹과 연관된 가둠 우물을 가질 수 있다. 이러한 치수는, 50% 초과, 가령, 53%의 높은 필 팩터를 갖는 고해상도 디스플레이를 제공하면서, 종래의 잉크젯 프린팅 헤드 및 프린팅 시스템에 의한 능동 OLED 물질의 간단한 로딩을 제공한다. 이러한 치수는 또한 가둠 우물 벽에 바로 인접한 필름 영역을 통한 전류 흐름을 차단함으로써 활성 전극 영역 내 개선된 필름 균일성을 제공할 수 있는 형성 레이어를 갖는 구조물에 이러한 특징부를 제공한다.
인치당 440 픽셀(ppi)을 갖는 고해상도 디스플레이에 대한 대응하는 예시적 실시예에서, 적색 서브-픽셀, 녹색 서브-픽셀, 청색 서브-픽셀을 포함하는 픽셀은 대략 58㎛ × 58㎛의 전체 치수를 가질 수 있으며, 여기서 바로 직전 예시에서와 같이 치수 a, b, c, d, e, f, a', b', 및 f'에 대해 동일한 값을 가정할 때, 적색 및 녹색 서브-픽셀 각각과 연관된 면적이 18.5㎛ × 18.5㎛일 수 있고, 청색 서브-픽셀과 연관된 면적은 40㎛ × 17㎛일 수 있다. 앞서 기재된 바와 같이, 전체 디스플레이 수명을 증가시키기 위해 청색 서브-픽셀의 표면적이 적색 및 녹색 서브-픽셀 각각의 면적보다 클 수 있다. 이러한 레이아웃은 46㎛ × 46㎛의 치수를 갖는 2×2 적색 및 녹색 서브-픽셀의 그룹과 연관된 가둠 우물, 및 46㎛ × 46㎛의 치수를 갖는 1×2 청색 서브-픽셀의 그룹과 연관된 가둠 우물을 가질 수 있다. 이러한 치수는 40%의 높은 필 팩터를 갖는 고해상도 디스플레이도 제공하면서 종래의 잉크젯 프린팅 헤드 및 프린팅 시스템에 의한 능동 OLED 물질의 비교적 단순한 로딩을 제공한다.
상기 예시적 실시예 각각에서, 치수 a, b, c, d, e, f, a', b', f'에 대한 다양한 값이 구현될 수 있다. 그러나 해당 분야의 통상의 기술자라면 이들 치수가 다양함을 알 것이다. 가령, 가둠 우물 사이의 간격(a', b', f')이 달라질 수 있는데, 가령, 큰 ppi에 대해 1㎛ 내지 수백 마이크론일 수 있다. 가둠 우물 (c, d, e) 내 활성 전극 영역들 간 갭이 달라질 수 있는데, 가령, 앞서 언급된 바와 같이, 1㎛ 내지 수십 마이크론일 수 있다. 또한 활성 전극 영역과 가둠 우물의 가장자리 사이의 갭(a'와 a 간 차이, b'과 b 간 차이, f'와 f 차이의 절반인 것이 효과적임)이 달라질 수 있는데, 앞서 언급된 바와 같이 1㎛ 내지 10㎛일 수 있다. 또한, 이들 치수는 다양하기 때문에, 가둠 우물 및 여기에 담긴 활성 전극 영역의 치수에 대해 사용된 값의 범위를 제한하는 (디스플레이의 전체 피치를 형성하는) ppi와 함께 제약을 가한다. 앞서 예시적 실시예에서, 간결성을 위해, 세 가지 모든 색상에 대해 동일한 치수의 사각형 가둠 우물이 사용된다. 그러나 가둠 우물은 사각형일 필요가 없고 모두 동일한 크기일 필요는 없다. 또한, 도 12에서 제공된 치수가 다양한 공통 치수, 가령, 적색 가둠 우물과 녹색 가둠 우물 내 활성 전극 영역 갭을 가리키지만, 일부 예시적 실시예에서, 이들 갭은 공통 치수가 아니며 서로 다를 수 있다.
도 13은 OLED 디스플레이(800)의 또 다른 예시적 픽셀/서브-픽셀 레이아웃의 부분 평면도이다. 앞서 언급된 예시적 실시예에 공통인 특징부는 기재되지 않는다. 간결성을 위해 차이점이 설명될 것이다.
디스플레이(800)는 도 12에 도시된 바와 같이 디스플레이(700)의 가령 서브-픽셀 전극보다, 가둠 우물 내 서브-픽셀 전극과 연관된 활성 영역들 간 더 큰 간격을 가질 수 있다. 각각의 가둠 우물(820, 830, 840) 내 전극(806, 807, 808, 809; 836, 837, 838, 839; 및 842, 844)과 연관된 인접한 활성 영역들 간 간격이 인접한 가둠 우물 내 인접한 활성 전극 영역들 간 간격보다 클 수 있다. 가령, 전극(836)과 연관된 활성 영역이 지정된 거리 g만큼 서로 이격되어 있을 수 있고, 전극(838)과 연관된 활성 영역에 대해서도 마찬가지이다. 이웃한 가둠 우물(820, 830) 내 인접한 활성 전극 영역들 간 간격 k가 전극(836, 838)과 연관된 활성 영역들 간 간격 g보다 작을 수 있고, 전극(842)과 연관된 활성 영역들 간 간격 m(및 전극(844)의 경우도 마찬가지)이 이웃하는 가둠 우물(840) 및 가둠 우물(820, 830) 내 인접한 활성 전극 영역들 사이의 간격 n보다 클 수 있다. 이러한 간격이 하나의 형성된 픽셀과 연관된 서브-픽셀 전극들의 더 가까운 배열을 제공하면서 하나의 가둠 우물 내 배치되고 동일한 발광 색상과 연관된 서브-픽셀 전극들 간 더 큰 간격을 제공할 수 있다. 이 간격은 바람직하지 않은 가시적 아티팩트를 감소시켜, 디스플레이가 밀접하게 배열된 RGB 삼원소의 어레이로 보이며 밀접하게 배열된 RRRR 사원소, GGGG 사원소, BB 이원소의 어레이로 보이지 않게 할 수 있다.
본 발명에 따르는 디스플레이를 위한 또 다른 예시적 픽셀/서브-픽셀 레이아웃이 도 14에 도시된다. 어레이 구성으로 복수의 가둠 우물(920, 930, 940)을 형성하기 위해 가둠 구조물(904)은 기판 상에 제공될 수 있다. 유기 레이어의 가장자리가 가둠 우물(920, 930, 940)을 통해 가둠 우물을 둘러싸는 가둠 구조물(904)까지 뻗어 있으며, 가령, 각각의 우물(920, 930, 940) 내 OLED 물질의 레이어의 가장자리가 가둠 구조물(904)과 접촉할 수 있도록, 각각의 가둠 우물(920, 930, 940)은 OLED 물질의 실질적으로 연속인 레이어(빗금 친 영역)을 포함할 수 있다. 능동형 OLED 레이어는, 비-제한적 예를 들면, 홀 주입 물질, 홀 이송 물질, 전자 이송 물질, 전자 주입 물질, 홀 차단 물질, 및 유기 발광 물질 중 서로 다른 발광 파장 범위를 제공하는 하나 이상을 포함할 수 있다. 가령, 가둠 우물(920)은 적색 파장 범위 R 내 발광과 연관된 유기 발광 레이어를 포함할 수 있으며, 가둠 우물(930)은 녹색 파장 범위 G 내 발광과 연관된 유기 발광 레이어를 포함할 수 있고, 가둠 우물(940)은 청색 파장 범위 B 내 발광과 연관된 유기 발광 레이어를 포함할 수 있다. 유기 발광 레이어는 임의의 배열 및/또는 구성에서의 우물 내 배치될 수 있다. 가령, 가둠 우물(920, 930, 940) 내에 배치된 유기 발광 레이어가 각각의 행 내에서 교대하는 구성을 갖도록 배열된다. 인접한 행은 동일한 배열 또는 상이한 배열을 가질 수 있다. 또한, 가둠 우물(920, 930, 940)의 인접한 행들이 균일한 정렬을 갖도록 도시되지만, 대안적으로, 가둠 우물(930, 940)의 인접한 행들이 불균일한 정렬, 가령, 오프셋 배열을 가질 수 있다. 또한, 교대 패턴에서 가둠 우물(920 및 930)이 반전될 수 있다.
각각의 우물이 수직 방향으로 기다랗도록 각각의 우물(920, 930, 940)의 형태는 직사각형을 가질 수 있다. 우물(920, 930, 940)은 기다란 수직 방향으로 대략적으로 동일한 치수를 가질 수 있다. 또한, 우물(920, 930, 940)은 대략적으로 동일한 폭을 가질 수 있다. 그러나 청색 유기 발광 레이어와 연관된 전체 우물(940)은 단일 서브-픽셀 및 따라서 픽셀과 상관되며, 적색 및 녹색 유기 발광 레이어와 연관된 우물(920, 930)이 복수의 서브-픽셀 및 따라서 복수의 픽셀과 상관될 수 있다. 가령, 각각의 전극이 서로 다른 픽셀의 서로 다른 서브-픽셀과 연관되도록, 가둠 우물(920, 930)은 복수의 전극을 포함할 수 있다. 도 14에 도시된 바와 같이, 우물(920)은 2개의 전극(926, 928)을 포함하고 2개의 서로 다른 픽셀(950, 951)과 연관된다.
서로 다른 개수의 전극(926, 928, 936, 938, 946)이 서로 다른 가둠 우물 내에 배치될 수 있다. 가령, 일부 가둠 우물(920, 930)이 복수의 전극(926, 928; 및 936, 938)을 포함하여, 동일한 가둠 우물 내에 배치된 전극을 선택적으로 어드레싱할 수 있도록 하지만, 서로 다른 픽셀 내 서로 다른 서브-픽셀에 대한 발광을 생성하지만, 그 밖의 다른 가둠 우물(940)이 하나의 전극(946)만 포함하여, 하나의 픽셀과 연관된 하나의 가둠 우물 내에 배치된 전극을 어드레싱할 수 있다. 대안적으로, 가둠 우물(940) 내에 배치된 전극의 개수는 그 밖의 다른 가둠 우물(920, 930)에 배치된 전극의 개수의 절반일 수 있다. 또한, 서로 다른 가둠 우물 내 전극들은 서로 다른 표면적을 가질 수 있다. 가령, 청색 파장 범위 내 발광과 연관된 전극이 적색 및/또는 녹색 파장 범위 내 발광과 연관된 전극보다 큰 표면적을 가질 수 있어서, 디스플레이(900)의 수명을 증가시키고 전력 소비를 감소시킬 수 있다.
픽셀(950, 951)은 가둠 우물 배열 및 대응하는 서브-픽셀 레이아웃을 기초로 형성될 수 있다. 픽셀(950, 951)의 전체 간격 또는 피치가 디스플레이의 해상도를 기초로 할 수 있다. 가령, 디스플레이 해상도가 높을수록, 피치가 더 작다. 또한, 인접한 픽셀은 서로 다른 픽셀 배열을 가질 수 있다. 가령, 도 14에 도시된 바와 같이, 픽셀(950)은 좌측에 위치하는 녹색 서브-픽셀 G, 중앙에 위치하는 청색 서브-픽셀 B, 우측에 위치하는 적색 서브-픽셀 R을 포함할 수 있다. 픽셀(951)은 좌측에 적색 서브-픽셀 R, 중앙에 청색 서브-픽셀 B, 및 우측에 녹색 서브-픽셀 G을 포함할 수 있다.
도 15는 OLED 디스플레이(1000)에 대한 픽셀 및 서브-픽셀 레이아웃의 예시적 실시예의 부분 평면도이다. 앞서 언급된 실시예들과 공통된 특징부가 기재되지 않는다(그러나 도 15에서 1000 시리즈로 유사한 라벨이 발견될 수 있다). 간결함을 위해, 차이가 설명될 것이다. 가둠 구조물(1004)은 복수의 우물(1020, 1030, 1040)을 형성하도록 구성될 수 있다. 우물(1020, 1030, 1040)이 균일한 행으로 정렬되도록 우물(1020, 1030, 1040)이 배열될 수 있으며, 여기서 적색 발광 및 녹색 발광과 연관된 우물(가령, 1020, 1030)이 단일 행 내에서 교대하고, 청색 발광과 연관된 우물(가령, 1040)이 단일 행 내에 있다. 또한, 균일한 열(column) 내에 우물(1020, 1030, 1040)이 정렬되도록, 우물(1020, 1030, 1040)이 구성되어, 우물(1020, 1040)의 열이 우물(1030, 1040)의 열과 교대할 수 있다. 가둠 우물(1030)이 교대 패턴이도록 가둠 우물(1020 및 1030)이 교대로 구성될 수 있다.
각각의 가둠 우물(1020, 1030, 1040)이 대략적으로 동일한 크기일 수 있다. 그러나, 각각의 우물(1020, 1030, 1040)과 연관된 전극의 개수가 상이할 수 있다. 가령, 도 15에 도시된 바와 같이, 적색 발광(1020)과 연관된 우물은 전극(1026, 1027, 1028, 1029)을 포함할 수 있고, 녹색 발광(1030)과 연관된 우물은 전극(1036, 1037, 1038, 1039)을 포함할 수 있으며, 청색 발광(1040)과 연관된 우물은 전극(1046, 1048)을 포함할 수 있다. 가둠 우물(1040) 내 전극이 수평 방향으로 이격되어 있도록 도시되지만, 전극은 수직 방향으로 이격되도록 배열될 수 있다.
전극(1026, 1027, 1028, 1029, 1036, 1037, 1038, 1039)이 도 15에 정사각형 형태를 갖고 전극(1046, 1048)이 직사각형을 갖도록 도시되지만, 임의의 형태, 가령, 원형, 꺽쇠형, 육각형, 비대칭형, 불규칙한 곡면 등을 갖는 전극이 본 발명의 범위 내로 고려되며, 단일 가둠 우물 내 복수의 서로 다른 형태의 전극이 구현될 수 있다. 또한, 서로 다른 가둠 우물은 서로 다른 형태의 전극을 가질 수 있다. 전극의 크기 및 형태가 전극들 간 거리 및 디스플레이의 전체 레이아웃에 영향을 미칠 수 있다. 가령, 형태가 상보적일 때, 인접한 전극들 간 전기적 절연을 여전히 유지하면서, 전극들은 더 가까이 이격될 수 있다. 또한, 전극들의 형태 및 간격이 생성되는 가시적 아티팩트의 정도에 영향을 미칠 수 있다. 가시적 아티팩트를 감소시키고 연속 이미지를 생성하기 위한 이미지 혼합(image blending)을 보강하기 위해 전극 형태가 선택될 수 있다.
점선으로 나타나는 픽셀(1050, 1051)이 가둠 우물 배열 및 대응하는 서브-픽셀 레이아웃을 기초로 형성될 수 있다. 픽셀(1050, 1051)의 전체 간격 또는 피치가 디스플레이의 해상도를 기초로 할 수 있다. 가령, 디스플레이 해상도가 높을수록, 피치가 더 작아진다. 또한, 픽셀이 비대칭적 형태를 갖도록 형성될 수 있다. 가령, 도 15에 도시된 바와 같이, 픽셀(1050, 1051)은 "L" 형상을 가질 수 있다.
도 16은 OLED 디스플레이(1100)에 대한 픽셀 및 서브-픽셀 레이아웃의 예시적 실시예의 부분 평면도를 도시한다. 앞서 언급된 예시적 실시예와 공통되는 특징부는 기재되지 않을 것이다(그러나 1100 시리즈를 갖는 유사한 라벨이 도 16에서 발견될 수 있다). 가둠 구조물(1104)은 복수의 열(C1, C2, C3, C4)로 복수의 가둠 우물(1120, 1130, 1140)을 형성하도록 구성될 수 있다. 열(C1, C2, C3, C4)이 엇갈린 배열(staggered arrangement)을 생성하도록 배열될 수 있다. 가령, 열(C1, 및 C3) 내 가둠 우물들은 열(C2 및 C4)로부터 오프셋되어, 균일한 열 배열을 유지하면서 엇갈린 행 배열을 생성할 수 있다. 픽셀(1150, 1151)은 가둠 우물 배열의 피치를 기초로 형성될 수 있다. 가둠 우물 배열의 피치가 디스플레이의 해상도를 기초로 할 수 있다. 가령, 피치가 작을수록, 디스플레이 해상도가 높다. 또한, 픽셀은 비대칭 형태를 갖도록 형성될 수 있다. 가령, 도 16에 점선으로 도시된 바와 같이, 픽셀(1150, 1151)은 불균일한 형태를 가질 수 있다.
도 17은 OLED 디스플레이(1200)에 대한 픽셀 및 서브-픽셀 레이아웃의 예시적 실시예의 부분 평면도이다. 앞서 언급된 실시예와 공통되는 특징부가 기재되지 않는다(그러나 1200 시리즈를 갖는 유사한 라벨이 도 17에서 발견될 수 있다). 도 17에 도시된 바와 같이, 가둠 구조물(1204)은 복수의 가둠 우물(1220, 1230, 1240)을 형성하도록 구성될 수 있다. 각각의 가둠 우물(1220, 1230, 1240)이 서로 다른 면적을 가질 수 있다. 가령, 적색 발광 R과 연관된 우물(1220)은 녹색 발광 G과 연관된 우물(1230)보다 넓은 면적을 가질 수 있다. 또한, 가둠 우물(1220, 1230, 1240)은 서로 다른 개수의 픽셀과 연관될 수 있다. 가령, 가둠 우물(1220)은 픽셀(1251, 1252, 1254, 1256)과 연관될 수 있고 가둠 우물(1230, 1240)은 픽셀(1251, 1252)과 연관될 수 있다. 우물(1220, 1230, 1240)은 균일한 행(R1, R2, R3, R4, R5)으로 구성될 수 있다. 행(R2, R3, 및 R5)은 청색 발광 우물(1240)과 연관될 수 있고 행(R1 및 R4)은 교대하는 적색 발광 우물(1220)과 녹색 발광 우물(1230)과 연계될 수 있다. 가둠 구조물(1204)은 다양한 치수(D1, D2, D3, D4)를 가질 수 있다. 가령, D1은 D2, D3, 또는 D4보다 클 수 있고, D2는 D1, D3, 또는 D4보다 작을 수 있으며, D3은 D4와 대략 동일할 수 있다.
도 18은 OLED 디스플레이(1300)에 대한 픽셀 및 서브-픽셀 레이아웃의 예시적 실시예의 부분 평면도를 도시한다. 앞서 언급된 실시예, 가령, 도 17의 실시예와 공통되는 특징부가 기재되지 않는다(그러나 1300 시리즈를 갖는 유사한 라벨이 도 18에서 발견될 수 있다). 가둠 구조물(1304)은 복수의 가둠 우물(1320, 1330, 1340)을 형성하도록 구성될 수 있다. 적색 발광과 연관된 우물(1320) 및 녹색 발광과 연관된 우물(1330)이 청색 발광과 연관된 우물(1340)과 하나의 행 내에서 교대되도록 우물(1320, 1330, 1340)이 배열될 수 있다.
다양한 픽셀 및 서브-픽셀 레이아웃이 앞서 기재되지만, 예시적 실시예는 기재된 바와 같이 복수의 픽셀에 걸쳐 있는 가둠 우물의 형태, 배열, 및/또는 구성을 어떠한 식으로도 제한하지 않는다. 대신, 본 발명과 연관된 가둠 우물은 잉크젯 프린팅 제조 방법과 조합하여 플렉서블 픽셀 레이아웃 배열이 선택될 수 있게 한다.
잉크젯 프린팅을 이용해 고해상도 OLED 디스플레이를 가능하게 할 수 있는 다양한 픽셀 레이아웃이 고려된다. 가령, 도 19에 도시된 바와 같이, 픽셀(1450)이 적색 발광 R과 연관된 가둠 우물(1420), 녹색 발광 G와 연관된 가둠 우물(1430), 및 청색 발광 B과 연관된 가둠 우물(1440)을 포함할 수 있도록, 가둠 구조물(1404)이 육각형 패턴을 생성할 수 있다. 피치, 가둠 우물의 형태, 가둠 우물을 서로 가깝게 밀집시킬 수 있는 능력으로 인해, 잉크젯 프린팅을 이용해 고해상도를 갖는 OLED가 생성될 수 있다.
본 발명의 예시적 실시예에 따르는 다양한 양태를 이용하여, 증가된 필 팩터를 갖는 고해상도 OLED 디스플레이를 획득할 때 일부 예시적 치수 및 파라미터가 유용할 수 있다. 표 1-3은 326ppi의 해상도를 갖는 OLED 디스플레이와 연관된 본 발명의 예시적 실시예에 따르는 예상되는 비제한적인 예시와 종래의 치수 및 파라미터를 포함하며, 여기서 표 1은 적색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술하고, 표 2는 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술하며 표 3은 청색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술한다. 표 4-6은 440ppi의 해상도를 갖는 디스플레이와 연관된 종래의 치수 및 파라미터와 본 발명의 예시적 실시예에 따르는 예상되는 비제한적 예시를 포함하며, 여기서, 표 4는 적색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술한다. 표 5는 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술하고 표 6은 청색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술한다.
| 326 ppi의 해상도를 가진 디스플레이어서의 적색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 가둠 우물의 면적(㎛2) |
| 종래의 서브-픽셀 | 65.9 | 10.5 | 690.7 |
| 도 3a, 3b에 도시된 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 31.5 | 31.5 | 989.5 |
| 픽셀 형성 레이어를 가진 종래의 서브-픽셀 | 59.9 | 9.0 | 537.9 |
| 도 5a, 5b에 도시된 형성 레이어를 가진 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 28.5 | 28.5 | 809.8 |
| 326 ppi의 해상도를 가진 디스플레이어서의 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 가둠 우물의 면적(㎛2) |
| 종래의 서브-픽셀 | 65.9 | 10.5 | 690.7 |
| 도 3a, 3b에 도시된 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 31.5 | 31.5 | 989.5 |
| 픽셀 형성 레이어를 가진 종래의 서브-픽셀 | 59.9 | 9.0 | 537.9 |
| 도 5a, 5b에 도시된 형성 레이어를 가진 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 28.5 | 28.5 | 809.8 |
| 326 ppi의 해상도를 가진 디스플레이어서의 청색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 가둠 우물의 면적(㎛2) |
| 종래의 서브-픽셀 | 65.9 | 21.0 | 1381.4 |
| 도 3a, 3b에 도시된 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 30.0 | 65.9 | 1979.1 |
| 픽셀 형성 레이어를 가진 종래의 서브-픽셀 | 59.9 | 18.0 | 1075.9 |
| 도 5a, 5b에 도시된 형성 레이어를 가진 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 27.0 | 59.9 | 1619.6 |
| 440 ppi의 해상도를 가진 디스플레이어서의 적색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 가둠 우물의 면적(㎛2) |
| 종래의 서브-픽셀 | 45.7 | 5.4 | 248.4 |
| 도 3a, 3b에 도시된 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 21.4 | 21.4 | 456.4 |
| 픽셀 형성 레이어를 가진 종래의 서브-픽셀 | 39.7 | 3.9 | 159.2 |
| 도 5a, 5b에 도시된 형성 레이어를 가진 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 18.4 | 18.4 | 337.2 |
| 440 ppi의 해상도를 가진 디스플레이어서의 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 가둠 우물의 면적(㎛2) |
| 종래의 서브-픽셀 | 45.7 | 5.4 | 248.4 |
| 도 3a, 3b에 도시된 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 21.4 | 21.4 | 456.4 |
| 픽셀 형성 레이어를 가진 종래의 서브-픽셀 | 39.7 | 3.9 | 156.2 |
| 도 5a, 5b에 도시된 형성 레이어를 가진 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 18.4 | 18.4 | 337.2 |
| 440 ppi의 해상도를 가진 디스플레이어서의 청색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 가둠 우물의 면적(㎛2) |
| 종래의 서브-픽셀 | 45.7 | 10.9 | 496.8 |
| 도 3a, 3b에 도시된 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 20.0 | 45.7 | 912.8 |
| 픽셀 형성 레이어를 가진 종래의 서브-픽셀 | 39.7 | 7.9 | 312.4 |
| 도 5a, 5b에 도시된 형성 레이어를 가진 가둠 구조물과 연관된 서브-픽셀 | 17.0 | 39.7 | 674.4 |
표 7은 종래의 치수 및 파라미터뿐 아니라 326ppi의 해상도를 갖는 디스플레이 내 픽셀과 연관된 본 발명의 예시적 실시예에 따르는 예측적 비제한적 예시를 포함하며, 여기서 픽셀은 적색 서브-픽셀, 녹색 서브-픽셀, 및 녹색 서브-픽셀을 포함한다.
| 326 ppi의 해상도를 가진 디스플레이 | 픽셀의 활성 영역(㎛2) | 픽셀의 전체 영역(㎛) | 필 팩터* |
| 종래의 가둠 구조물 | 2762.7 | 6070.6 | 46% |
| 도 3a, 3b에 도시된 가둠 구조물 | 3958.2 | 6070.6 | 65% |
| 픽셀 형성 레이어를 가진 종래의 가둠 구조물 | 2151.8 | 6070.6 | 35% |
| 도 5a,5b에 도시된 형성 레이어를 가진 가둠 구조물 | 3239.2 | 6070.6 | 53% |
*(활성 영역/전체 영역) 최근접 퍼센티지 포인트로 반올림
도 7에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따르는 다양한 예시적 실시예가 종래의 가둠 구조물에 대한 필 팩터 개선을 달성할 수 있음이 고려된다. 가령, 도 3a 및 3b에 도시된 가둠 구조물을 고려하는 필 팩터가 종래의 구조물 위에 약 43%만큼 필 팩터를 증가시킬 수 있으며, 이로써 65%의 총 필 팩터를 얻을 수 있다. 또 다른 실시예에서, 도 5a 및 5b에 도시된 가둠 구조물을 고려하는 디스플레이에 대한 필 팩터가 종래의 구조물에 비해 약 51%만큼 필 팩터를 개선하여 53%의 전체 필 팩터를 얻을 수 있다.
도 8은 종래의 치수 및 파라미터뿐 아니라 440ppi의 해상도를 갖는 디스플레이 내 픽셀과 연관된 본 발명의 예시적 실시예에 따르는 예측적 비제한적 예시를 포함하며, 여기서 픽셀은 적색 서브-픽셀, 녹색 서브-픽셀, 및 녹색 서브-픽셀을 포함한다.
| 440 ppi의 해상도를 가진 디스플레이 | 픽셀의 활성 영역(㎛2) | 픽셀의 전체 영역(㎛) | 필 팩터* |
| 종래의 가둠 구조물 | 993.5 | 3332.4 | 30% |
| 도 3a, 3b에 도시된 가둠 구조물 | 1825.6 | 3332.4 | 55% |
| 픽셀 형성 레이어를 가진 종래의 가둠 구조물 | 624.8 | 3332.4 | 19% |
| 도 5a,5b에 도시된 형성 레이어를 가진 가둠 구조물 | 1348.9 | 3332.4 | 40% |
*(활성 영역/전체 영역) 최근접 퍼센티지 포인트로 반올림
도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르는 다양한 예시적 실시예가 종래의 가둠 구조물에 걸친 필 팩터 개선을 이뤄질 수 있음이 고려된다. 가령, 도 3a 및 3b에 도시된 가둠 구조물을 고려하는 디스플레이에 대한 필 팩터가 종래의 구조물을 약 84%만큼 필 팩터를 개선하여 55%의 총 필 팩터를 이룰 수 있다. 또 다른 실시예에서, 도 5a 및 5b에 도시된 가둠 구조물을 고려하는 디스플레이에 대한 필 팩터는 필 팩터를 종래 구조물에 비해 약 116%만큼 개선하여 40%의 총 필 팩터를 얻을 수 있다.
상기 언급된 바와 같이, 다양한 인자들 OLED 디스플레이 잉크젯 기반의 제조 기술에서 유기 발광 레이어의 증착 정밀도와 균일성에 영향을 줄 수 있다. 이러한 인자는, 예를 들어, OLED 레이어 물질과 하나 이상의 캐리어 유체의 조합에 포함된 OLED 레이어 물질(가령, 능동형 OLED 물질) 잉크 및 방울이 증착되는 속도와 연관된 디스플레이 해상도, 방울 크기, 타겟 방울 면적, 방울 위치 오차, 유체 속성(가령, 표면 장력, 점도, 끓는점)을 포함한다.
다양한 예시적인 실시예에서, 각각의 픽셀이나 서브-픽셀을 둘러싸는 가둠 구조물(가령, 뱅크)에 의해 형성된 복수의 가둠 우물을 제공하는 대신에, 가둠 영역을 형성하기 위해 구별되는 표면 에너지(가령, 액체-친화 영역 및 액체-거부 영역)의 패턴화된 영역을 사용하는 것은 간단한 제조 공정을 제공한다. 뱅크 구조물의 사용은 패턴화된 뱅크 레이어를 증착하기 위한 추가적인 처리 단계를 포함할 수 있다. 또한, 뱅크 구조물을 사용할 때, 모든 서브-픽셀에 공통의 각각의 서브-픽셀내의 다양한 장치 레이어를 증착하기 위해, 가령, 잉크젯과 같은 패턴화된 증착 방법의 사용이 종종 필요하다. 예를 들어, 다양한 실시예에서, RGB OLED 구조물은, 서로 다른 적색, 녹색 및 청색 EML 코팅물을 해당 컬러 서브-픽셀에 제공하기 이전에, 적색, 녹색 및 청색 서브-픽셀의 각각에 공통의 HIL 및 공통의 HTL 코팅물을 가질 수 있다. 뱅크 구조물이 사용될 때, 이들 HIT 및 HTL 코팅물은 각각의 우물 내로 패턴화 방식으로 잉크젯을 사용하여 증착된다. 그러나, 이러한 예시에서, 이들 HIL 및 HTL 레이어를 모든 픽셀 상에 증착하기 위해 균일한, 블랭킷 코팅 기술을 사용하고, 그리고 나서, EML을 위한 패턴방식의 증착 기술을 사용하여 제조 공정을 단순화시킬 수 있다. 뱅크 구조물의 존재는 균일한 블랭킷 코팅물의 증착에 있어 어려움을 증가시킬 수 있다. 상기에서 논의된 바와 같이, 다양한 구조물 위의 심지어 픽셀 전극의 비교적 작은 클러스터를 포함하는 영역 위에서의 코팅물은 다양한 해결과제가 존재한다. 가둠 우물을 형성하기 위한 뱅크 구조물을 제거하고, 대신에, 블랭킷 증착 기술을 사용하여 HIL 및 HTL 코팅물을 제공하고 나서, 서브-픽셀 컬러 레이어를 형성하기 위해 사용되는 EML 잉크를 가두기 위하여, HTL의 상면 상의 액체-친황 영역 및 액체-거부 영역을 형성하는 화학적 가둠 메카니즘을 사용함에 의하여, 제조 공정은 간략화될 수 있다.
이러한 액체-친화 영역 및 액체-거부 영역은 뱅크 구조물과 유사한 방식으로, OLED 방사 잉크 방울 위치 오차에 대한 보상을 지원할 수 있는데, OLED 발광 물질의 증착 동안에 허용 가능한 드랍 위치의 더 큰 마진을 허용하여서, 액체 친화 영역과 액체 거부 영역간의 경계에 부분적으로 떨어질 수 있는 임의의 잉크 방울은, 제조 공정을 좀 더 강건하게 할 수 있는 건조 이전에, 자연적으로 액체-거부 영역에서 거부되고, 액체-친화 영역으로 이끌려질 수 있다. 게다가, 이하에 좀 더 상세히 설명되는 바와 같이, 액체-친화 영역 마진은 잠재적인 드랍 위치 부정확성을 더욱 수용하는데 사용될 수 있다. 상기에서 논의된 바와 같이, 종래 프린팅 기술에서 사용되는 높은 정확도 잉크젯 헤드는 약 1 피코리터(pL) 내지 약 50 피코리터(pL)에 걸친 방울 크기를 생성할 수 있는데, 약 10 pL는 높은 정확도 잉크젯 프린팅 적용 분야를 위해 비교적 흔한 크기이다. 종래의 잉크젯 프린팅 시스템의 방울 위치 정확도는 대략 ±10㎛이다.
다양한 예시적인 실시예에서, 홀 전도 레이어는 액체-친화 영역과 액체-거부 영역을 생성하도록 구성될 수 있어서, 발광 레이어 가둠 영역은 액체 친화 영역에 해당하고, 액체-거부 영역은 가두기 위한 경계로서의 역할을 하여, 증착된 물질의 이주를 막는다. 발광 레이어 가둠 영역은 유기 발광 물질 및 그 밖의 다른 능동형 OLED 물질의 증착과 연관된 건조 영향을 고려하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 서브-픽셀의 활성 영역 내의 불균일 에지는 바람직하지 않은 가시적인 아티팩트를 생성할 수 있다. 발광 레이어 가둠 영역이 형성되어서, 임의의 불균일 에지가 서브-픽셀의 활영 영역 외부에 있을 때, 이들은 에지 건조 영향을 고려할 수 있다. 또한, 발광 레이어 가둠 영역은 유기 발광 물질 및 각각의 물질과 관련된 건조 영향에 기초하여 개별적으로 구성될 수 있다. 게다가, 추가적인 물질 및 제조 단계(가령, 가둠 구조물의 형성)는 각각의 서브-픽셀과 연관된 가둠 우물을 형성하기 위해 추가적인 가둠 구조물을 제공하도록 요구되지 않을 수 있다. 픽셀 형성 레이어와 같은 추가적인 형성 레이어는 일부 경우에 생략될 수 있는데, 왜냐하면, 발광 레이어 가둠 영역 및 유기 발광 레이어의 이후의 증착은 서브-픽셀 및 픽셀에 대한 적절한 형성을 제공하기 때문이다. 그러나, 기술 분야에 있어서의 당업자는 픽셀 형성 레이어가 상이한 표면 에너지의 영역에 의해 형성된 가둠 영역을 사용하는 개시된 실시예와 함께 사용될 수 있다는 것을 인식할 것이다.
본원에서 기술되는 다양한 예시적인 실시예에 따르면, 제조 기술은 현저한 유연성을 OLED 제조 공정에 도입하여 실행될 수 있다. 예를 들어, 픽셀 레이아웃 및 서브-픽셀 배열은, 액체-친화 영역 및 액체-거부 영역을 형성함에 의하여, 이들 레이아웃을 형성하는데 있어서 달성되는 유연성과 관련된 형상, 배열 및 형태를 포함할 수 있다. 일반적으로, OLED 디스플레이 상의 전기 회로망은 능동형 OLED 레이어로부터 고립되는데, 회로망은 가둠 우물 외부에 있고, 개별적으로 서브-픽셀 전극에 어드레스한다. 그러나, 본원에서 기술되는 예시적인 실시예에 따르면, 능동형 OLED 레이어는 기판의 활성 영역 내에서 전기 회로망 위에 증착되어서, 각각의 픽셀의 필 팩터를 증가시킴은 물론, 구동 전자 장치의 전기적 성능을 개선시킬 수 있다.
디스플레이의 활성 영역 내의 픽셀/서브-픽셀 레벨에서 가둠 우물을 형성하기 위한 가둠 구조물이 제거될 수 있지만, 상이한 표면 에너지의 표면 영역을 통해 가둠 영역을 형성하는 예시적인 실시예에서, 그럼에도 불구하고, 가둠 구조물은 기판의 비활성 부분상에 배치되어서, 기판의 전체 활성 영역을 둘러싸는 하나의 활성-영역 디스플레이 우물을 형성한다. 예를 들어, 가둠 구조물은 디스플레이의 일부를 생성하는 이미지 내의 픽셀과 연관된 전극의 전부를 둘러싸기 위해 배치될 수 있다. 가둠 구조물을 활성 픽셀 영역 외부에 위치시킴에 의하여, 능동형 OLED 레이어의 에지에서, 가둠 구조물과 접촉하거나 근접에 의한 불균일성은 활성 디스플레이 영역 외부에 가두어질 수 있어서, 바람직하지 않은 가시적 아티팩트를 최소로하고, 제조 동안에 사용되는 물질은, 이러한 물질이 디스플레이의 비활성 영역으로 이주하는 것을 방지함에 의해 감소시킬 수 있다. 또한, 이러한 형태는 제조 동안의 정밀도 요구사항을 줄일 수 있다. 예를 들어, 특정 및 정밀도 있게 윤곽이 있는 영역으로의 활성 유기 물질의 증착의 정확도는 더 이상 능동형 OLED 레이어의 증착에 있어 중요하지 않다. 홀 주입 레이어 및/또는 홀 이송 레이어와 같이 홀 전도 레이어를 형성하기 위해 방울이 증착될 때, 하나의 활성-영역 디스플레이 우물 내에 증착된 모든 방울은 합쳐저서 실질적으로 균일한 두께를 가진 연속적인 레이어를 생성할 수 있다.
게다가, OLED 디스플레이 기판의 비활성 부분 내의 단일 가둠 구조물을 실행하여 활성-영역 디스플레이 우물을 형성하는 것은 OLED 디스플레이의 제조의 용이성을 개선시킬 수 있다. 예를 들어, 잉크젯 노즐은 능동형 OLED 레이어를 고해상도 디스플레이 내에 증착시키는데 사용될 수 있고, 임의의 방울 부피 변화는, 가둠 영역 내의 단일의 연속적인 홀 전도성 필름을 함께 형성하기 위한 드랍의 내부 혼합으로부터 발생하는 평균화 때문에, 전반적인 디스플레이 품질 증착에 영향을 주지 않을 것이다. 예를 들어, 홀 주입 레이어와 홀 이송 레이어 중 적어도 하나와 같은 홀 전도 레이어는 기판의 활성 영역 내의 활성 영역 디스플레이 우물 내의 모든 전극 위에 증착될 수 있다. 모든 액체 병합의 드랍 때문에, 증착이 용이하고, 증가된 균일성을 가질 수 있는데, 왜냐하면, 드랍 부피에서의 변화는 중요하지 않고, 결과적인 레이어에 영향을 주지 않기 때문이다. 또한, 디스플레이의 비활성 부분에서 능동형 OLED 레이어를 제거하기 위한 추가적인 제조 단계가 없어서, 전반적인 제조 공정을 감소시킨다.
본원에서 기술되는 예시적인 실시예에 따르면, 상이한 표면 에너지의 영역에 의해 형성되는 가둠 영역을 사용하는 실시예는 활성 영역 면적을 증가시키는 픽셀 배열을 포함할 수도 있다. 예를 들어, 픽셀/서브-픽셀 레벨에서 가둠 우물을 형성하기 위한 상기 가둠 구조물과 같이, 발광 레이어 가둠 영역(상이한 표면 에너지의 표면 영역에 의해 형성됨)은 각각의 픽셀의 비활성 부분이 감소된 상이한 픽셀과 연관된 복수의 서브-픽셀에 걸쳐있는 영역을 포함하도록 형성될 수 있다. 예를 들어, 발광 레이어 가둠 영역은 복수의 개별적으로 어드레스된 서브-픽셀 전극 위헤 형성될 수 있는데, 각각의 서브-픽셀 전극은 다양한 픽셀과 연관될 수 있다. 형성된 발광 레이어 가둠 영역의 면적을 증가시킴에 의하여, 필 팩터는, 전체 픽셀 면적에 대한 활성 영역의 비율이 증가되므로 최대로 될 수 있다. 필 팩터에서의 이러한 증가를 달성하는 것은 더 작은 크기의 디스플레이에서 고해상도를 가능할 뿐만아니라, 디스플레이의 수명도 개선시킬 수 있다.
또한, 도 2 및 12 - 19를 참조하여 기술된 다양한 픽셀 배열에 따라 상기 기술된 바와 같이, 이러한 픽셀 레이아웃 배열과 함께 발광 레이어 가둠 영역을 사용하는 실시예는 장치의 수명을 연장시킬 수 있다. 예를 들어, 서브-픽셀 전극 크기는 대응되는 유기 발광 레이어 파장 발산에 기초할 수 있다. 예를 들어, 청색 발광과 연관된 서브-픽셀 전극은 적색이나 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀 전극보다 더 클 수 있다. OLED 장치 내의 청색 발광과 연관된 유기 레이어는 적색이나 녹색 발광과 연관된 유기 레이어에 비해 짧은 수명을 가질 수 있다. 또한, 더 낮은 밝기 레벨을 달성하기 위해 OLED 장치를 작동시키는 것은 장치의 수명을 증가시킨다. 적색 및 녹색 서브-픽셀에 대한 청색 서브-픽셀의 발광 면적을 증가시킴에 의해, 뿐만 아니라, 적색 및 녹색 서브-픽셀을 청색 서브-픽셀보다 더 높은 밝기를 달성하기 위해 구동하면서, 상대적 밝기를 달성하기 위해 청색 서브-픽셀을 구동하는 것은, 디스플레이의 적절하고 전반적인 컬러 균형을 제공하면서, 상이한 컬러의 서브-픽셀의 수명의 더 나은 균형을 제공할 수 있다. 이러한 수명의 개선된 균형은 청색 픽셀의 수명을 연장시킴에 의해 디스플레이의 전반적인 수명을 개선할 수 있다.
기술 분야에 있어서의 당업자는 청색이외에 상이한 서브-픽셀의 수명을 연장시키는 대안적인 형태가 가능하다는 것을 인식할 것이다. 예를 들어, 적색 서브-픽셀은 적색 서브-픽셀의 수명을 연장시키기 위해, 다른 서브-픽셀 보다 더 큰 면적을 가질 수 있다. 대안적으로, 녹색 서브-픽셀은 녹색 서브-픽셀의 수명을 연장시키기 위해, 다른 서브-픽셀 보다 더 큰 면적을 가질 수 있다. 또한, 이러한 형태는 가둠 우물을 형성하기 위한 가둠 구조물은 물론, 가둠 영역을 형성하기 위한 액체-친화 영역 및 액체 거부 영역을 사용하는 OLED 디스플레이를 포함하는 OLED 디스플레이에 적용될 수 있다.
이제 도 22 - 39를 참조하면, OLED 디스플레이 및 OLED 디스플레이(1900)를 제조하기 위한 예시적인 단계가 도시된다. 제조 단계가 디스플레이(1900)와 관련하여 논의되지만, 본원에서 기술되는 어떤 및/또는 모든 단계는 가령, 도 20 및 21을 참조하여 기술된 OLED 디스플레이(1500, 1600)와 같은 다른 OLED 디스플레이를 제조하는데에도 사용될 수 있다. OLED 디스플레이(1900)는, 도 22의 평면도에 도시되고, 도 23에 도시된 도 22의 라인 23-23dmf 따른 단면도에 도시된 바와 같이, 기판(1902), 가둠 구조물(1904) 및 복수의 전극(1906)을 포함한다.
기판(1902)은 전극(1906)(도 22, 23에서 빗금에 의해 도시된 경계)을 포함하는 영역에 의해 형성된 활성 영역(1908) 및 비활성 영역(1910)을 포함할 수 있다. 기판(1902)은 강성 또는 유연한 거의 평면 구조일 수 있고, 하나 이상의 물질의 하나 이상의 레이어를 포함할 수 있다. 기판(1902)은 예를 들어, 유리, 폴리머, 금속, 세라믹, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
가둠 구조물(1904)(가령, 뱅크)은 기판(1902)상에 배치되어서, 가둠 구조물(1904)이 단일의 활성-영역 디스플레이 우물(W)을 형성할 수 있다. 가둠 구조물(1904)은 다양한 물질, 가령, 포토레지스트 물질, 가령, 광영상화 가능 폴리머(photoimageable polymer) 또는 감광성 실리콘 유전체로 형성될 수 있다. 가둠 구조물(1904)은 공정 후 OLED 잉크의 부식 작용에 실질적으로 비활성이거나, 낮은 가스방출(outgassing)을 갖거나, 가둠 우물 가장자리에서 얕은(가령, < 25도) 측벽 기울기를 갖거나, 및/또는 가둠 우물 내에 증착될 OLED 잉크 중 하나 이상에 대한 혐성(phobicity)을 가질 수 있는 하나 이상의 유기 성분 포함할 수 있으며, 원하는 적용예를 기초로 선택될 수 있다. 적합한 물질의 비-제한적 예를 들면, PMMA(폴리-메틸메타크릴레이트), PMGI(폴리-메틸글루타르이미드), DNQ-노볼락(Novolac)(서로 다른 페놀 포름알데히드 수지와 화학적 디아존아피토퀴논(diazonaphithoquinone)과의 결합), SU-8 레지스트(MicroChem Corp.에 의해 제조되는 널리 사용되는 상용화된 에폭시계 레지스트), 종래의 포토레지스트의 플루오르화 변형 및/또는 본 명세서에 나열된 앞서 언급된 물질들 중 임의의 것, 및 유기-실리콘류 레지스트가 있으며, 이들 각각은 서로 추가로 결합되거나 하나 이상의 첨가제와 결합되어, 가둠 구조물(1904)의 원하는 특성을 추가로 튜닝할 수 있다.
또한, 가둠 구조물(1904)은 (적절한 지오메트리 및 표면 화학을 통해) 활성 OLED 물질의 로딩 및 건조 공정을 보조하여, 가둠 구조물(1904)에 의해 경계지어지는 우물(W)의 영역 내에서 연속이고 균일한 레이어를 형성할 수 있다. 가둠 구조물(1904)은 단일의 구조물일 수 있고, 또는 가둠 구조물(1904)을 형성하는 복수의 별도의 구조물에 포함될 수 있다. 가둠 구조물(1904)은 임의의 횡단면을 가질 수 있다. 또한, 가둠 구조물(1904)이 도 22에 도시되고, 기판(1902)에 수직인 측면 에지를 가지지만, 가둠 구조물(1904)은 기판(1902)의 표면에 대해 각이지거나, 및/또는 둥근 에지를 대안적으로 가질 수 있다.
가둠 구조물(1904)은 다양한 제조 방법, 가령, 잉크젯 프린팅, 노즐 프린팅, 슬릿 코팅, 스핀 코팅, 분사 코팅, 스크린 프린팅, 진공 열 증발증착, 스퍼터링(또는 그 밖의 다른 물리적 기상 증착 방법), 화학 기상 증착 등, 및 임의의 것을 이용해 형성될 수 있다. 증착 기법 동안 달리 얻어지지 않는 임의의 추가 패터닝이 쉐도우 마스킹(shadow masking), 하나 이상의 포토리소그래피 단계(가령, 포토레지스트 코팅, 노광, 현상, 및 박리(stripping)), 습식 에칭, 건식 에칭, 리프트-오프 공정 등에 의해 얻어질 수 있다.
활성-영역 디스플레이 우물(W)을 형성하는 가둠 구조물(1904)은 기판(1902)상에 증착된 활성 OLED 물질을 가둘 수 있다. 예를 들어, 가둠 구조물(1904)은 기판(1902)의 비활성 부분(1910)상에 배치되고, 활성 영역(1908)을 둘러쌀 수 있다. 다양한 예시적인 실시예에서, 가령, 도 22 - 23에 도시된 바와 같이, 가둠 구조물(1904)은 거리 D만큼 활성 영역 외부에 위치될 수 있다. D는 에지 건조 효과에 기초하여 결정될 수 있고, 기판(1902)의 활성 영역(1908) 내의 바람직하지 않은 가시적인 아티팩트를 최소로 하기 위해 선택될 수 있다. 예를 들어, 가둠 구조물(1904)은 임의의 전극(1906)으로부터 충분히 떨어져 위치되어서, 임의의 에지 건조 불균일성이 픽셀로부터 관측된 발광에 기여하는 것을 막고, 제조 공정 동안에, 우물 내의 활성 OLED 물질을 증착하는데 필요한 로딩 정밀도를 감소시킬 수 있다. 동시에, 디스플레이 영역 외부의 비활성 영역의 너비를 최소화하고, 디스플레이로의 외부 전기적 연결을 하기 위해 제공된 영역 내의 너비를 최소화하는 것이 바람직하다. 비활성 영역의 너비를 최소화하는 것은 단일 기판 시트상에 복수의 디스플레이의 더 가까운 패키징을 제공하여서, 제조 효율성을 증가시킨다. 또한, 더 작은 완성된 디스플레이 제품에서의 낭비되는 공간을 줄임으로서, 더 바람직하게 하는 디스플레이의 베젤 외부의 너비를 줄일 수 있다.
예시적인 실시예에서, D는 약 10㎛ 내지 약 500㎛의 범위, 가령, D는 약 50㎛일 수 있다. 가둠 구조물(1904)는 약 10㎛ 내지 5mm의 범위인 너비(B)를 가질 수 있고, 여기서, B는 약 20㎛일 수 있다. 또한, 가둠 구조물(1904)은 약 0.3㎛ 내지 약 10㎛의 범위인 높이(T)를 가질 수 있고, 여기서, 높이는 약 1.5㎛일 수 있다.
복수의 전극(1906)이 활성 영역(1908) 내의 기판(1902)상에 제공되어서, 전극(1906)이 선택적으로 구동될 때, 광이 발산되어서 사용자에게 디스플레이되는 이미지를 생성할 수 있다. 전극(1906)은 픽셀 어레이를 형성하도록 배치되어서, 각각의 전극(1906)이 가령, 적색 발광과 연관된 서브-픽셀, 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀, 청색 발광과 연관된 서브-픽셀 등과 같인 서로 다른 서브-픽셀과 연관될 수 있다. 대안적으로, 각각의 전극(1906)은 적색 서브-픽셀, 녹색 서브-픽셀 및 청색 서브-픽셀을 포함하는 픽셀과 연관될 수 있다. 전극(1906)은 임의의 형상, 배열 및/또는 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 도 22에 도시된 바와 같이, 전극(1906)은 정사각형일 수 있다. 대안적으로, 전극(1906)은 직사각형, 원형, 꺽쇠형, 육각형, 비대칭형, 불규칙한 곡면형 또는 이들의 조합을 가질 수 있다. 전극(1906)은 상면이 실질적으로 평면이고, 기판의 주요 표면에 평행한 프로필을 가질 수 있는 반면, 전극의 측면 에지는 기판(1902)의 표면에 대해 수직 또는 각이지거나 및/또는 원형일 수 있다.
전극(1906)은 투명하거나 반사성일 수 있으며 전도성 물질, 가령, 금속, 혼합 금속, 합금, 금속 옥사이드, 혼합 옥사이드, 또는 이들의 결합물로 형성될 수 있다. 예를 들어, 다양한 예시적 실시예에서, 전극은 인듐-틴-옥사이드 망간 은, 또는 알루미늄으로 만들어질 수 있다.
전극(1906)은 임의의 제작 방법, 가령, 잉크젯 프린팅, 노즐 프린팅, 슬릿 코팅, 스핀 코팅, 진공 열 증발증착, 스퍼터링(또는 그 밖의 다른 물리 기상 증착 방법), 화학 기상 증착 등을 이용하여 형성될 수 있다. 쉐도우 마스킹, 포토리소그래피(포토레지스트 코팅, 노광, 현상, 및 박리), 습식 에칭, 건식 에칭, 리프트-오프 등을 이용함으로써, 증착 기법에 달리 포함되지 않는 임의의 추가 패터닝이 이뤄질 수 있다.
픽셀은 전극(1906)의 피치에 기초하여 형성될 수 있다. 전극의 피치는 디스플레이의 해상도에 기초할 수 있다. 예를 들어, 피치가 작을 수록, 디스플레이 해상도는 높아진다. 픽셀은 바람직하지 않은 가시적인 아티팩트를 감소시키고, 연속적인 이미지를 생성하기 위해 이미지 블렌딩을 향상시키기 위하여, 대칭이나 비대칭과 같은 임의의 유형의 배열을 가지도록 선택될 수 있다.
설명의 명료성 및 편의를 위해 생략되지만, 추가적인 전기 소자, 회로망 및/또는 전도성 부재가 기판(1902) 상에 배치될 수 있다. 전기 소자, 회로망 및/또는 전도성 부재는 비-제한적으로 예를 들자면, 인터커넥트, 버스 라인, 트랜지스터, 및 해당 분야의 통상의 기술자에게 친숙한 그 밖의 다른 회로를 포함할 수 있다. 전기 소자, 회로망 및/또는 전도성 부재는 각각의 전극(1906)에 결합되어서, 각각의 전극이 다른 전극의 선택적으로 어드레스되는 독립성일 수 있도록 한다. 가령, 박막 트랜지스터(TFT)(미도시)는, 가둠 구조물(1904) 및/또는 전극(1906)과 같은 임의의 다른 구조물을 증착하기 이전 및/또는 이후에 기판(1902)상에 형성될 수 있다. 이하에서 논의되는 바와 같이, 능동형 OLED 레이어는 기판(1902)의 활성 영역(1908) 내에 배치된 임의의 전기 소자, 회로망 및/또는 전도성 부재 위에 증착될 수 있다.
도 24에 도시된 바와 같이, 전극(1906) 및 TFT를 포함하는 그 밖의 다른 회로망(미도시)이 증착된 이후에, 제1 홀 전도성 물질(1911)은 가둠 구조물(1904)에 의해 형성된 활성0영역 디스플레이 우물(W) 내에 증착될 수 있다. 제1 홀 전도성 물질(1911)은 유기 발광 레이어 내로의 홀의 주입을 용이하게 하는 물질의 하나 이상의 레이어로서 증착될 수 있다. 예를 들어, 제1 홀 전도성 물질(1911)은 홀 주입 물질과 같은 단이 홀 전도성 물질의 레이어로서 증착될 수 있다. 대안적으로, 홀 전도성 물질(1911)은, 가령, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜: 폴리(스티렌술포네이트)(PEDOT:PSS)와 같은 적어도 하나의 홀 주입 물질로, 복수의 서로 다른 홀 전도성 물질로서 증착될 수 있다.
제 1 홀 전도성 물질(1911)은 잉크젯 프린팅을 사용하여 증착될 수 있다. 예를 들어, 잉크젯 노즐(1914)은 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 홀 전도성 물질을 포함하는 유체 조성의 복수의 방울(1916)을 안내할 수 있다. 기술 분야에서의 당업자는 단일 노즐이 도 24에 도시되지만, 복수의 노즐이 실행되어서 홀 전도성 물질의 복수의 방울을 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 동시에 증착이 실행될 수 있다는 것을 인식할 것이다.
제1 홀 전도성 물질(1911)은 캐리어 유체와 혼합되어서, 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 신뢰성있고, 균일한 로딩을 제공하도록 제제되는 잉크젯 조성을 형성할 수 있다. 제1 홀 전도성 물질(1911)을 로딩하기 위한 방울은 고속으로 잉크젯 헤드 노즐로부터 기판으로 전달될 수 있다. 제1 홀 전도성 레이어를 형성하는 방울(1916)은, 도 24에 도시된 바와 같이, 실질적으로 균일한 두께를 가진 연속적인 레이어를 생성하기 위해 병합하기 위하여, 모든 각각의 잉크젯 노즐로부터 우물(W) 내에 증착될 수 있다. 제1 홀 전도성 물질(1911)은 증착되어서, 가둠 구조물(1904)와 동일하거나 더 작은 높이도 사용될 수 있지만, 물질의 높이가 건조 및/또는 베이킹 이전의 가둠 구조물(1904)의 높이보다 더 클 수 있다.
도 25에 도시된 바와 같이, 홀 전도성 물질이 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 로딩된 이후에, 디스플레이(1900)는 제1 홀 전도성 레이어(1912)를 형성하기 위해 처리될 수 있다. 예를 들어, 디스플레이(1900)가 처리되어서, 임의의 캐리어 유체가 가령, 건조 과정을 통해서 제1 홀 전도성 물질(1911)로부터 증발되도록 할 수 있다. 공정은 열, 진공, 및/또는 주기 시간 동안에 주변 환경에 기판(1902)을 노출하는 것을 포함할 수 있다. 건조 이후에, 기판(1902)은 가령, 전반적인 공정을 위해 또는 증착된 필름의 품질에 유익한 필름 모폴로지에 화학 반응이나 변화를 도입하기 위한 증착된 필름 물질을 다루기 위하여, 상승된 온도에서 베이킹될 수 있다.
제1 홀 전도성 레이어(1912)는 전체 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에서 실질적으로 연속일 수 있어서, 레이어(1912)는 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내의 모든 표면 특징부(가령, 전극(1906), 회로망(미도시)등) 위에 배치되고, 레이어(1912)의 에지는 활성-영역 디스플레이 우물(W)을 둘러싸는 가둠 구조물(1904)과 접촉할 수 있다. 레이어(1912)가 평면인 상부를 가지도록 도시되지만, 홀 전도성 레이어(1912)는 대안적으로, 전극(1906) 및 임의의 회로망(미도시)와 같은 아래 놓인 표면 특징부의 토포그래피를 따를 수 있어서, 증착된 레이어가 표면 토포그래피를 따르는, 가령, 도 3 - 11의 예시적인 실시예에 대하여 상기 기술되는 방식과 유사한 방식으로 아래 놓인 표면 특징부와 연관된 비-평면 상부를 생성할 수 있다.
도 26에 도시된 바와 같이, 제2 홀 전도성 물질(1917)은 가둠 구조물(1904)에 의해 형성된 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에, 그리고 제1 홀 전도성 레이어(1912) 위에 증착될 수 있다. 제2 홀 전도성 물질(1917)은 N,N'-디-((1-나프틸)-N,N'-디페닐)-1,1'-비페닐)-4,4'-디아민(NPB)와 같은 홀 이송 물질을 포함할 수 있다.
제1 홀 전도성 물질(1911)과 같이, 제2 홀 전도성 물질(1917)은 잉크젯 프린팅을 사용하여 증착될 수 있다. 예를 들어, 잉크젯 노즐(1914)은 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 홀 전도성 물질을 포함하는 유체 조성의 복수의 방울(1920)을 안내할 수 있다. 기술 분야에서의 당업자는 하나의 노즐이 도 26에 도시되지만, 복수의 노즐이 실행되어서 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 동시에 홀 전도성 물질(1920)의 복수의 방울을 증착할 수 있다. 또한, 잉크젯 노즐(1914)은 제1 홀 전도성 물질(1911)을 증착하는데 사용되는 잉크젯 노즐과 동일하도록 도시되지만, 제2 홀 전도성 물질(1917)을 증착하는데 사용되는 잉크젯 노즐은 상이할 수 있다. 그러므로, 제2 홀 전도성 물질(1917)과 연관된 방울(1920)의 방울 부피는 제1 홀 전도성 물질(1916)의 방울 부피와 같거나 다를 수 있다.
제2 홀 전도성 물질(1917)은 캐리어 유체와 혼합되어, 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내의 신뢰성있고 균일한 로딩을 제공하도록 제제되는 잉크젯 조성을 형성할 수 있다. 제2 홀 전도성 물질(1917)을 로딩하기 위한 방울은 고속으로 잉크젯 헤드 노즐(1914)로부터 기판으로전달될 수 있다. 제2 홀 전도성 물질(1917)의 방울(1929)은 도 26에 도시된 바와 같이, 실질적으로 균일한 두께를 가지는 연속적인 레이어를 생성하기 위한 병합을 위해, 각각의 모든 잉크젯 노즐로부터 우물(W) 내에 증착될 수 있다. 제2 홀 전도성 물질(1917)은 증착될 수 있어서, 물질의 높이가 건조 및/또는 베이킹 이전에 가둠 구조물(1904)의 높이보다 더 클 수 있으나, 가둠 구조물(1904)과 동일하거나 더 작은 높이도 사용될 수 있다.
도 27에 도시된 바와 같이, 제2 홀 전도성 물질(1917)이 활성-영역 디스플레이 우물(W)내에 로딩된 이후에, 디스플레이(1900)는 처리되어서 제2 건조된 홀 전도성 레이어(1918)을 형성할 수 있다. 예를 들어, 디스플레이(1900)는 건조 공정을 통해, 제2 홀 전도성 물질(1917)로부터 임의의 캐리어 유체가 증발되도록 처리될 수 있다. 이 공정은 디스플레이를 일정 시간 주기 동안 열, 진공, 또는 대기 상태로 노출하는 것을 포함할 수 있다. 건조 이후에, 기판(1902)은 가령, 증착된 필림의 품질이나 전반적인 공정에 이로운 필름 모폴로지에 화학 반응 또는 변화를 도입하기 위한 증착된 물질(1917)을 처리하기 위하여 상승된 온도에서 베이킹될 수 있다.
제2 홀 전도성 레이어(1918)는 전체 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 실질적으로 연속적이어서, 레이어(1918)는 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 모든 표면 특징부(가령, 전극(206), 회로망(미도시), 제1 홀 전도성 레이어(1912)등) 위에 배치되고, 레이어(1918)의 에지는 활성-영역 디스플레이 우물(W)을 둘러싸는 가둠 구조물(1904)와 접촉할 수 있다.
도 28에 도시된 바와 같이, 제2 홀 전도성 레이어(1918)는 발광 레이어 가둠 영역을 형성하기 위한 제2 홀 전도성 레이어(1918)의 부분의 표면 에너지나 친화성을 수정하기 위하여 처리될 수 있다. 예를 들어, 반응 표면-활성 물질이 레이어(1918)의 표면에 가해질 수 있다. 예시적인 실시예에서, 반응 표면-활성 물질은 마스크(1922)를 통해 방사선원(1923)으로부터의 방사선에 노출될 수 있는데, 마스크내의 개구부(미도시)가 레이어(1918) 내의 상이한 표면 에너지의 영역(가령, 액체-친화 영역 및 액체-거부 영역)을 형성하는데 사용될 수 있어서, 발광 레이어 가둠 영역을 초래한다. 대안적인 실시예에서, 레이어(1918)는 반응 표면-활성 물질을 더 포함할 수 있어서, 발광 레이어 가둠 영역은 방사선원(1923)을 사용하여 제2 홀 전도성 레이어(1918)를 노출시킴에 의해 형성될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 마스크(1922)는 전극(1906)에 대해서, 마스크(1922) 내의 각각의 개구부가 각각의 전극(1906)의 너비와 길이에 기초하여 정렬되도록 위치될 수 있다.
반응 표면-활성(RSA) 물질은 적어도 하나의 방사선 감지 물질의 조성을 포함할 수 있다. RSA 물질이 방사선에 노출되면, 방사선에 노출된 관련 레이어의 표면 에너지나 친화도가 수정될 수 있다. 예를 들어, 방사선에 노출된 RSA 물질과 연관된 레이어(1918)의 일부는 적어도 하나의 물리적, 화학적 및/또는 전기적 속성에 있어서, RSA 물질과 연관되지 않거나, 광원(1923)으로부터의 방사선에 노출되지 않은 레이어(1918)의 부분과 변화를 가질 수 있어서, 방사선에 노출된 레이어(1918)의부분은 방사선에 노출되지 않은 레이어(1918)의 부분의 표면 에너지나 친화도와 상이한 표면 에너지나 친화도를 가질 수 있다.
방사선원(1923)은 RSA 물질과 조합하여, 적어도 하나의 물리적, 화학적 및/또는 전기적 속성을 수정하는데 사용될 수 있는 임의의 방사선원을 포함할 수 있다. 예를 들어, 방사선원(1923)은 적외선원, 가시광선원, 자외선원, 및 이들의 조합을 포함할 수 있다.
사용된 방사선의 유형은 RSA의 민감도에 의존할 수 있다. 노출은 블랭킷, 전반적인 노출일 수 있고, 또는 노출은 패턴와이즈일 수 있다. 용어 "패턴와이즈(patternwise)"는 물질이나 레이어의 선택된 부분만 노출된다는 것을 나타낸다. 패턴와이즈 노출은 임의의 알려진 이미징 기술을 사용하여 달성될 수 있다. 일 실시예에서, 패턴은 마스크를 통한 노출에 의해 달성된다. 일 실시예에서, 패턴은 레이저로 선택된 부분만 노출함에 의해 달성된다. 노출 시간은 사용된 RSA의 특정 화학에 의존하여, 몇 초에서 몇 분에 걸칠 수 있다. 레이저가 사용될 때, 레이저의 전력에 의존하여, 훨씬 더 짧은 노출 시간이 각각의 개별 영역을 위해 사용된다. 노출 단계는 물질의 민감도에 의존하여, 공기 또는 불활성 대기에서 수행될 수 있다.
일 실시예에서, 방사선은 자외선(10 - 390nm), 가시광선(390 - 770nm), 적외선(770 - 106nm) 및 이들의 조합으로부터 선택될 수 있고, 동시 처리 및 순처 처리를 포함한다. 또 다른 실시예에서, 방사선은 가열에 의해 수행되는 것과 같은 열 방사선일 수 있다. 가열 단계에 대한 온도 및 기간은, 아래 놓인 레이어의 손상없이, RSA의 적어도 하나의 물리적 속성이 변화된다. 예시적인 실시예에서, 가열 온도는 250℃일 수 있고, 150℃ 미만일 수 있다.
예시적인 실시예에서, 방사선은 자외선이나 가시광선일 수 있는데, 방사선은 패턴와이즈로 가해질 수 있어서, RSA의 노출된 영역과 RSA의 비노출 영역을 초래한다. 방사선에 대한 패턴와이즈 노출 이후에, 제1 레이어는 RSA의 노출 또는 비노출 영역을 제거하기 위해 처리될 수 있다.
또 다른 예시적인 실시예에서, 방사선에 대한 RSA의 노출은 용매에서 RSA의 용해성 또는 비용해성에서의 변화를 초래할 수 있다. 예를 들어, 노출이 패턴와이즈로 수행되면, 습식 디벨롭먼트 처리가 노출 단계를 뒷따를 수 있다. 처리는 영역의 한 유형을 녹거나, 퍼지거나 리프트 오프되는 용매로 세척하는 것을 포함할 수 있다. 방사선에의 패턴와이즈 노출은 RSA의 노출된 영역의 불용성을 초래할 수 있고, 용매로의 처리는 RSA의 비노출 영역의 제거를 초래할 수 있다.
또 다른 예시적인 실시예에서, 가시광선이나 UV선에의 RSA의 노출은 노출된 영역에서의 RSA의 휘발성을 감소시키는 반응을 초래할 수 있다. 노출이 패턴와이즈로 수행되면, 이는 열 디벨롭먼트 처리의 뒤를 따를 수 있다. 이러한 처리는 비노출된 물질의 휘발 또는 승화 위의 온도, 그리고 물질이 열적으로 반응성인 온도 아래까지의 온도로 가열하는 것과 관련될 수 있다. 가령, 중합가능한 모노머에 대하여, 물질은 승화 온도 위 그리고 열적 중합 온도 아래의 온도에서 가열될 수 있다. 그러나, 휘발 온도에 가깝거나 그 아래인 열적 반응성의 온도를 가진 RSA 물질이 이러한 방식으로 디벨롭될 수 없다는 것을 유의한다.
또 다른 예시적인 실시예에서, 방사선에의 RSA의 노출은 물질이 녹거나, 부드러워지거나 흐르는 온도에서의 변화를 초래할 수 있다. 노출이 패턴와이즈로 수행되면, 이는 건조 디벨롭먼트 처리를 뒷따를 수 있다. 건조 디벨롭먼트 처리는 더 부드러운 부분을 흡수하거나 윅 어웨이(wick away)하기 위해 흡수 표면에 요소의 최외각 표면을 접촉시키는 것을 포함할 수 있다. 이러한 건조 디벨롭먼트는 원래 비노출된 영역의 속성에 추가적인 영향을 주지 않는 한, 상승된 온도에서 수행될 수 있다.
RSA 물질이 방사선에 노출된 이후에, 레이어(1918)의 물리적 속성은 수정되어서, 노출된 부분이 비노출된 부분으로부터의 표면 에너지에서의 증가 또는 감소를 가질 수 있다. 예를 들어, 노출된 부분은 레이어(1918)의 부분이 액체 물질 내에서 다소 용해성 또는 불용성, 다소 점착성있고, 다소 부드럽고, 다소 흐를 수 있고, 다소 리프트할 수 있고, 다소 흡수할 수 있고, 용매나 잉크에 대해 더 크거나 작은 접촉 각, 특정 용매나 잉크등에 대해 더 크거나 작은 액체-친화도가 되도록 야기할 수 있다. 레이어(1918)의 임의의 물리적 속성이 영향받을 수 있다.
RSA 물질은 하나 이상의 방사선-감지 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, RSA 물질은 올레핀, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 비닐 에테르, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리케톤, 폴리설폰, 이들의 코폴리머 및 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. RSA 물질은 둘 이상의 중합 가능한 그룹을 더 포함할 수 있다. RSA 물질이 둘 이상의 중합 가능한 그룹을 포함할 때, 크로스링킹이 초래될 수 있다.
예시적인 실시예에서, RSA 물질은 적어도 하나의 반응성 물질 및 적어도 하나의 방사선-감지 물질을 포함할 수 있고, 여기서, 방사선-감지 물질은 방사선에 노출될 때 반응성 물질의 반응을 개시하는 활성종을 생성할 수 있다. 방사선-감지 물질의 예시는, 자유 라디칼, 산 또는 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다. 일 실시예에서, 반응성 물질은 중합 가능하거나 크로스 링킹 가능할 수 있다. 물질 중합이나 크로스링킹 반응은 활성종에 의해 개시 또는 촉매화된다. 방사선-감지 물징은 RSA 물질의 전체 중량에 기초하여 0.001% 내지 10.0%의 양이 존재한다.
예시적인 실시예에서, RSA 물질의 반응성 물질은 에틸렌적으로 불포화된 화합물일 수 있고, RSA 물징의 방사선-감지 물질은 방사선에 노출될 때, 자유 라디칼을 생성할 수 있다. 에틸렌적으로 불포화된 화합물은 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 비닐 화합물 및 이들의 조합을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 자유 라디칼을 생성하는 방사선-감지 물질의 임의의 알려진 클래스가 사용될 수 있다. 예를 들어, 퀴논, 벤조페논, 벤조인 에테르, 아크릴 케톤, 퍼록사이드, 바이이미다졸, 벤질 다이메틸 케탈, 하드록실 알킬 페닐 아세토폰, 다이알콕시 악토페논, 트리메틸벤조일 포스파인 옥사이드 파생물, 아미노케톤, 벤조일 사이클로헥사놀, 메틸 티오 페닐 모폴리노 케톤, 모폴리노 페닐 아미노 케톤, 알파 할로게노아세토페논, 옥시설포닐 케톤, 설포닐 케톤, 옥시설포닐 케톤, 설포닐 케톤, 벤조일 옥자임 에스테르, 티옥사쓰론, 캄포퀴논, 케토코우마린 및 미클러의 케톤이다. 대안적으로, 방사선 감지 물질은 화합물의 혼합물일 수 있는데, 이러한 것 중 하나는 방사선에 의해 활성화되는 센시타이저에 의해 그렇게 야기될 때, 자유 라디칼을 제공하는 것이다. 일 실시예에서, 방사선 감지 물질은 가시광선이나 자외선에 감지될 수 있다.
예시적인 실시예에서, 반응성 물질은 산에 의해 개시되는 중합을 겪을 수 있는데, 여기서, 방사선에의 방사선-감지 물질을 노출하는 것은 산을 생성한다. 이러한 반응성 물질의 예시는 옥사이드를 포함하나 이에 제한되지 않는다. 산을 생성하는 방사선-감지 물질의 예시는, 설포늄 및 다이페닐아이오도니움 헥사플루오로포스페이트와 같은 아이오도니움 염을 포함하나 이에 제한되지 않는다. 대안적인 실시예에서, 반응성 물질은 페놀릭 레진을 포함할 수 있고, 방사선-감지 물질은 다이아조나프토퀴논일 수 있다.
RSA 물질은 플루오리네이트된 물질을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, RSA 물질은 플루오리네이트된 아크릴레이트, 플루오리네이트된 에스테르 또는 플루오리네이트된 올레핀 모노머와 같은 하나 이상의 플루오로알킬 그룹을 가진 불포화된 물질을 포함할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 플루오로알킬 그룹은 2 - 20 탄소 원자를 가진다.
도 29는 방사선원(1923)이 마스크(1922)를 통해 RSA-처리된 제2 홀 전도성 레이어(1918)를 제거한 이후에 형성되는 액체-친화 영역(1924) 및 액체-거부 영역(1926)을 나타낸다. 도 30은 도 29에 도시된 확대된 부분 M의 예시적인 횡단면도이고, 도 31은 도 29에 도시된 확대된 부분 M의 예시적인 평면도이다. 액체-친화 영역(1924)과 액체-거부 영역(1926)은 제2 홀 전도성 레이어(1918)의 전체 두께 내에서 형성되도록 도 29에 도시된다는 것을 유의한다. 그러나, 기술 분야에서의 당업자는 영역(1924 및/또는 1926)이 레이어(1918)의 일부에만,가령 레이어(1918)의 상면에 형성될 수 있다는 것을 인식할 것이다.
예시적인 실시예에서, 액체-친화 영역(1924)은 액체-거부 영역(1926) 사이에 형성될 수 있다. 액체-거부 영역은 약 3㎛에서 100㎛ 보다 큰 범위에 걸친 액체-친화 영역간의 너비를 가질 수 있다. 액체-친화 영역(1924)은 액체-친화 영역(1924)이 각각의 전극(1906)의 표면적보다 약간 더 넓은 표면적을 가지도록 형성될 수 있고, 전극(1906)의 활성 영역 외부에 형성된 액체-친화 영역(1924)의 일부는 액체-친화 영역 마진(1903)을 제공한다. 예를 들어, 도 30 및 31에 도시된 바와 같이, 액체-친화 영역(1924)이 형성되어 유기 발광 물질을 증착하는 것과 연관된 건조 효과를 고려하여서, 액체-친화 영역(1924)은 액체-친화 영역(1924) 내에 유기 발광 물질을 가둘 수 있다. 각가의 액체-친화 영역(1924)은 전극(1906)의 활성 영역과 연관된 영역(1928)(도 30에 빗금으로 표시됨) 및 전극(1906)의 활성 영역 외부에 배치된 액체-친화 영역 마진(1930)(만일 존재하면)을 포함할 수 있다. 유기 발광 물질이 제2 홀 전도성 레이어(1918)상에 증착되면, 유기 발광 물질은 영역(1928) 및 각각의 액체-친화 영역(1924)의 액체-친화 영역 마진(1930) 내에 실질적으로 가두어질 수 있다. 예를 들어, 유기 발광 물질이 처리(가령, 건조)되면, 불균일성은 각각의 유기 발광 레이어의 에지에서 생성될 수 있어서, 불균일성은 액체-친화 영역 마진(1930) 내에 가두어진다. 다시 말해, 유기 발광 물질이 처리되면, 액체-친화 영역(1924)의 영역(1928) 내의 물질의 일부는 불균일한 상면을 가져서, 인식되는 가시적인 아티팩트를 감소시킬 수 있다. 액체-친화 영역(1924)은 이들이 형성되어서, 임의의 불균일한 에지가 전극(1906)의 활성 영역의 외부에 있는 거리가 에지 건조 효과에 기초할 수 있다. 또한, 이러한 에지 건조 효과는 액체-친화 영역의 형상을 형성할 때 고려될 수 있다. 예를 들어, 다양한 실시예(미도시)에서, 유기 발광 물질은 도면에 개략적으로 도시된 날카로운 코너보다는 둥근 에지를 초래할 수 있어서, 더 많은 균일하게 건조된 필름을 제공할 수 있다. 또한, 액체-친화 영역(1924)은 유기 발광 물질 및 각각의 물질과 연관된 건조 효과에 기초하여 유연하게 구성될 수 있다. 다양한 예시적인 실시예에서, 약 20㎛ 이하, 또는 약 10㎛ 이하, 또는 약 5㎛ 이하, 또는 약 3㎛ 이하의 액체-친화 영역 마진(1930)(발광 영역상의 에지 건조 효과의 영향이 최소가되도록 제공됨)이 실행될 수 있다. 발광 영역에 대하여 액체-친화 영역의 크기를 증가시키는 것도 패턴와이즈 방사선 노출 공정에서의 정렬 오차를 보상하는데 도움을 줄 수 있다. 예를 들어, 하나의 예시적인 실시예에서, 패턴와이즈 방사선 노출 공정은 약 2㎛의 정렬 정확성을 가질 수 있다. 그러므로, 액체 친화 영역의 증가된 크기는 아래 놓인 발광 영역에 대해 약 플러스 또는 마이너스 2㎛의 가능한 미스 정렬을 차지할 수 있다.
상기에서 논의된 바와 같이, 전극(1906)은 상이한 형상, 배열, 및/또는 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 청색 발광과 연관된 전극은 적색이나 녹색 발광과 연관된 전극보다 더 클 수 있는데, 왜냐하면, OLED 장치내의 청색 발광과 연관된 유기 발광 레이어는 전형적으로 청색 발광과 연관된 유기 발광 레이어에 비해 짧은 수명을 가지기 때문이다. 또한, 감소된 밝기 레벨을 달성하기 위해 OLED 장치를 작동하는 것은 장치의 수명을 증가시킨다. 적색과 녹색 발광과 연관된 전극에 대하여, 청색 발광과 연관된 전극의 발광 면적을 증가시킴에 의해, 청색 발광과 연관된 전극은 적색과 녹색 발광과 연관된 전극의 발기 보다 덜 밝은 밝기를 달성하도록 구동될 수 있어서, 서로 다른 유기 발광 물질 수명에서의 더 나은 균형을 생성함은 물론 디스플레이의 적절한 전반적인 컬러 균형을 제공한다. 이러한 수명의 개선된 균형은 추가로 디스플레이의 전반적인 수명을 개선시키는데, 왜냐하면, 청색 발광과 연관된 유기 발광의 수명이 연장될 수 있기 때문이다. 또한, 액체-친화 영역은 전극(1906)의 상이한 형상, 배열 및/또는 형태에 해당할 수 있다. 예를 들어, 도 31과 유사한 도면을 나타내는 또 다른 예시적인 실시예에서, 도 32는 액체-친화 영역(1924r, 1924g, 1924b)가 상이한 형상의 각각의 전극에 연관될 수 있어서, 액체-친화 영역(1924r)은 적색 발광을 달성하는데 사용되는 전극과 연관되고, 액체-친화 영역(1924g)은 녹색 발광을 달성하는데 사용되는 전극과 연관되고, 액체-친화 영역(1924b)은 청색 발광을 달성하는데 사용되는 전극과 연관된다.
도 29에 도시된 확대된 부분 M의 예시적인 실시예인 도 33에 도시된 대안적인 실시예에서, 픽셀 형성 레이어(1938)는 전극(1906)이 기판(1902)상에 증착된 이후에 증착될 수 있다. 픽셀 형성 레이어(1938)는 전극(1906)의 부분 위에 증착될 수 있고, 액체-친화 영역(1924)은 액체-친화 영역 마진(1930)이 픽셀 형성 레이어(1938)의 적어도 일부에 오버레이할 수 있도록 형성될 수 있다. 픽셀 형성 레이어(1938)는 디스플레이(1900)의 활성 영역(1908)의 픽셀 어레이 내의 픽셀을 기술하는데 사용되는 임의의 물리적 구조일 수 있다. 픽셀 형성 레이어(1938)는 형성 레이어(1938)가 전류 흐름을 막도록 전기적으로 저항성 물질로 제조될 수 있어서, 전극(1906)의 에지를 통해 발광을 실질적으로 막음에 의해 원하지 않는 가시적 아티팩트를 감소시킬 수 있다. 예시적인 실시예에서, 픽셀 형성 레이어(1938)는 약 50nm 내지 약 1500nm의 범위 내의 두께를 가질 수 있다.
도 34에 도시된 바와 같이, 유기 발광 물질(1932)은 가둠 구조물(1904)에 의해 형성된 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 증착될 수 있다. 예를 들어, 유기 발광 물질(1932)은 제2 홀 전도성 레이어(1918)내에 패턴화된 발광 레이어 가둠 영역 위에 잉크젯 프린팅을 사용하여 증착될 수 있다. 잉크젯 노즐(1914)은 가령, 노즐(1914) 및/또는 기판(1902)의 상대적인 스캐닝 모션을 통해, 액체-친화 영역(1924) 위에 유기 발광 물질을 포함하는 잉크의 방울(1934)을 안내할 수 있다. 유기 발광 물질의 방울(1934)은 균일하게 액체-친화 영역내에 퍼질 수 있어서, 물질은 액체-친화 영역(1924)의 에지(가령, 액체-친화 영역 마진(1930) 내)에 고정된다. 기술 분야에서의 당업자는, 하나의 노즐이 도 34를 참조하여 도시되고 논의되지만, 복수의 노즐이 실행되어서, 유기 발광 물질을 포함하는 잉크를 제공하는 것을 인식할 것이다. 서로 다른 발광 컬러와 연관된 동일하거나 상이한 유기 발광 물질을 포함하는 잉크는 동시에 또는 순차적으로 복수의 잉크젯 노즐 헤드로부터 증착될 수 있다.
증착된 유기 발광 물질(1932)은 적색, 녹색 및/또는 청색 발광과 연관된 유기 전기루미네선스 물질과 같은 발광을 용이하게 하기 위한 물질을 포함할 수 있다. 그러나, 노랑 및/또는 백색 발광과 연관된 유기 루미네선스 물질과 같은 다른 발광 컬러와 연관된 유기 전기 루미네선스도 사용될 수 있다.
유기 루미네선스 물질은 캐리어 유체와 혼합되어서 액체-친화 영역(1924)내에 신뢰성있고 균일한 로딩을 제공하기 위해 제제되는 잉크젯 잉크를 형성할 수 있다. 유기 발광 물질(1932)을 생성하기 위해 증착된 잉크는 고속으로 액체-친화 영역(1924)으로 잉크젯 노즐(1914)로부터 전달될 수 있다.
유기 발광 무질(1932)은 액체-친화 영역(1924)에 의해 형성된 표면적 내에 일반적으로 포함될 수 있다. 예를 들어, 유기 발광 물질(1932)은 액체-친화 영역(1924)내에 잉크의 방울(1934)을 증착함에 의해, 기판(1902)상에 로딩될 수 있다. 액체-친화 영역(1924)의 표면 에너지 특징 때문에, 유기 발광 물질(1932)의 방울은 액체-친화 영역(1924) 내에서 균일하게 퍼질 수 있고, 액체-친화 영역 마진(1930) 내의 에지에서 고정될 수 있다.
다양한 예시적인 실시예에서, 약 10 pL 이하의 부피를 가진 복수의 잉크 방울(1934)이 유기 발광 물질(1932)을 증착하는데 사용될 수 있다는 것이 고려된다. 다양한 예시적인 실시예에서, 약 5 pL 이하, 약 3 pL 이하, 또는 약 2 pL 이하의 잉크 방울 부피가 사용될 수 있다. 본 개시물에 따른 패턴화된 액체-친화 영역(1924) 및 액체-거부 영역(1926)을 사용함에 의해, 기존 잉크젯 노즐 기술과 일관된 비교적 더 큰 방울 부피 크기가 사용될 수 있다. 또한, 액체-친화 영역 마진(1930) 때문에 생성된 방울 위치 정확성을 위한 추가적인 마진이 있다.
잉크(1934)가 액체-친화 영역(1924) 상에 로딩된 이후에, 디스플레이(1900)는 처리되어서, 캐리어 유체가 도 35에 도시된 바와 같이 증발할 수 있도록 하여, 유기 발광 레이어(1933)을 생성한다. 건조 공정은 디스플레이를 일정 시간 주기 동안 열, 진공, 또는 대기 상태로 노출하는 것을 포함할 수 있다. 건조 후, 디스플레이가 상승된 온도로 베이킹(bake)되어, 증착된 필름 물질을 처리, 가령, 증착된 필름의 품질 또는 전체 공정에 유익한 화학적 반응 또는 필름 형태의 변화를 유도할 수 있다. 건조 및/또는 베이킹 공정 동안에, 유기 발광 레이어(1933) 내의 에지 변형은 도 30 및 31과 관련하여 설명되고 논의된 바와 같이 액체-친화 영역 마진(1930) 내에 포함될 수 있다.
도 36에 도시된 바와 같이, 제2 전극 레이어(1936)은 건조된 유기 발광 레이어(1933) 위의 가둠 구조물(1904)에 의해 형성된 활성-영역 디스플레이 우물(W) 내에 다음으로 증착될 수 있다. 대안적인 실시예에서, 제2 전극 레이어(1936)은 가둠 구조물(1904) 너머로 추가로 연장될 수 있다. 예를 들어, 제2 전극 레이어(1936)은 기판(1902)상에 배치된 외부 전도성 경로(미도시)와 접촉하여, 제2 전극 레이어(1936)에 의해 운반된 전류를 공금 또는 드래인할 수 있다. 제2 전극 레이어(1936)는 투명하거나 반사성이고 전도성 물질, 가령, 금속, 혼합 금속, 합금, 금속 옥사이드, 혼합 옥사이드, 또는 이들의 조합으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제2 전극 레이어(1936)는 인듐 틴 옥사이드 또는 망간 은일 수 있다. 단일 레이어가 도 36에 도시되지만, 제2 전극 레이어(1936)는 복수의 전도성 레이어를 포함하여, 임의의 형상, 배열 및/또는 형태를 가질 수 있다. 하나의 예시적인 실시예에서, 제2 전극 레이어(1936)는 블랭킷 기술을 사용하여 형성될 수 있어서, 전극(1936)은 디스플레이(1900)의 전체 활성 영역(1908) 위의 단일 전극을 초래한다(도 22 및 23 참조). 대안적인 실시예에서, 제2 전극 레이어(1936)는 복수의 전극을 포함하는데, 하나의 제2 전극은 각각의 전극(1906)과 연관(가령, 오버레이)된다. 또한, 평면의 상부를 가진 제2 전극 레이어(1936)가 도 36에 도시되지만, 제2 전극 레이어(1936)는 레이어(1936)가 비평면 상부를 초래하는 아래 놓인 토포그래피를 반사하도록 증착될 수 있다.
제2 전극 레이어(1936)는 임의의 제작 방법, 가령, 잉크젯 프린팅, 노즐 프린팅, 슬릿 코팅, 스핀 코팅, 진공 열 증발증착, 스퍼터링(또는 그 밖의 다른 물리 기상 증착 방법), 화학 기상 증착 등을 이용해 형성될 수 있다. 쉐도우 마스킹, 포토리소그래피(포토레지스트 코팅, 노광, 현상, 및 박리), 습식 에칭, 건식 에칭, 리프트-오프 등을 이용함으로써, 증착 기법에 달리 포함되지 않는 임의의 추가 패터닝이 이뤄질 수 있다.
제2 전극 레이어(1936)가 활성-영역 디스플레이 우물(W)에 걸쳐 있는 연속적인 레이어일 때, 레이어(1936)는 이전에 배치된 레이어에 의해 형성된 토포그래피를 블랭킷할 수 있다. 예를 들어, 제2 전극 레이어(1936)는 액체-거부 영역(1926) 내에 제2 홀 전도성 레이어(1918) 및 제2 홀 전도성 레이어(1918)의 액체-친화 영역(1924)위에 형성된 유기 발광 레이어(1933)와 접촉할 수 있다.
추가적인 OLED 레이어는, 제2 전극 레이어(1936)을 제공하기 이전에, 유기 발광 레이어(1933) 위에 증착될 수 있는데, 가령, 추가적인 OLED 레이어는 전자 이송 레이어, 전자 주입 레이어, 홀 차단 레이어, 습기 방지 레이어 및/또는 보호 레이어를 포함할 수 있다. 이러한 추가 OLED 레이어는 잉크젯 프린팅, 진공 열 증발 또는 또 다른 방법에 의하여 당업자에게 알려진 다양한 기술에 의해 증착될 수 있다.
대안적인 예시적인 실시예에서, 디스플레이(1900)는, 도 28의 예시에 대해 도시된 제1 홀 전도성 레이어(1912)와 제2 홀 전도성 레이어(1918)보다는, 도 37에 도시된 하나의 홀 전도성 레이어(1913)을 포함할 수 있다. 액체-친화 영역(1924)은 하나의 홀 전도성 레이어(1913)에 형성되어서, 액체-친화 영역 마진(1930)이 전극(1906)의 활성 영역 외부의 하나의 홀 전도성 레이어(1913)의 일부 내에 형성될 수 있다. 홀 전도성 레이어(1913)는 하나 이상의 홀 전도성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 홀 전도성 레이어(1913)는 홀 주입 물질 및/또는 홀 이송 레이어를 포함할 수 있다.
또한, 도 37에 도시된 바와 같이, 홀 전도성 레이어(1913)과 제2 전극 레이어(1936)은 아래 놓인 토포그래피에 순응하여서, 홀 전도성 레이어(1913) 및/또는 제2 전극 레이어(1936)의 상부는 비평면이 될 수 있다. 예를 들어, 증착된 OLED 레이어는 기판 및 전체 활성-영역 디스플레이 우물(W)에 걸쳐 평행한 하나의 평면상에 놓이지 않은 표면 토포그래피를 초래할 수 있다. 예를 들어, 레이어(1913, 1936) 중 하나 또는 모두는 기판(1902)상에 배치된 전극을 포함하는 임의의 표면 특징과 연관된 상대적인 오목부 또는 돌출부 때문에, 디스플레이의 하나의 평면에서 비평면이고 불연속적일 수 있다(여기서, 디스플레이의 평면은 기판(1902)에 평행한 평면으로 의도됨). 도시된 바와 같이, 레이어(1913, 1936)는 아래 놓인 표면 특징 토포그래피에 충분히 순응하여서, OLED 레이어의 상부는 아래 놓인 표면 특징부의 토포그래피를 따르는 결과적인 토포그래피를 가질 수 있다. 다시 말해, 각각 증착된 OLED 레이어는 기판(1902)상에 배치된 모든 아래 놓인 레이어 및/또는 표면 특징부에 순응하여서, 이들 아래 놓인 레이어는 이들이 증착된 이후에, OLED 레이어의 비평면 상부 토포그래피를 초래하는데 기여한다. 이처럼, 디스플레이의 평면에 평행한 활성-영역 디스플레이 우물에 걸친 평면에서, 레이어(1913 또는 1936 또는 모두)에서의 불연속은 활성-영역 디스플레이 우물 내에서, 전극, 회로망, 픽셀 형성 레이어등으로 부터 제공된 기존 표면 특징부와 함께, 평면에 대해 레이어(들) 상승 및/또는 하강으로서 일어날 수 있다. 레이어(1913 및/또는 1936)가 아래 놓인 표면 토포그래피에 완전히 순응하지 않지만(가령, 상기 설명된 바와 같이, 에지 영역등 주위에서 두께에 있어서의 부분적 불균일성이 있을 수 있음), 물질의 현저한 빌드업이나 고갈이 없는 충분히 순응적인 코팅은 좀더 균일하고, 일정하고 반복가능한 코팅을 촉진할 수 있다. 기술 분야에 있어서의 당업자는 상기 기술된 동일한 고려사항이 홀 주입 레이어 및 홀 이송 레이어 모두를 포함하는 홀 전도성 레이어에 적용되어서, 이러한 레이어들이 아래 놓인 표면 특징부 토포그래피에 충분히 순응하고, 각각의 레이어의 상부는 아래 놓인 표면 특징부의 토포그래피를 따르는 결과 토포그래피를 가질 수 있다는 것을 인식할 것이다.
다양한 실시예에서, 가둠 구조물(1904)이 생략될 수 있고, 대신에, 잉크 제제 및 프린팅 공정이 설계되어서, 액체-거부 영역이 디스플레이 활성 영역의 외부의 영역내에 형성되어서 디스플레이의 비활성 영역 내에 증착된 임의의 유체를 거부할 수 있도록 한다. 예를 들어, 도 38 및 39에 도시된 바와 같이, 제1 홀 전도성 레이어(1912)와 제2 홀 전도성 레이어(1918)는 전극(1906) 및 디스플레이(1900)의 비활성 영역(1910)내에 있는 기판(1902)의 부분상에 증착될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 레이어(1912 및 1918)는 전체 기판 위에 코팅된 블랭킷일 수 있다. 제2 홀 전도성 레이어(1918)는 발광 레이어 가둠 영역을 형성하기 위한 제2 홀 전도성 레이어(1918)의 부분의 표면 에너지나 친화도를 수정하기 위하여, 처리될 수 있다. 또한, 디스플레이의 비활성 영역(1910)내의 액체-거부 부분(1925)는 가둠 영역(CA)을 형성할 수 있는데, 여기서, 액체-거부 부분(1925)은 활성 영역(1908)을 둘러쌀 수 있다. 상기와 같이, 방사선원(1926)은 마스크(1922)를 통해, RSA 물질로 처리된 제2 홀 전도성 레이어(1918)의 표면에 영향을 주는 방사선을 제공할 수 있다. 방사선원(1926)으로부터의 방사선은 RSA 물질의 적어도 하나의 속성을 수정하여 액체-친화 영역(1924)을 형성할 수 있다. 액체-거부 부분(1925)은 이들 부분에서 액체-거부 영역을 초래하는 표면 에너지를 가질 수 있다. 이러한 실시예에서, 디스플레이의 전체 활성 영역의 둘레 주위에 가둠 구조물이 없어서(가령, 활성-영역 디스플레이 우물이 없음), 디스플레이의 활성 영역을 포함하고, 그 주위에 영역에 모든 프린트된 레이어를 가두기 위한 구조물이 없다. 이는 확실한 공정 간단화를 제공할 수 있으며, 동시에, 비활성 디스플레이 영역으로부터 물질의 적어도 일부를 제거하기 위한 이후의 추가적인 공정 단계를 잠재적으로 요구한다. 유기 발광 물질(1932)은 액체-친화 영역(1924) 내에 증착될 수 있다. 게다가, 유기 발광 물질(1932)은 액체-거부 부분(1925) 때문에, 디스플레이(1900)의 활성 영역(1908) 내에 실질적으로 가두어질 수 있다.
도 40은 도 39내에 도시된 확대된 부분의 횡단면도이고, 전극(1906)의 활성 영역과 연관된 부분(1928) 및 액체-친화 마진 영역(1930)을 포함하는 액체-친화 영역(1924)을 도시한다. 제2 홀 전도성 레이어의 액체-거부 부분(1925)은 비활성 영역(1910)과 인접한 활성 영역(1908) 내의 각각의 전극(1906)과 연관된 액체-친화 마진 영역(1930)과 이격될 수 있다. 액체-거부 부분(1925)은 유기 발광 물질이 디스플레이(1900)의 바활성 부분(1910)으로 이주하는 것을 막을 수 있다.
예시적인 실시예에 따르면, 도 22 - 40의 OLED 장치는 상부 발광 형태(top emissive configuration) 또는 하부 발광 형태(bottom emissive configuration)를 가질 수 있다. 예를 들어, 상부 발광 형태에서, 도 22 - 40에 도시된 복수의 전극(1906)은 반사성 전극은 일 수 있고, 도 36 및 37에 도시된 제2 전극 레이어(1936)는 투명 전극일 수 있다. 대안적으로, 하부 발광 형태에서, 복수의 전극(1906)이 투명할 수 있고, 제2 전극 레이어(1936)은 반사성일 수 있다
또 다른 예시적 실시예에서, 도 22 - 40의 OLED 디스플레이는 능등-매트릭스 OLED(AMOLED)일 수 있다. AMOLED 디스플레이는, 수동-매트릭스 OLED(PMOLED) 디스플레이에 비교할 때, 디스플레이 성능을 개선하지만, 기판상의 능동 구동 회로, 가령, 박막 트랜지스터(TFT)에 의존하며 이러한 회로는 투명하지 않다. PMOLED 디스플레이가 투명하지 않은 일부 요소, 가령, 전도성 버스 라인을 갖지만, AMOLED 디스플레이는 불투명한 요소를 실질적으로 더 많이 가진다. 따라서 하부 발광 AMOLED 디스플레이의 경우, 광이 기판의 하부를 통해 불투명한 회로 요소들 사이에서만 발산될 수 있기 때문에 PMOLED에 비해 필 팩터가 감소될 수 있다. 이러한 이유로, AMOLED 디스플레이에 대한 상부 발광 형태를 이용하여 LED 소자가 이러한 불투명 능동 회로 요소의 상부 상에 구성될 수 있기 때문에, 이러한 구성을 이용하는 것이 바람직할 수 있고, 아래 놓인 요소의 불투명함에 대한 우려 없이, OLED 소자의 상부를 통해 광이 발산될 수 있다. 일반적으로, 상부 발광 구조물을 이용함으로써, 기판(1902) 상에 증착된 추가 불투명 요소(가령, TFT, 구동 회로 구성요소 등)에 의해 발광이 차단되지 않기 때문에, 디스플레이(1900)의 각각의 픽셀의 필 팩터가 증가될 수 있다. 그러나, 본 개시물은 상부 발광 능동-매트릭스 OLED 형태에 제한되지 않는다. 본원에서 논의되는 기술과 배열은 하부 발광 및/또는 수동 디스플레이와 같은 그 밖의 다른 유형의 디스플레이에서 사용될 수 있음은 물론, 당업자가 적절한 수정을 사용하여 어떻게 만들 수 있는지를 이해할 수 있다.
도 22 - 40을 참조하여 상기 기술된 다양한 양상은 본 개시물에 따른 다양한 픽셀 및 서브-픽셀 레이아웃에 사용될 수 있다. 본 개시물에 의해 고려되는 한 예시적인 레이아웃은 도 41에 도시된다.
예시적인 실시예에서, 발광 레이어 가둠 영역은 복수의 서브-픽셀에 걸친 영역을 포함하도록 형성될 수 있어서, 픽셀의 비활성 부분이 감소된다. 예를 들어, 도 41에 도시된 바와 같이, 발광 레이어 가둠 영역은 개별적으로 어드레스된 복수의 서브-픽셀 전극 위에 형성될 수 있는데, 여기서, 각각의 서브-픽셀 전극은 서로 다른 픽셀과 연관될 수 있다. 발광 레이어 가둠 구조물의 영역을 증가시킴에 의해, 필 팩터는 최대로 될 수 있는데, 왜냐하면, 전체 픽셀 영역에 대한 활성 영역의 비율이 증가하기 때문이다. 필 팩터에서의 이러한 증가를 달성하는 것은 더 작은 크기의 디스플레이에서 고해상도가 가능함은 물론, 디스플레이의 수명을 증가시킬 수 있다.
도 41은 사용자에게 디스플레이될 이미지를 생성할 수 있는 광을 선택적으로 발산할 때, 점선 경계부(2050, 2051, 2052)에 의해 형성된, 복수의 픽셀을 포함하는 디스플레이(2000)의 부분 평면도를 나타낸다. 풀 컬러 디스플레이에서, 픽셀(2050, 2051, 2052)는 서로 다른 컬러의 복수의 서브-픽셀을 포함할 수 있다. 예를 들어, 픽셀(2050)는 적색 서브-픽셀 R, 녹색 서브-픽셀 G, 및 청색 서브-픽셀 B를 포함할 수 있다. 발광 레이어 가둠 영역(2034, 2036, 2038)은 제2 홀 전도성 레이어(2026) 내에 형성될 수 있는데, 발광 레이어 가둠 영역(2034)은 적색 파장 범위 내의 발산을 가진 유기 발광 물질과 연관될 수 있고, 발광 레이어 가둠 영역(2036)은 녹색 파장 범위 내의 발산을 가진 유기 발광 물질과 연관될 수 있고, 발광 레이어 가둠 영역(2036)은 청색 파장 범위 내의 발산을 가진 유기 발광 물질과 연관될 수 있다. 각각의 발광 레이어 가둠 영역(2034, 2036, 2038)은 복수의 전극(2006, 2007, 2008, 2009, 2016, 2017, 2018, 2019, 2022, 2024)과 연관될 수 있다. 복수의 전극과 연관되는 발광 레이어 가둠 영역(2034, 2036, 2038)을 구성함에 의하여, 디스플레이(2000)의 전반적인 필 팩터는 가령 고해상도 디스플레이로 개선될 수 있다.
도 41의 예시적인 레이아웃은 제한하려는 의도라기 보다는, 본 개시물을 실행하기 위한 여러 방법이 있다는 것을 의도한다. 많은 경우에, 특정 레이아웃의 구체적인 선택은, 전기 회로망의 아래 놓인 레이아웃, 직사각형, 꺽쇠형, 원형, 육각형, 삼각형등과 같은 원하는 픽셀 형상 및 디스플레이의 가시적인 외관과 관련된 인자(가령, 서로 다른 형태 및 문자, 그래픽 또는 동영상과 같은 디스플레이 콘텐츠의 서로 다른 유형에 대해 관측될 수 있는 가시적인 아티팩트)에 대한 제약에 의해 구동될 수 있다. 기술 분야에서의 당업자는 여러 다른 레이아웃이 본 개시물의 범위 내에 있다는 것과 본원에서 기술되는 원리에 기초하여 수정예를 얻을 수 있다는 것을 인식할 것이다. 또한, 기술 분야에서의 당업자는, 간결성을 위해, 발광 레이어 가둠 영역이 도 41의 예시적인 레이아웃의 설명에서 기술되지만, 전극, 표면 특징부, 회로망, 픽셀 형성 레이어 및 도 22 - 40을 참조하여 상기 기술된 다른 레이아웃을 포함하는 임의의 특징이 본원에서의 임의의 픽셀 레이아웃과 조합되어 사용될 수 있다는 것을 인식할 것이다.
본 개시물의 예시적인 실시예에 따른 다양한 양상을 사용하여, 일부 예시적인 치수 및 파라미터가 증가된 필 팩터를 가진 고해상도 OLED 디스플레이을 달성하는데 유요할 수 있다. 표 9 - 11은 326 ppi의 해상도를 가진 OLED 디스플레이와 연관된 본 개시물의 예시적인 실시예에 따른 예언적이고 비제한적인 예시를 포함하는데, 표 9는 적색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술하고, 표 10은 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술하고, 표 11은 청색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술한다. 표 12 - 14는 종래의 치수 및 파라미터를 포함함은 물론, 440 ppi의 해상도를 가진 디스플레이와 연관된 본 개시물의 예시적인 실시예에 따른 예언적이고 비제한적인 예시를 포함하는데, 표 12는 적색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술하고, 표 13은 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술하고, 표 14는 청색 발광과 연관된 서브-픽셀을 기술한다.
| 326 ppi의 해상도를 가진 디스플레이에서의 적색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 발광 가둠 영역의 영역(㎛2) |
| 도 42에 도시된 발광ㅇ 레이어 가둠 영역과 연관된 서브-픽셀 | 31.5 | 31.5 | 989.5 |
| 도 34에 도시된 형성 레이어를 가진 도 42에 도시된 발광 레이어 형성 구조물과 연관된 서브 픽셀 | 28.5 | 28.5 | 809.8 |
| 326 ppi의 해상도를 가진 디스플레이에서의 녹색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 발광 가둠 영역의 영역(㎛2) |
| 도 42에 도시된 발광ㅇ 레이어 가둠 영역과 연관된 서브-픽셀 | 31.5 | 31.5 | 989.5 |
| 도 34에 도시된 형성 레이어를 가진 도 42에 도시된 발광 레이어 형성 구조물과 연관된 서브 픽셀 | 28.5 | 28.5 | 809.8 |
| 326 ppi의 해상도를 가진 디스플레이에서의 청색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 발광 가둠 영역의 영역(㎛2) |
| 도 42에 도시된 발광ㅇ 레이어 가둠 영역과 연관된 서브-픽셀 | 30.0 | 65.9 | 1979.1 |
| 도 34에 도시된 형성 레이어를 가진 도 42에 도시된 발광 레이어 형성 구조물과 연관된 서브 픽셀 | 27.0 | 59.9 | 1619.6 |
| 440 ppi의 해상도를 가진 디스플레이에서의 적색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 발광 가둠 영역의 영역(㎛2) |
| 도 42에 도시된 발광ㅇ 레이어 가둠 영역과 연관된 서브-픽셀 | 21.4 | 21.4 | 456.4 |
| 도 34에 도시된 형성 레이어를 가진 도 42에 도시된 발광 레이어 형성 구조물과 연관된 서브 픽셀 | 18.4 | 18.4 | 337.2 |
| 440 ppi의 해상도를 가진 디스플레이에서의 적색 발광과 연관된 서브-픽셀 | 서브-픽셀의 길이(㎛) | 서브-픽셀의 너비(㎛) | 발광 가둠 영역의 영역(㎛2) |
| 도 42에 도시된 발광ㅇ 레이어 가둠 영역과 연관된 서브-픽셀 | 21.4 | 21.4 | 456.4 |
| 도 34에 도시된 형성 레이어를 가진 도 42에 도시된 발광 레이어 형성 구조물과 연관된 서브 픽셀 | 18.4 | 18.4 | 337.2 |
본 명세서에 개시된 실시예가 임의의 OLED 디스플레이에서 고해상도를 얻을 수 있도록 사용될 수 있다. 따라서, 다양한 전자 디스플레이 장치에 적용될 수 있다. 이러한 전자 디스플레이 장치의 일부 비-제한적 예시로는 텔레비전 디스플레이, 비디오 카메라, 디지털 카메라, 두부 장착형 디스플레이, 차량 내비게이션 시스템, 디스플레이를 포함하는 오디오 시스템, 랩탑 개인 컴퓨터, 디지털 게임 장비, 휴대용 정보 단말기(가령, 태블릿, 모바일 컴퓨터, 모바일 전화기, 모바일 게임 장비 또는 전자책), 기록 매체가 제공된 이미지 재생 장치가 있다. 두 가지 유형의 전자 디스플레이 장치의 예시적 실시예가 도 20 및 21에 도시되어 있다.
도 20은 본 발명에 따르는 OLED 디스플레이들 중 임의의 것을 포함하는 텔레비전 모니터 및/또는 데스크톱 개인 컴퓨터의 모니터를 도시한다. 모니터(1500)는 프레임(1502), 지지부(1504), 및 디스플레이 부분(1506)을 포함할 수 있다. 본 명세서에 개시된 상기 OLED 디스플레이 실시예가 디스플레이 부분(1506)으로서 사용될 수 있다. 모니터(1500)는 임의의 크기 디스플레이, 가령, 55" 이상의 디스플레이일 수 있다.
도 21은 본 발명에 따르는 OLED 디스플레이들 중 임의의 것을 포함하는 모바일 장치(1600)(가령, 셀룰러 전화기, 태블릿, 개인 데이터 보조기 등)의 예시적 실시예를 도시한다. 모바일 소자(1600)는 본체(1062), 디스플레이 부분(1604), 및 동작 스위치(1606)를 포함할 수 있다. 본 명세서에 개시된 OLED 디스플레이 실시예가 디스플레이 부분(1604)으로서 사용될 수 있다.
기술 분야에서의 당업자 중 일인은 도 1 - 43이 개략적이고, 단지 표현적으로 고려되어야 한다는 것을 인식할 것이다. 예를 들어, 다양한 제한 구조물(1904) 및 그 밖의 다른 구조물이 기판에 수직으로 배치된 벽과 평행하고, 샤프한 에지를 가지도록 도시될 수 있고, 이러한 구조물은 둥근 에지 및/또는 각진 벽을 포함하는 임의의 형상을 가질 수 있다. 또한, 임의의 레이어, 우물 및/또는 가둠 영역은 둥근, 각진등과 같인 일정하지 않은 에지를 가질 수 있다.
앞서 본 발명에 따라 기재된 다양한 예시적 실시예는 비교적 높은 픽셀 밀도 및 OLED 물질 방울이 로딩되는 제한 우물의 크기를 증가시킴으로써 증가된 필 팩터를 갖는 OLED 디스플레이의 잉크젯 프린팅를 가능하게 할 수 있으며, 본 발명에 따르는 획득 가능한 방울 크기 및 획득 가능한 잉크젯 시스템 방울 위치 정확도의 사용을 가능하게 한다. 더 큰 가둠 우물 면적 때문에, 잉크젯 기기 설계 및 프린팅 기법에서 금지적 도전과제를 배치할 수 있는 지나치게 작은 방울 부피 또는 과도한 높은 방울 위치 정확도를 이용할 필요 없이, 실질적으로 큰 잉크젯 방울 부피 및 획득 가능한 방울 위치 정확도를 이용해, 고해상도 OLED 디스플레이가 제조될 수 있다. 가둠 구조물을 사용할 때, 본 발명에 따르는 복수의 서브-픽셀에 걸쳐 있는 가둠 우물이나 가둠 영역을 구현하지 않고, 방울 크기 및 시스템 방울 위치 오차가 기존 잉크젯 헤드를 이용해 제조된 임의의 고해상도 디스플레이에서 문제를 상당히 증가시킬 수 있는데, 왜냐하면, 방울은 지나치게 큰 부피를 갖고 각각의 서브-픽셀 우물을 넘치게 채울 것이며 타겟 가둠 우물 외부에 전체적으로 또는 부분적으로 종래의 방울 위치 정확도가 방울의 오배치를 야기할 것이며, 이들 모두는 필름 증착에 바람직하지 않은 오차 및 최종 디스플레이 외관에 대응하는 가시적 결함을 초래할 것이기 때문이다. 기존 방울 부피 및 방울 위치 정확도를 갖는 높은 픽셀 밀도를 얻기 위한 능력에 의해 본 명세서에 기재된 기법이 많은 경우에서, 소형 크기 디스플레이, 가령, 스마트폰 및/또는 태블릿에서 발견되는 디스플레이, 대형 크기 디스플레이, 가령, 초고해상도 텔레비전에 대한 비교적 고해상도의 디스플레이의 제조 시에 사용될 수 있다.
또한, 예시적 실시예에 따라, 아래 놓인 토포그래피에 충분히 순응하는 실질적으로 균일한 두께의 OLED 물질 레이어(들)이 전체 OLED 디스플레이 성능 및 품질을 촉진시킬 수 있고, 구체적으로 고해상도 OLED 디스플레이에서 바람직한 성능 및 품질이 획득되게 할 수 있다.
앞서 기재된 실시예의 하나 이상은 감소된 필 팩터를 얻어질 수 있다. 종래의 픽셀 배열에서, 300-400ppi의 해상도를 갖는 디스플레이에 대한 필 팩터는 40% 미만, 종종 30% 미만의 필 팩터를 가진다. 이와 달리, 본 발명의 예시적 실시예는 300-440ppi의 해상도를 갖는 디스플레이에 대해 40% 초과, 일부 예시에서, 60%의 필 팩터를 얻을 수 있다. 예시적 실시예는 고해상도 디스플레이 내 픽셀 배열을 포함하는 임의의 픽셀 크기 및 배열을 위해 사용될 수 있다.
예시적 실시예는 임의의 크기 디스플레이에서, 더 구체적으로, 고해상도를 갖는 작은 디스플레이에서 사용될 수 있다. 가령, 본 발명의 예시적 실시예가 3-70인치의 대각선 크기를 갖고 100ppi 초과, 가령, 300ppi 초과의 해상도를 갖는 디스플레이에서 사용될 수 있다.
기재된 다양한 예시적 실시예는 잉크젯 프린팅 기법을 이용하는 것을 고려하지만, 그 밖의 다른 제조 기법, 가령, 열 증발증착, 유기 증기 증착, 유기 증기 제트 프린팅를 이용해, 본 명세서에 기재된 다양한 픽셀 및 서브-픽셀 레이아웃 및 OLED 디스플레이에 대한 레이아웃을 만드는 방식은 또한 제작될 수 있다. 예시적 실시예에서, 교대하는 유기 레이어 패터닝이 수행될 수 있다. 가령, 패터닝 방법은 (열 증발증착과 함께) 쉐도우 마스킹 및 유기 증기 제트 프린팅를 포함할 수 있다. 구체적으로, 동일한 색상의 복수의 서브-픽셀이 다 함께 그룹지어지고 증착된 OLED 필름 레이어가 그룹 지어진 서브-픽셀 영역들 내 실질적 토포그래피에 걸쳐 있는 본 명세서에 기재되는 픽셀 레이아웃이 잉크젯 프린팅 적용예에 대해 고려되지만, 이러한 레이아웃은 또한 쉐도우 마스킹을 이용해 패터닝 단계가 이뤄지는 OLED 필름 레이어 증착을 위해 진공 열 증발증착 기법에 대한 유익한 대안적 적용예를 가질 수 있다. 본 명세서에 기재될 때 이러한 레이아웃은 더 큰 쉐도우 마스크 홀 및 이러한 홀들 간 증가된 거리를 제공함으로써, 이러한 쉐도우 마스크의 전체 기계적 안정성 및 일반적인 실현 가능성을 개선할 수 있다. 쉐도우 마스크를 이용한 진공 열 증발증착 기법이 잉크젯 기법만큼 저 비용은 아닐 수 있지만, 본 발명에 따르는 픽셀 레이아웃의 사용 및 동일한 색상과 연관된 그룹화된 서브-픽셀 내 실질적인 토포그래피에 걸쳐 있는 OLED 필름 레이어 코팅의 사용이 또한 본 발명의 실질적으로 중요한 적용을 나타낸다.
본 개시물을 따르고, 상기 기술된 다양한 예시적인 실시예는, 본 개시물에 따라서, 발광 레이어 가둠 영역을 사용하여, 픽셀의 비활성 영역을 감소시킴에 의해 비교적 높은 픽셀 밀도와 증가된 필 팩터를 가진 OLED 디스플레이의 잉크젯 프린팅이, 종래의 잉크 방울 크기 및 종래의 잉크젯 시스템 드랍 위치 정확성의 사용을 가능하게 함에 의해 유기 발광 물질의 잉크젯 드랍을 가둘 수 있다. 형성될 발광 레이어 가둠 영역 때문에, 고해상도 OLED 디스플레이는, 잉크젯 장비 설계와 프린팅 기술에서의 금지되는 해결과제를 멈출 수 있게 하는 너무 작은 방울 부피나 지나치게 높은 드랍 위치 정확성을 사용하기 위한 요구 없이, 충분히 큰 잉크젯 방울 부피와 종래의 드랍 위치 정확성을 사용하여 제조될 수 있다. 방울 크기 및 시스템 드랍 위치 오차에 대한 요구사항은 종래의 잉크젯 헤드를 사용하여 제조된 임의의 고해상도 디스플레이 에서 현저하게 증가될 것이다. 종래의 방울 부피 및 종래의 드랍 위치 정확도를 사용하여, 높은 픽셀 밀도를 달성하기 위한 능력은 본원에서 기술된 기술이, 가령, 스마트폰 및/또는 태블릿에서 발견되는 작은 크기의 디스플레이에서부터, 초고해상도 텔레비전과 같은 큰 크기의 디스플레이까지의 많은 적용예에 대해 비교적 고해상도의 디스플레이의 제조에서 사용될 수 있도록 한다. 상기 기술된 하나 이상의 실시예는 종래의 픽셀 배열을 사용할 때, 감소된 필 팩터를 달성할 수 있다. 종래의 픽셀 배열에서, 300-400ppi의 해상도를 갖는 디스플레이에 대한 필 팩터는, 비활성 픽셀 영역에 대한 가둠 우물 구조 기여도 때문에, 40% 미만, 종종 30% 미만의 필 팩터를 가진다. 이와 달리, 본 발명의 예시적 실시예는 300-440ppi의 해상도를 갖는 디스플레이에 대해 40% 초과, 일부 예시에서, 60%의 필 팩터를 얻을 수 있다. 예시적 실시예는 고해상도 디스플레이 내 픽셀 배열을 포함하는 임의의 픽셀 크기 및 배열을 위해 사용될 수 있다.
예시적 실시예는 임의의 크기 디스플레이에서, 더 구체적으로, 고해상도를 갖는 작은 디스플레이에서 사용될 수 있다. 가령, 본 발명의 예시적 실시예가 3-70인치의 대각선 크기를 갖고 100ppi 초과, 가령, 300ppi 초과의 해상도를 갖는 디스플레이에서 사용될 수 있다.
단지 몇 개의 예시적 실시예만 상세히 기재되었지만, 해당 분야의 통상의 기술자라면, 본 발명의 범위 내에서 예시적 실시예에서 많은 수정예가 가능함을 쉽게 알 것이다. 따라서 모든 이러한 변형이 다음의 특허청구범위에서 정의되는 범위에 포함된다.
다음 절에서 추가적인 양상이 개시된다.
제1 양상은 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법에 관한 것이다. 제1 양상은 기판상에 복수의 전극을 제공하는 단계를 포함한다. 제1 홀 전도성 레이어는 잉크젯 프린팅을 통해, 기판상의 복수의 전극 위에 증착될 수 있다. 제1 홀 전도성 레이어의 선택된 표면 부분의 액체 친화성은 발광 레이어 가둠 영역을 형성하기 위하여 변화될 수 있다. 각각의 발광 레이어 가둠 영역은 기판상에 제공된 복수의 제1 전극의 각각에 대응되는 부분을 가진다. 유기 발광 레이어는 잉크젯 프린팅을 통해 각각의 발광 레이어 가둠 영역 내에 증착될 수 있다.
제1 양상에 따른 제2 양상에 있어서, 본 방법은 잉크젯 프린팅을 통해, 복수의 전극과 제1 홀 전도성 레이어 사이에 제2 홀 전도성 레이어를 증착하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 양상 중 어느 한 양상에 따른 제3 양상에 있어서, 본 방법은 복수의 전극을 둘러싸는 기판상의 가둠 구조물을 제공하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 양상 중 어느 한 양상에 따른 제4 양상에 있어서, 본 방법은 디스플레이의 활성 영역 내에 배치된 복수의 전극을 더 포함할 수 있다.
상기 양상 중 어느 한 양상에 따른 제5 양상에 있어서, 본 방법은 각각의 유기 발광 레이어 위에 증착된 제2 전극을 더 포함하되, 복수의 전극은 복수의 제1 전극일 수 있다.
상기 양상 중 어느 한 양상에 따른 제6 양상에 있어서, 본 방법은 복수의 전극의 각강의 부분 위에 증착된 픽셀 형성 레이어를 더 포함할 수 있다.
상기 양상 중 어느 한 양상에 따른 제7 양상에 있어서, 본 방법은 약 50 nm 내지 약 1500 nm 범위의 두께를 가진 픽셀 형성 레이어를 더 포함할 수 있다.
상기 양상 중 어느 한 양상에 따른 제8 양상에 있어서, 본 방법은 마스크의 개구부를 통해 제1 홀 전도성 레이어의 선택 표면 부분을 방사함에 의해 표면의 액체 친화성을 변화시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 양상 중 어느 한 양상에 따른 제9 양상에 있어서, 본 방법은 적외선, 가시광선 및 자외선 중 적어도 하나를 포함하는 방사선을 더 포함할 수 있다.
상기 양상 중 어느 한 양상에 따른 제10 양상에 있어서, 본 방법은 물질의 실질적으로 연속인 레이어를 형성하기 위한 복수의 전극 위에 증착된 블랭킷이되, 기판 반대편의 표면은 비평면 토포그래피를 가지는 제1 홀 전도성 레이어를 더 포함할 수 있다.
상기 양상 중 어느 한 양상에 따른 제11 양상에 있어서, 본 방법은 물질의 실질적으로 연속인 레이어를 형성하기 위하여 제2 홀 전도성 레이어 위에 증착된 블랭킷이되, 제2 홀 전도성 레이어 반대편의 제1 홀 전도성 레이어는 비평면 토포그래피를 가지는 제1 홀 전도성 레이어를 더 포함할 수 있다.
제12 양상은 유기 발광 디스플레이에 관한 것이다. 제12 양상은 기판 상에 배치된 복수의 전극을 포함할 수 있다. 복수의 전극은 어레이 형태로 배열될 수 있다. 가둠 구조물은 기판상에 배치될 수 있다. 가둠 구조물은 복수의 전극을 둘러쌀 수 있다. 제1 홀 전도성 레이어는 가둥 구조물 내의 복수의 전극 위에 배치될 수 있다. 제1 호 전도성 레이어의 표면 부분의 액체 친화성은 1 홀 전도성 레이어 내의 발광 레이어 가둠 영역을 형성하기 위해 변화될 수 있다. 유기 발광 레이어는 각각의 발광 레이어 가둠 영역 내에 배치될 수 있다.
제12 양상에 따른 제13 양상에 있어서, 디스플레이는 복수의 전극과 제1 홀전도성 레이어 사이에 배치되는 제2 홀 전도성 레이어를 더 포함할 수 있다.
제12 또는 제13 양상에 따른 제14 양상에 있어서, 디스플레이는 액체-거부 영역에 의해 둘러싸일 수 있는 각각의 발광 레이어 가둠 영역을 더 포함할 수 있다.
제12 내지 제14 양상 중 어느 한 양상에 따른 제15 양상에 있어서, 디스플레이는 가둠 구조물에 의해 개별적으로 둘러싸이지 않은 각각의 유기 발광 가둠 영역을 더 포함할 수 있다.
제12 내지 제15 양상 중 어느 한 양상에 따른 제16 양상에 있어서, 디스플레이는 디스플레이의 활성 영역 내에 배치되는 복수의 전극을 더 포함할 수 있다.
제17 양상은 공정에 의해 제조되는 유기 발광 디스플레이에 관한 것이다. 제17 양상은 기판상에 배치되는 복수의 전극을 포함하는 기판ㅇ르 제공하는 단계를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 홀 전도성 레이어가 잉크젯 프린팅을 통해 기판상의 복수의 전극 위에 증착될 수 있다. 적어도 하나의 홀 전도성 레이어의 선택 부분의 액체 친화성은 적어도 하나의 홀 전도성 레이어의 표면상의 발광 레이어 가둠 영역을 형성하기 위해 변화될 수 있다. 유기 발광 레이어는 잉크젯 프린팅을 통해 적어도 하나의 홀 전도성 레이어 내에 형성된 각각의 발광 레이어 가둠 구조물 내에 증착될 수 있다.
제17 양상에 따른 제18 양상에 있어서, 공정에 의해 제조되는 디스플레이는 기판상에 가둠 구조물을 제공하는 단계를 포함하되, 상기 가둠 구조물은 복수의 전극을 둘러싸는 우물을 형성한다.
제17 양상 또는 제18 양상에 따른 제19 양상에 있어서, 공정에 의해 제조되는 디스플레이는 잉크젯 프린팅을 통해, 기판상의 복수의 전극 위에 증착된 제1 홀 전도성 레이어를 포함하되, 발광 레이어 가둠 영역은 제1 홀 전도성 레이어의 표면상에서 형성될 수 있다.
제17 양상 내지 제19 양상에 따른 제20 양상에 있어서, 공정에 의해 제조되는 디스플레이는 잉크젯 프린팅을 통해 기판상의 복수의 전극 위에 증착되는 제1 홀 전도성 레이어 및 제1 홀 전도성 레이어 위에 제2 홀 전도성 레이어를 포함하되, 발광 레이어 가둠 영역은 제2 홀 전도성 레이어의 표면상에서 형성될 수 있다.
제17 양상 내지 제20 양상에 따른 제21 양상에 있어서, 공정에 의해 제조되는 디스플레이는 디스플레이의 활성 영역 내에 배치되는 복수의 전극을 포함할 수 있다.
본 명세서에 기재된 다양한 실시예가 예시로서 취급되어야 함이 이해될 수 있다. 요소 및 물질, 및 이들 요소 및 물질의 배열이 본 명세서에 도시되고 기재된 것을 치환할 수 있으며, 부분들이 반전될 수 있고, 본 명세서에 기재된 이점을 취한 후 해당 분야의 기술자에게 자명할 것이다. 상세한 설명 및 균등물을 포함하는 청구범위의 사상 및 범위 내에서 본 명세서에 기재된 요소들의 변경이 이뤄질 수 있다.
해당 분야의 통상의 기술자라면 본 발명의 범위 내에서, 예시적 실시예의 구성 및 방법의 다양한 수정예가 가능함을 알 것이다.
또한 해당 분야의 통상의 기술자라면 조합이 본 명세서에 명백하게 기재되어 있지 않더라도, 본 명세서의 하나의 예시적 실시예에 대해 개시된 다양한 특징부가 적절히 변형된 그 밖의 다른 예시적 실시예와 조합되어 사용될 수 있음을 알 것이다.
해당 분야의 통상의 기술자라면 상세한 설명 및 청구범위의 범위 내에서 본 발명의 소자, 방법, 및 시스템의 다양한 수정 및 변형이 이뤄질 수 있음을 알 것이다. 본 발명의 그 밖의 다른 실시예가 본 명세서에 개시된 본 발명의 상세한 설명 및 실시예를 고려함으로써 해당 분야의 통상의 기술자에게 자명할 것이다. 상세한 설명 및 예는 단지 예시에 불과하다.
Claims (22)
- 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법에 있어서, 상기 방법은,
기판상에 복수의 전극을 제공하는 단계와,
잉크젯 프린팅을 통해, 기판상의 복수의 전극 위에 홀 전도성 레이어(hole conducting layer)를 형성하기 위해 홀 전도성 물질(hole conducting material)을 증착하는 단계와,
가둠 영역(confinement regions)과 경계 영역(boundary regions)을 형성하기 위하여, 홀 전도성 레이어의 선택된 표면 부분의 액체 친화성을 변화시키는 단계 - 상기 가둠 영역은 제1 액체 친화성을 가지며 상기 경계 영역은 제1 액체 친화성과는 다른 제2 액체 친화성을 가짐 - 와, 그리고
잉크젯 프린팅을 통해, 각각의 가둠 영역 내에 형성된 유기 발광 레이어를 형성하기 위해 홀 전도성 레이어 위에 유기 발광 물질을 증착하는 단계를 포함하며,
가둠 영역 각각이 복수의 전극들 중 하나 이상의 전극과 연관되며 하나 이상의 전극 각각의 활성 영역 보다 큰 영역에 걸쳐 뻗어있으며, 그리고
제1 액체 친화성이 상기 유기 발광 물질을 상기 가둠 영역으로 끌어들이기에 충분하고, 제2 액체 친화성이 상기 유기 발광 물질을 경계 영역으로부터 거부하기에 충분함을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법. - 제 1 항에 있어서, 잉크젯 프린팅을 통해, 상기 홀 전도성 물질을 증착하기 전에, 또 다른 홀 전도성 레이어를 형성하기 위해 또 다른 전도성 물질을 증착함을 더욱 포함하며, 상기 또 다른 홀 전도성 레이어가 복수의 전극과 상기 홀 전도성 레이어 사이에 배치됨을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 복수의 전극을 둘러싸는 기판상의 가둠 구조물(confinement structure)을 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 복수의 전극은 디스플레이의 활성 영역내에 배치되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 각각의 유기 발광 레이어 위에 제2 전극을 증착하되, 복수의 전극은 복수의 제1 전극인 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 5 항에 있어서, 제2 전극은 블랭킷 코팅(blanket-coating)을 통해 증착됨을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 각각의 복수의 전극의 부분 위에 픽셀 형성 레이어를 증착시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 7 항에 있어서, 픽셀 형성 레이어는 50 nm 내지 1500 nm 범위의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 선택된 표면 부분의 액체 친화성을 변화시키는 단계는, 마스크의 개구부를 통해 상기 홀 전도성 레이어의 선택된 표면 부분을 방사하는(radiating) 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 9 항에 있어서, 방사선은 적외선, 가시광선 및 자외선 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 홀 전도성 레이어는 물질의 연속인 레이어를 형성하기 위해 복수의 전극 위에 블랭킷 코팅을 통해 증착되며, 기판 반대편의 표면은 비평면 토포그래피를 가지는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 홀 전도성 레이어는 물질의 연속인 레이어를 형성하기 위해 복수의 전극 위에 블랭킷 코팅을 통해 증착되며, 기판 반대편의 표면은 비평면 토포그래피를 가지며,
상기 홀 전도성 물질은 물질의 연속인 레이어를 형성하기 위하여 또 다른 홀 전도성 레이어 위에 블랭킷 코팅을 통해 증착되며, 상기 또 다른 홀 전도성 레이어와 마주하지 않는 반대편의 상기 홀 전도성 레이어 표면은 비평면 토포그래피를 가짐을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이를 제조하는 방법. - 기판상에 배치된 복수의 전극 - 복수의 전극은 어레이 형태로 배열됨 - 과,
복수의 전극 위에 배치된 홀 전도성 레이어 - 홀 전도성 레이어의 표면 부분 액체 친화성이 홀 전도성 레이어 내에 가둠 영역 (confinement regions)과 경계 영역(boundary regions)을 형성하며, 상기 가둠 영역은 제1 액체 친화성을 가지며 상기 경계 영역은 제1 액체 친화성과는 다른 제2 액체 친화성을 가짐 - 와,
각각의 가둠 영역 내에 가두어진 유기 발광 레이어-상기 유기 발광 레이어가 유기 발광 물질 잉크로 만들어짐-를 포함하며,
가둠 영역 각각이 복수의 전극들 중 하나 이상의 전극과 연관되며 하나 이상의 전극 각각의 활성 영역 보다 큰 영역에 걸쳐 뻗어있으며,
제1 액체 친화성을 갖는 가둠 영역이 유기 발광 물질 잉크를 끌어들이고, 그리고
제2 액체 친화성을 갖는 경계 영역이 유기 발광 물질 잉크를 거부함을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이. - 제 13 항에 있어서, 또 다른 홀 전도성 레이어가 복수의 전극과 상기 홀 전도성 레이어 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이.
- 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 각각의 가둠 영역은 하나 이상의 경계 영역에 의해 둘러싸인 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이.
- 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 각각의 가둠 영역은 가둠 구조물에 의해 개별적으로 둘러싸이지 않음을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이.
- 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 복수의 전극은 디스플레이의 활성 영역 내에 배치되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이.
- 공정에 의해 제조된 유기 발광 디스플레이에 있어서, 상기 공정은,
기판상에 배치된 복수의 전극을 포함하는 기판을 제공하는 단계와,
잉크젯 프린팅을 통해, 기판상의 복수의 전극 위에 홀 전도성 레이어를 형성하기 위해 홀 전도성 물질을 증착하는 단계와,
가둠 영역 (confinement regions)과 경계 영역(boundary regions)을 형성하기 위해 상기 홀 전도성 레이어의 선택된 표면 부분의 액체 친화성을 변화시키는 단계- 상기 가둠 영역은 제1 액체 친화성을 가지며 상기 경계 영역은 제1 액체 친화성과는 다른 제2 액체 친화성을 가짐 - 와,
잉크젯 프린팅을 통해, 각 가둠 영역 내에 가두어진 유기 발광 레이어를 형성하기 위해 상기 홀 전도성 레이어 위에 유기 발광 물질을 증착하는 단계를 포함하며,
가둠 영역 각각이 복수의 전극들 중 하나 이상의 전극과 연관되며 하나 이상의 전극 각각의 활성 영역 보다 큰 영역에 걸쳐 뻗어있으며, 그리고
제1 액체 친화성이 상기 유기 발광 물질을 상기 가둠 영역으로 끌어들이기에 충분하고, 제2 액체 친화성이 상기 유기 발광 물질을 경계 영역으로부터 거부하기에 충분함을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이. - 제 18 항에 있어서, 기판상에 가둠 구조물을 제공하되, 상기 가둠 구조물은 복수의 전극을 둘러싸는 우물을 형성하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이.
- 제 18 항 또는 제 19 항에 있어서, 잉크젯 프린팅을 통해,
상기 홀 전도성 물질을 증착하기 전에, 또 다른 홀 전도성 레이어를 형성하기 위해 또 다른 홀 전도성 물질을 증착함을 더욱 포함하며, 상기 또 다른 홀 전도성 레이어가 복수의 전극과 상기 홀 전도성 레이어 사이에 배치됨을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이. - 삭제
- 제 18 항 또는 제 19 항에 있어서, 복수의 전극은 디스플레이의 활성 영역 내에 배치되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 디스플레이.
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201361753713P | 2013-01-17 | 2013-01-17 | |
| US201361753692P | 2013-01-17 | 2013-01-17 | |
| US61/753,713 | 2013-01-17 | ||
| US61/753,692 | 2013-01-17 | ||
| US14/030,776 | 2013-09-18 | ||
| US14/030,776 US9614191B2 (en) | 2013-01-17 | 2013-09-18 | High resolution organic light-emitting diode devices, displays, and related methods |
| PCT/US2014/011723 WO2014113497A1 (en) | 2013-01-17 | 2014-01-15 | High resolution organic light-emitting diode devices |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020187034660A Division KR101979181B1 (ko) | 2013-01-17 | 2014-01-15 | 고해상도 유기 발광 다이오드 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20150116857A KR20150116857A (ko) | 2015-10-16 |
| KR101926225B1 true KR101926225B1 (ko) | 2018-12-06 |
Family
ID=51210043
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020197013404A KR102095174B1 (ko) | 2013-01-17 | 2014-01-15 | 고해상도 유기 발광 다이오드 장치 |
| KR1020187034660A KR101979181B1 (ko) | 2013-01-17 | 2014-01-15 | 고해상도 유기 발광 다이오드 장치 |
| KR1020157021869A KR101926225B1 (ko) | 2013-01-17 | 2014-01-15 | 고해상도 유기 발광 다이오드 장치 |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020197013404A KR102095174B1 (ko) | 2013-01-17 | 2014-01-15 | 고해상도 유기 발광 다이오드 장치 |
| KR1020187034660A KR101979181B1 (ko) | 2013-01-17 | 2014-01-15 | 고해상도 유기 발광 다이오드 장치 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP2946423A4 (ko) |
| JP (3) | JP6494525B2 (ko) |
| KR (3) | KR102095174B1 (ko) |
| CN (2) | CN110120469A (ko) |
| WO (1) | WO2014113497A1 (ko) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111497448B (zh) * | 2015-12-07 | 2022-07-26 | 科迪华公司 | 用于以改进的均匀性和打印速度制造薄膜的技术 |
| JP6727844B2 (ja) * | 2016-02-25 | 2020-07-22 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
| CN106207012B (zh) * | 2016-08-15 | 2018-07-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素打印结构及其制作方法、显示装置和喷墨打印方法 |
| JP2018049805A (ja) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置、塗布方法、および有機ｅｌディスプレイ |
| CN106564315B (zh) * | 2016-10-21 | 2018-11-09 | 纳晶科技股份有限公司 | 涂布方法、涂布设备及发光器件 |
| CN207320118U (zh) | 2017-08-31 | 2018-05-04 | 昆山国显光电有限公司 | 像素结构、掩膜版及显示装置 |
| KR20190072108A (ko) * | 2017-12-15 | 2019-06-25 | 조율호 | 피라미드 서브 픽셀 배열 구조를 갖는 표시 장치 |
| CN108987431B (zh) * | 2017-12-21 | 2021-07-20 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 像素结构及其制作方法 |
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- 2014-01-15 KR KR1020197013404A patent/KR102095174B1/ko active IP Right Grant
- 2014-01-15 CN CN201910125811.7A patent/CN110120469A/zh active Pending
- 2014-01-15 KR KR1020187034660A patent/KR101979181B1/ko active IP Right Grant
- 2014-01-15 JP JP2015553806A patent/JP6494525B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-01-15 EP EP14740323.2A patent/EP2946423A4/en not_active Withdrawn
- 2014-01-15 KR KR1020157021869A patent/KR101926225B1/ko active Application Filing
- 2014-01-15 WO PCT/US2014/011723 patent/WO2014113497A1/en active Application Filing
- 2014-01-15 CN CN201480016484.7A patent/CN105051932B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2018
- 2018-02-08 JP JP2018020895A patent/JP6564478B2/ja active Active
-
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- 2019-05-08 JP JP2019088175A patent/JP2019145523A/ja active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2016507131A (ja) | 2016-03-07 |
| CN105051932A (zh) | 2015-11-11 |
| JP6494525B2 (ja) | 2019-04-03 |
| KR102095174B1 (ko) | 2020-03-30 |
| JP6564478B2 (ja) | 2019-08-21 |
| EP2946423A1 (en) | 2015-11-25 |
| CN110120469A (zh) | 2019-08-13 |
| JP2018078128A (ja) | 2018-05-17 |
| JP2019145523A (ja) | 2019-08-29 |
| CN105051932B (zh) | 2019-03-05 |
| KR20190053295A (ko) | 2019-05-17 |
| KR20150116857A (ko) | 2015-10-16 |
| KR20180130015A (ko) | 2018-12-05 |
| EP2946423A4 (en) | 2016-11-30 |
| WO2014113497A1 (en) | 2014-07-24 |
| KR101979181B1 (ko) | 2019-05-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E90F | Notification of reason for final refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| A107 | Divisional application of patent |