JP2005141815A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】スペーサ層上に形成された情報層について基板上に形成された情報層のジッター、ノイズ等の電気特性と同等の電気特性が得られる光記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】スペーサ層１６における基板１２と反対側の面に、凸部の径方向の幅を径方向の凹凸のピッチに対して５３％以上、且つ、７２％以下に制限した形状で凹凸パターンを転写し、該凹凸パターンに倣って第２情報層１８（スペーサ層上の情報層）を形成した。
【選択図】図１

Description

本発明は、基板上に形成された情報層上にスペーサ層が形成され、スペーサ層上に次の情報層が形成された光記録媒体及びその製造方法に関する。

近年、情報記録媒体としてＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄｉｓｃ）、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ）等の光記録媒体が急速に普及している。光記録媒体は一般的に外径が１２０ｍｍ、厚さが１．２ｍｍに統一されているが、ＤＶＤは照射光としてＣＤよりも波長が短いレーザ光を用いると共に、照射光のレンズの開口数をＣＤよりも大きくすることでＣＤよりも高密度で大容量の情報を記録・再生できるようにされている。

一方、照射光の波長が短く、レンズの開口数が大きいほどディスクの傾き、反りによりコマ収差が発生して情報の記録・再生精度が低下する傾向があるため、ＤＶＤは光透過層の厚さをＣＤの半分の０．６ｍｍとすることで、ディスクの傾き、反りに対するマージンを確保し、情報の記録・再生精度を維持している。尚、０．６ｍｍの光透過層のみでは剛性、強度が不充分であるため、ＤＶＤは、０．６ｍｍの基板を２枚、情報記録面を内側にして貼り合わせた構造とされて厚さがＣＤと等しい１、２ｍｍとされ、ＣＤと同等の剛性、強度が確保されている。

ここで、一層高密度で大容量の情報の記録を実現すべく、更に照射光の波長を短かくすると共にレンズの開口数を大きくし、これに対応して一層薄い光透過層を形成した光記録媒体が注目されている（例えば、特許文献１参照）。

尚、仕様を統一すべく、照射光として波長が約４０５ｎｍの青紫色のレーザ光を用いると共に開口数を０．８５とし、これに対応して光透過層の厚さを約１００μｍとした光記録媒体が普及しつつあり、情報層のピットやグルーブの凹凸パターンのトラックピッチ（径方向の凹凸のピッチ）を約３２０ｎｍとするように提案されている。

又、この光記録媒体は、ピットやグルーブの凹凸パターンを有する基板の片面又は両面に形成した情報層上にスペーサ層を介して更に情報層を形成することで２層記録式とすることができる。２層記録式も仕様を統一すべくスペーサ層及び光透過層の合計の厚さを約１００μｍとし、スペーサ層の厚さを約２５μｍ、光透過層の厚さを約７５μｍとするように提案されている。尚、スペーサ層を２層以上形成して３層以上の情報層を形成した多層記録式とすることも可能である。

ピットや、グルーブの凹凸パターンの複数の情報層を形成する手法としては、まず、射出成形により基板に凹凸パターンを転写し、この凹凸パターンに倣ってスパッタリング等により情報層を形成し、次に該情報層上に流動状態のエネルギ線硬化性樹脂を供給し、該エネルギ線硬化性樹脂上に透光性スタンパを当接させて凹凸パターンを転写し、透光性スタンパを介して紫外線、電子線等のエネルギ線を照射してエネルギ線硬化性樹脂硬化させてから透光性スタンパを剥離させることによりスペーサ層を形成し、このスペーサ層の凹凸パターンに倣ってスパッタリング等により前記情報層の次の情報層を形成する手法が知られている（例えば特許文献２参照）。

特開２００３―８５８３６号公報 特開２００３―９１８８７号公報

しかしながら、この手法でトラックピッチが３２０ｎｍ程度の凹凸パターンの情報層を形成した場合、スペーサ層上に形成した情報層のジッター、ノイズ等の電気特性が基板上に形成した情報層のジッター、ノイズ等の電気特性に対して劣る傾向があり、スペーサ層上に形成した情報層について所望の電気特性が得られないという問題があった。

本発明は、この問題点に鑑みてなされたものであって、スペーサ層上に形成した情報層に関して基板上に形成した情報層の電気特性と同等の良好な電気特性が得られる光記録媒体及びその製造方法を提供することをその課題とする。

本発明は、スペーサ層上に形成する情報層の凹凸パターンの凸部の径方向の幅を径方向の凹凸のピッチに対して所定の範囲に制限することにより上記課題の解決を図ったものである。

発明者は、スペーサ層上に形成する情報層のジッター、ノイズ等の電気特性を向上させるべく、スペーサ層に様々な凹凸パターンを形成することを試行錯誤した結果、スペーサ層における基板と反対側の面に形成する凹凸パターンの凸部の径方向の幅が広い程、その凹凸パターンに倣って形成される情報層の電気特性が向上する傾向があることを見出した。その原因は必ずしも明らかではないが、概ね次のように考えられる。

スペーサ層を形成する際、流動状態のエネルギ線硬化性樹脂は基板、透光性スタンパの凹凸パターンの凹部に入り込み、スペーサ層に凹凸パターンが転写されるが、エネルギ線硬化性樹脂はその粘性のため、基板、透光性スタンパの凹部の隅まで完全に入り込むことが困難であり、スペーサ層の凹凸パターンの凸部の周縁部は若干丸みを帯びた形状になりやすい。凸部の幅が狭い場合、凸部の幅に対する先端の平坦部分の割合が小さくなり、所望の凸部の形状と実際の凸部の形状とのずれが相対的に大きくなる。これに対し、凸部の幅が広い場合、凸部の周縁が丸みを帯びていても凸部の幅に対する先端の平坦部分の割合が大きくなる。即ち、所望の凸部の形状と実際の凸部の形状とのずれが相対的に小さくなり、これに倣って形成される情報層の形状も所望の形状に近い形状となるためジッター、ノイズ等の電気特性が向上すると考えられる。

尚、スペーサ層の凹凸パターンの凸部の幅が広いと、凹部がそれだけ狭くなるので、凹凸パターンを転写するための透光性スタンパの凸部の幅を狭くする必要があるが、透光性スタンパの凸部の幅が過度に狭いと、透光性スタンパの凹凸面の変形、透光性スタンパ剥離時における透光性スタンパの凸部の破損等の他の問題が生じうるため、スペーサ層の凹凸パターンの凸部の幅は所定の上限値以下に制限することが好ましい。

即ち、以下の発明により上記課題を解決したものである。

（１）基板上に形成された情報層上にスペーサ層が形成され、該スペーサ層上に前記情報層の次の情報層が形成された光記録媒体であって、前記スペーサ層における前記基板と反対側の面に、グルーブ及びピットの少なくとも一方を構成する凹凸パターンが、凸部の径方向の幅が径方向の凹凸のピッチに対して５３％以上、且つ、７２％以下に制限された形状で形成され、該凹凸パターンに倣って前記スペーサ層上に前記情報層が形成されたことを特徴とする光記録媒体。

（２）前記スペーサ層における前記基板と反対側の面に、グルーブ及びピットの少なくとも一方を構成する凹凸パターンが、凸部の径方向の幅が径方向の凹凸のピッチに対して６２％以上に制限された形状で形成され、該凹凸パターンに倣って前記スペーサ層上に前記情報層が形成されたことを特徴とする前記（１）の光記録媒体。

（３）基板上に形成した情報層上にエネルギ線硬化性樹脂を供給し、該エネルギ線硬化性樹脂上に透光性スタンパを当接させてグルーブ及びピットの少なくとも一方を含む凹凸パターンを転写し、前記透光性スタンパを介してエネルギ線を照射して前記エネルギ線硬化性樹脂を硬化させてから前記透光性スタンパを剥離させることによりスペーサ層を形成し、該スペーサ層上に前記凹凸パターンに倣って前記情報層の次の情報層を形成するようにした光記録媒体の製造方法であって、前記スペーサ層における前記基板と反対側の面に、凸部の径方向の幅を径方向の凹凸のピッチに対して５３％以上、且つ、７２％以下に制限した形状で前記凹凸パターンを転写し、該凹凸パターンに倣って前記スペーサ層上に前記情報層を形成するようにしたことを特徴とする光記録媒体の製造方法。

（４）前記スペーサ層における前記基板と反対側の面に、凸部の径方向の幅を径方向の凹凸のピッチに対して６２％以上に制限した形状で前記凹凸パターンを転写し、該凹凸パターンに倣って前記スペーサ層上に前記情報層を形成するようにしたことを特徴とする前記（３）の光記録媒体の製造方法。

尚、一般的に、「ピット」、「グルーブ」という用語は情報伝達のための微細な凹部という意義で用いられるが、本出願では便宜上、情報伝達のための凹凸であれば凸部であっても便宜上「ピット」、「グルーブ」という用語を用いることとする。

又、「エネルギ線」という用語は流動状態の特定の樹脂を硬化させる性質を有する、例えば紫外線、電子線等の、電磁波、粒子線の総称という意義で用いることとする。

本発明は、スペーサ層上に形成する情報層の凹凸パターンの凸部の径方向の幅を径方向の凹凸のピッチに対して所定の範囲に制限することにより、スペーサ層上に形成する情報層のジッター、ノイズ等の電気特性を向上させることができる。

以下、本発明を実施するための好ましい形態について図面を参照して詳細に説明する。

本実施形態は、図１に示されるような光記録媒体１０における第２情報層１８の凹凸パターンの形状に特徴を有するが、本実施形態の理解のため、まず光記録媒体１０の構造について簡単に説明しておく。

光記録媒体１０は、外径が約１２０ｍｍ、厚さが約１．２ｍｍの円板形状で、基板１２の片面に第１情報層１４、スペーサ層１６、第２情報層１８、光透過層２０がこの順で形成された片面２層記録式の光ディスクである。尚、光記録媒体１０には、内径が約１５ｍｍの中心孔１０Ａが形成されている。

基板１２は材質がポリカーボネート、アクリル、エポキシ等の樹脂で、厚さは約１．１ｍｍである。又、基板１２の第１情報層１４側の面には情報伝達のためのピットや、トラッキングサーボのためのグルーブの凹凸パターンが形成されている。

第１情報層１４は、基板１２の凹凸パターンに倣って凹凸パターン形状で形成されている。尚、第１情報層１４は、基板１２、スペーサ層１６、光透過層２０に対し著しく薄い層であるため、線で図示することとする。第１情報層１４は、用途に応じて一又は複数の機能層で構成される。例えば、光記録媒体１０がＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）タイプの場合、第１情報層１４は材料がＡｌ、Ａｇ、Ａｕ等の反射層で構成され、ＲＷ（Ｒｅ−Ｗｒｉｔａｂｌｅ）タイプの場合、反射層に加え、相変化材料層、光磁気材料層、誘電体層等の層で構成され、Ｒ（Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）タイプの場合、反射層に加え、相変化材料層、有機色素層等の層で構成される。

スペーサ層１６は、厚さが約２５μｍで、材料は例えばアクリル系紫外線硬化性樹脂、エポキシ系紫外線硬化性樹脂等の透光性を有するエネルギ線硬化性樹脂で構成されている。

スペーサ層１６における第１情報層１４側の面は、第１情報層１４の凹凸パターンに倣って凹凸パターン形状とされている。又、スペーサ層１６における第２情報層１８側の面もピットや、グルーブの凹凸パターン形状とされている。この第２情報層１８側の面の凹凸パターンは、隣接する一対の凹部及び凸部の径方向の端部の距離であるトラックピッチ（径方向の凹凸のピッチ）を１００％とした場合、光透過層２０側に突出する凸部の径方向の幅がトラックピッチに対して５３％以上、且つ、７２％以下に制限された形状とされている。

第２情報層１８は、スペーサ層１６の凹凸パターンに倣って形成されている。尚、第２情報層１８も第１情報層１４と同様に、用途に応じて一又は複数の機能層で構成され、第１情報層１４と同様に、基板１２、スペーサ層１６、光透過層２０に対し著しく薄い層であるため、線で図示することとする。

光透過層２０は、厚さが約７５μｍで、材料はスペーサ層１６と同様の透光性を有するアクリル系紫外線硬化性樹脂、エポキシ系紫外線硬化性樹脂等のエネルギ線硬化性樹脂である。尚、光透過層２０における第２情報層１８側の面は、第２情報層１８の凹凸パターンに倣って凹凸パターン形状とされているが、光透過層２０の表面（第２情報層１８と反対側の面）は平坦である。

次に、図２に示されるフローチャート等を参照しながら光記録媒体１０の製造方法について説明する。

まず、射出成形により、図３に示されるような、外径が約１２０ｍｍ、厚さが約１．１ｍｍの円板形状の基板１２を成形する（Ｓ１０２）。この際、基板１２の片面にピットや、グルーブの凹凸パターンを形成する。この凹凸パターンは射出成形により高精度で形成される。又、射出成形において基板１２の凹凸パターンが形成された面と反対側の面には中心孔１０Ａと内径が等しい円形凹部１２Ｃを形成する。更に、射出成形において基板１２に前記中心孔１０Ａよりも内径が小さな製造用孔１２Ｂを形成しておく。尚、製造用孔１２Ｂは、射出成形した後、基板１２に工具等を用いて形成してもよい。

基板１２は、通常、複数重ねた状態で保管し、又、搬送等することになるが、例えば丸棒状のガイド等を製造用孔１２Ｂに挿入することで複数の基板１２を容易に整列状態で重ねることができるので、それだけ保管、搬送等を容易に行うことができ、生産効率の向上に寄与する。

次に、基板１２の凹凸パターンが形成された面上に、スパッタリング法、蒸着法等により、第１情報層１４を形成する（Ｓ１０４）。第１情報層１４は、基板１２の凹凸パターンに倣って凹凸パターン形状に形成される。基板１２の凹凸パターンは形状精度が良いので、第１情報層１４の凹凸パターンの形状精度も良い。

次に、図４に示されるように、基板１２の製造用孔１２Ｂに芯材２２を挿入させつつ、第１情報層１４を上向きにして回転テーブル２４の上に基板１２を水平に載置する。

回転テーブル２４は、水平に配置された円板形状のテーブル部２４Ａから軸部２４Ｂが下方に突出した構造であり、軸部２４Ｂ内には、テーブル部２４Ａの上面に連通する通気孔２４Ｃが形成されている。尚、軸部２４Ｂは図示しない回転駆動機構に係合されている。又、通気孔２４Ｃには図示しない負圧供給器が連結されている。

芯材２２は、常態における外径が製造用孔１２Ｂの内径よりも若干小さい丸棒状体で製造用孔１２Ｂに遊嵌可能とされている。又、芯材２２は、材料がシリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、オレフィン樹脂、これらの混合物等で弾性を有すると共に中空構造（図示省略）とされ、下端において内部が給気手段２６に連通しており、内部に給気されることにより膨張して外径が大きくなり、製造用孔１２Ｂの内周に密着するように構成されている。

まず、図５に示されるように、給気手段２６により芯材２２を膨張させて製造用孔１２Ｂの内周に密着させ、テーブル部２４Ａの上面に負圧を供給し、基板１２を吸着して回転テーブル２４に固定し、基板１２の全面に流動状態でエネルギ線硬化性樹脂を膜厚がスペーサ層１６の膜厚の２５μｍよりも充分厚くなるように所定量塗布する。尚、芯材２２は製造用孔１２Ｂの内周に密着しているので、芯材２２と、基板１２との間にエネルギ線硬化性樹脂は浸入しない。

次に、図６に示されるように、透光性スタンパ２８を基板１２に接近させる。透光性スタンパ２８は、略円板形状でアクリル、オレフィン、ガラス等の透光性材料で構成され、片面がピットや、グルーブの凹凸パターンを転写するための転写面２８Ａとされている。この転写面２８Ａには、凹部の幅がトラックピッチ（径方向の凹凸のピッチ）に対して５３％以上、且つ、７２％以下に制限された凹凸パターンが形成されている。尚、転写面２８Ａの凸部の幅は、トラックピッチに対して２８％以上であるので、転写面の凹凸パターンは変形、損傷等が生じにくくなっている。又、透光性スタンパ２８は、中心近傍に、芯材２２と遊嵌するだけの内径の貫通孔２８Ｂが形成されている。

この透光性スタンパ２８を、図７に示されるように、塗布したエネルギ線硬化性樹脂に当接させて加圧し、基板１２に対して約２５μｍの位置まで接近させると、エネルギ線硬化性樹脂は第１情報層１４の凹部及び透光性スタンパ２８の転写面２８Ａの凹部に入り込み、これによりエネルギ線硬化性樹脂の両面にピットや、グルーブの凹凸パターンが転写され、スペーサ層１６の形状に成形される（Ｓ１０６）。スペーサ層１６における基板１２と反対側の面には凸部の幅がトラックピッチ（凹凸のピッチ）に対して５３％以上、且つ、７２％以下に制限された凹凸パターンが転写される。

この際、エネルギ線硬化性樹脂は流動状態である一方、その粘性のため、図８に拡大して示されるように、透光性スタンパ２８の転写面２８Ａの凹部の隅まで入りこむことができず、スペーサ層１６の凹凸パターンの凸部は周縁が若干丸みを帯びた形状に形成されることがあるが、凸部の幅はトラックピッチ（凹凸のピッチ）に対して５３％以上で充分広いため、周縁が丸みを帯びていても幅に対する先端の平坦部分の割合が大きく、所望の凸形状に対するずれは小さい。即ち、スペーサ層１６の凹凸パターンは形状精度が良い。

尚、透光性スタンパ２８をエネルギ線硬化性樹脂に当接させてから、回転テーブル２４を回転させて、遠心力によりエネルギ線硬化性樹脂を径方向外側に流動させ、その一部を基板１２及び透光性スタンパ２８の間から径方向外側に排出し、透光性スタンパ２８を、負圧により基板１２に接近させてエネルギ線硬化性樹脂の両面に凹凸パターンを転写しつつ膜厚を約２５μｍとしてもよい。又、プレスと回転とを併用してエネルギ線硬化性樹脂の両面に凹凸パターンを転写しつつ膜厚を約２５μｍとしてもよい。

次に、図９に示されるように、透光性スタンパ２８を介してスペーサ層１６に一様に紫外線等のエネルギ線を照射してスペーサ層１６を硬化させる（Ｓ１０８）。

ここで、図１０に示されるように、透光性スタンパ２８をスペーサ層１６から離脱させ、更に、芯材２２内を減圧して膨張状態から常態に戻し、芯材２２も基板１２から離脱させる。尚、芯材２２は材料がシリコーン樹脂、フッ素樹脂等であるので、スペーサ層１６と固着しにくく、基板１２を芯材２２から容易に離脱させることができる。

更に、スペーサ層１６が形成された基板１２を一旦、回転テーブル２４から取外し、スペーサ層１６上に、スパッタリング法、蒸着法等により、第２情報層１８を形成する（Ｓ１１０）。第２情報層１８は、スペーサ層１６の（基板１２から離反する側の面の）凹凸パターンに倣って凹凸パターン形状に形成される。スペーサ層１６の凹凸パターンは形状精度が良いので、第２情報層１８の凹凸パターンも形状精度が良い。

次に、基板１２を再度回転テーブル２４に保持し、製造用孔１２Ｂの内周に芯材２２を密着させてから、図１１に示されるように、回転テーブル２４を回転駆動しつつ、ノズル３２を芯材２２の近傍に接近させ、ノズル３２から第２情報層１８上にエネルギ線硬化性樹脂を流動状態で所定量供給すると、供給されたエネルギ線硬化性樹脂は、遠心力により径方向外側に展延される。この際、外径が中心孔１０Ａよりも小さな芯材２２の近傍の樹脂に作用する遠心力は外周に比べ小さいことから、スペーサ層１６上における樹脂の流動量は緩衝されて安定する。又、芯材２２に付着した樹脂はその粘性により芯材２２の近傍に留まろうとするので、スペーサ層１６上における樹脂の流動量を緩衝する効果が高められている。

これにより、図１２に示されるように、光透過層２０がスペーサ層１６の全面に約７５μｍの均一な厚さで展延される（Ｓ１１２）。

次に、図１３に示されるように、回転テーブル２４の回転を停止し、展延された光透過層２０に一様にエネルギ線を照射し、展延した光透過層２０を硬化させる（Ｓ１１４）。

次に、芯材２２内を減圧して膨張状態から常態に戻し、基板１２から離脱させ、基板１２を回転テーブル２４から取外し、製造用孔１２Ｂに治具を嵌合させて基板１２を位置決めしてから（図示省略）、図１４に示されるように、外径が中心孔１０Ａの内径と等しい円形工具３４を基板１２に同軸的に配置して、軸方向に基板１２に当接・貫通させて基板１２を打抜き、中心孔１０Ａを形成する（Ｓ１１６）。基板１２には、中心孔１０Ａと内径が等しい円形凹部１２Ｃが形成されているので、それだけ打抜きが容易である。又、製造用孔１２Ｂを利用して基板１２を位置決めすることで、中心孔１０Ａの偏心量を小さく抑制することができる。

これにより、光記録媒体１０が完成する。

尚、本実施形態において、スペーサ層１６、光透過層２０の材料としてアクリル系紫外線硬化性樹脂、エポキシ系紫外線硬化性樹脂が例示されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば電子線硬化性樹脂等の透光性を有する他のエネルギ線硬化性樹脂を用いてもよい。

又、本実施形態において、芯材２２は、材料がシリコーン樹脂、フッ素樹脂等で弾性を有し、常態で外径が製造用孔１２Ｂの内径よりも若干小さい丸棒状体で製造用孔１２Ｂに遊嵌可能とされているが、本発明はこれに限定されるものではなく、製造用孔１２Ｂの内周に密着することができる構造であれば、芯材の材料、形状は特に限定されない。又、芯材２２に代えて蓋状の部材で基板１２の製造用孔１２Ｂを閉塞し、製造用孔１２Ｂへのエネルギ線硬化性樹脂の浸入を防止してもよい。

又、本実施形態において、光記録媒体１０は中心孔１０Ａを有する円板形状とされているが、本発明はこれに限定されるものではなく、中心孔がない円板形状の多層記録式の光記録媒体の製造に対しても本発明は当然適用可能である。

又、本実施形態において、光記録媒体１０は１層のスペーサ層と、２層の情報層と、を有する２層記録式であるが、本発明はこれに限定されるものではなく、２層以上のスペーサ層と、３層以上の情報層と、を有する多層記録式の光記録媒体に対しても本発明を適用すれば同様の効果が得られる。

又、本実施形態において、光記録媒体１０は片面のみに情報を記録可能である片面多層記録式とされているが、本発明はこれに限定されるものではなく、両面に情報を記録可能である両面２層記録式の光記録媒体に対しても本発明は当然適用可能である。この場合、基板の厚さを約１．０ｍｍとし、基板の両面に厚さが２５μｍのスペーサ層、厚さが７５μｍの光透過層を形成することで、厚さが１．２ｍｍの光記録媒体とすることができる。

尚、第１情報層１４の凹凸パターンは、第２情報層１８の凹凸パターンと等しいパターンとしてもよく、異なるパターンとしてもよい。

第２情報層１８の形状が異なる３種類の光記録媒体１０を上記実施形態のとおり各種類毎に１０枚ずつ、計３０枚作製した。具体的には、第２情報層１８の凹凸パターンは、トラックピッチが約３２０ｎｍ、高さが約２０ｎｍの螺旋状のグルーブ形状とし、グルーブの幅が、約１７０ｎｍ（トラックピッチの約５３％）、約２００ｎｍ（トラックピッチの約６２％）、約２３０ｎｍ（トラックピッチの約７２％）と、３種類の光記録媒体１０毎に異なるようにした。

尚、本実施例においてグルーブは、図１６に符号Ｇで示すように光透過層２０側に突出する凸部である。

又、第１情報層１４の凹凸パターンについても、トラックピッチが約３２０ｎｍ、高さが約２０ｎｍの螺旋状のグルーブ形状としたが、グルーブの幅は約１６０ｎｍ（トラックピッチの約５０％）とした（３種類の光記録媒体１０について共通）。

又、スペーサ層１４の材料であるエネルギ線硬化性樹脂としては、下記の材料を用いた。

ペンタエリスリトールトリアクリレート ：約５０質量部
ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート：約５０質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ：約 ３質量部

これらの光記録媒体１０について第２情報層１８のジッターを測定し、グルーブの幅が等しい１０枚の光記録媒体１０の平均値を算出したところ、表１に示されるように、グルーブの幅が１７０ｎｍの場合７．７３％、グルーブの幅が２００ｎｍの場合７．２１％、グルーブの幅が２３０ｎｍの場合７．２５％であった。

尚、これらの光記録媒体１０の第１情報層１４のジッターについても測定し、１０枚の光記録媒体１０の平均値を算出したところ、表１に示されるように、７．４２％であった。

又、これらの光記録媒体１０について第２情報層１８のノイズ（ｄＢｍ）を複数の周波数（ＭＨｚ）について測定し、グルーブの幅が等しい１０枚の光記録媒体１０の平均値を算出したところ、表２及び図１５に示されるような結果であった。尚、図１５中において符号Ａを付した曲線はグルーブの幅が２３０ｎｍの場合を、符号Ｂを付した曲線はグルーブの幅が２００ｎｍの場合を、符号Ｃを付した曲線はグルーブの幅が１７０ｎｍを示す。又、これらの光記録媒体１０の第１情報層１４についても複数の周波数（ＭＨｚ）についてノイズ（ｄＢｍ）を測定したところ、表２及び図１５に符号Ｄを付した曲線で示されるような結果であった。

尚、ジッター、ノイズの測定には、光ディスク評価機ＤＤＵ１０００（パルステック社製）を用いた。

[比較例]
上記実施例に対し、第２情報層１８の凹凸パターンのグルーブの幅が異なる２種類の光記録媒体１０を各種類毎に１０枚ずつ、計２０枚作製した。具体的には、第２情報層１８の凹凸パターンのグルーブの幅が、約１５０ｎｍ（トラックピッチの約４７％）、約１６０ｎｍ（トラックピッチの約５０％）の２種類の光記録媒体１０を作製した。他の条件については上記実施例と同様とした。

これらの光記録媒体１０について第２情報層１８のジッターを測定し、グルーブの幅が等しい１０枚の光記録媒体１０の平均値を算出したところ、表１に示されるように、グルーブの幅が１５０ｎｍの場合１０．３％、グルーブの幅が１６０ｎｍの場合８．８４％であった。

又、これらの光記録媒体１０について第２情報層１８のノイズ（ｄＢｍ）を複数の周波数（ＭＨｚ）について測定し、グルーブの幅が等しい１０枚の光記録媒体１０の平均値を算出したところ、表２及び図１５に示されるような結果であった。尚、図１５中において符号Ｅを付した曲線はグルーブの幅が１６０ｎｍの場合を、符号Ｆを付した曲線はグルーブの幅が１５０ｎｍの場合を示す

表１に示されるように、第２情報層１８のジッターは、グルーブの幅が広いほど小さくなる傾向があることが確認された。比較例（グルーブの幅が１５０ｎｍ、１６０ｎｍ）は第２情報層１８のジッターが目標上限値の８％を超えているのに対し、実施例（グルーブの幅が１７０ｎｍ、２００ｎｍ、２３０ｎｍでトラックピッチに対して５３％以上）はジッターが目標上限値の８％を下回り良好であった。特に、グルーブの幅が２００ｎｍ（トラックピッチの約６２％）以上の場合、第２情報層１８のジッターは、第１情報層１４のジッターを下回り、特に良好であった。

又、表２及び図１５に示されるように、比較例は第２情報層１８のノイズの値が、第１情報層１４のノイズの値を上回っているのに対し、実施例は、第２情報層１８のノイズの値が、第１情報層１４のノイズの値と同レベル以下に抑制されており良好であった。特に、グルーブの幅が２００ｎｍ（トラックピッチの約６２％）以上の場合、第２情報層１８のノイズの値は、第１情報層１４のノイズの値を下回り、特に良好であった。

即ち、第２情報層１８の良好な電気特性を得るためには、トラックピッチに対するグルーブの幅を５３％以上とすれば良く、トラックピッチに対するグルーブの幅を６２％以上とすることで一層良好な結果がえられることが確認された。尚、透光性スタンパの転写面の凹凸パターンの変形、損傷等を防止するためには、トラックピッチに対するグルーブの幅を７２％以下とすることが好ましい。

本発明は、複数の情報層と、これら情報層を隔てるスペーサ層と、を有してなる光記録媒体を製造するために利用することができる。

本発明の実施形態に係る光記録媒体の構造を模式的に示す側断面図 同光記録媒体の製造工程の概要を示すフローチャート 同光記録媒体の製造工程における基板の構造を模式的に示す側断面図 同基板の製造用中心孔に芯材を挿入した状態を模式的に示す側断面図 同基板の全面にエネルギ線硬化性樹脂を塗布した状態を模式的に示す側断面図 同エネルギ線硬化性樹脂上に透光性スタンパを接近させた状態を模式的に示す側断面図 同透光性スタンパによるスペーサ層の成形工程を模式的に示す側断面図 同スペーサ層の凹凸パターンの形状を拡大して模式的に示す側断面図 同スペーサ層の硬化工程を模式的に示す側断面図 同スペーサ層から透光性スタンパ及び芯材を離脱した状態を模式的に示す側断面図 同スペーサ層上への光透過層の展延過程を模式的に示す側断面図 同光透過層が所定の厚さに展延された状態を模式的に示す側断面図 同光透過層の硬化工程を模式的に示す側断面図 中心孔形成工程を模式的に示す側断面図 本発明の実施例及び比較例に係る光記録媒体のノイズの値を示すグラフ 本発明の実施例に係る光記録媒体の情報層の形状を拡大して模式的に示す側断面図

符号の説明

１０…光記録媒体
１０Ａ…中心孔
１２…基板
１２Ｂ…製造用孔
１４…第１情報層
１６…スペーサ層
１８…第２情報層
２０…光透過層
２２…芯材
２４…回転テーブル
２６…給気手段
２８…透光性スタンパ
３２…ノズル
３４…円形工具

Claims (4)

1. 基板上に形成された情報層上にスペーサ層が形成され、該スペーサ層上に前記情報層の次の情報層が形成された光記録媒体であって、
   前記スペーサ層における前記基板と反対側の面に、グルーブ及びピットの少なくとも一方を構成する凹凸パターンが、凸部の径方向の幅が径方向の凹凸のピッチに対して５３％以上、且つ、７２％以下に制限された形状で形成され、該凹凸パターンに倣って前記スペーサ層上に前記情報層が形成されたことを特徴とする光記録媒体。
2. 請求項１において、
   前記スペーサ層における前記基板と反対側の面に、グルーブ及びピットの少なくとも一方を構成する凹凸パターンが、凸部の径方向の幅が径方向の凹凸のピッチに対して６２％以上に制限された形状で形成され、該凹凸パターンに倣って前記スペーサ層上に前記情報層が形成されたことを特徴とする光記録媒体。
3. 基板上に形成した情報層上にエネルギ線硬化性樹脂を供給し、該エネルギ線硬化性樹脂上に透光性スタンパを当接させてグルーブ及びピットの少なくとも一方を含む凹凸パターンを転写し、前記透光性スタンパを介してエネルギ線を照射して前記エネルギ線硬化性樹脂を硬化させてから前記透光性スタンパを剥離させることによりスペーサ層を形成し、該スペーサ層上に前記凹凸パターンに倣って前記情報層の次の情報層を形成するようにした光記録媒体の製造方法であって、
   前記スペーサ層における前記基板と反対側の面に、凸部の径方向の幅を径方向の凹凸のピッチに対して５３％以上、且つ、７２％以下に制限した形状で前記凹凸パターンを転写し、該凹凸パターンに倣って前記スペーサ層上に前記情報層を形成するようにしたことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
4. 請求項３において、
   前記スペーサ層における前記基板と反対側の面に、凸部の径方向の幅を径方向の凹凸のピッチに対して６２％以上に制限した形状で前記凹凸パターンを転写し、該凹凸パターンに倣って前記スペーサ層上に前記情報層を形成するようにしたことを特徴とする光記録媒体の製造方法。

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