JP2005018882A - 光ディスク - Google Patents
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Abstract
【課題】記録領域を拡大できるようにし、それにより記録容量を増加させた光ディスクを供給する。
【解決手段】一方の面に、グルーブ又はピット列が形成されている円板状の基板3と、基板3の一方の面の全面上に順次形成された少なくとも反射層(情報層1)と光透過層2とを有し、センタ穴を有しない光ディスクであって、基板3の他方の面に、光ディスクを回転させるためのドライブに装着固定するための所定形状の非貫通穴(ドライブ案内穴4)を設けた。
【選択図】 図1
【解決手段】一方の面に、グルーブ又はピット列が形成されている円板状の基板3と、基板3の一方の面の全面上に順次形成された少なくとも反射層(情報層1)と光透過層2とを有し、センタ穴を有しない光ディスクであって、基板3の他方の面に、光ディスクを回転させるためのドライブに装着固定するための所定形状の非貫通穴(ドライブ案内穴4)を設けた。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスクに係り、特に記録容量を増大するのに好適な光ディスクに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般に、高密度にデ−タを記録できる光ディスクは、オーディオ及び画像データの記録用として、又はコンピュータメモリとして広く使用されている。
この光ディスクにおいては、センターに貫通穴(以下、センタ穴ともいう)が設けられた透明なディスク基板の表面上に、溝やピットからなる情報層が形成されている。さらに、このディスク基板の表面上に、金属反射膜、有機物又は無機物からなる記録層及び各種の保護層が積層されて、光ディスクが形成されている。
【0003】
光ディスクにおいては、記録密度の向上及び記録容量の向上が常に求められており、例えば、上記のような構成の光ディスクを2枚貼り合せて、記録容量を向上させたものも出現している。
光ディスクの記録密度を向上するには、記録層の記録するピットのサイズを小さくして、その密度を向上する。それには、記録再生に用いるレーザ光の波長を短くすること、レーザ光を記録層に照射するための対物レンズのNAを大きくすることが必要である。
【0004】
また、対物レンズと光ディスクの記録層の下に設けた反射膜との距離を短くして対物レンズのコマ収差を抑制する。このため、レーザ光が通過する層(光透過層である)の厚さを薄くする必要があり、さらに、対物レンズの焦点深度が浅くなるので、光透過層の厚さの均一化が要求される。そして、厚さの均一な薄い保護層を光透過層として設けた、高密度記録対応の記録再生用の光ディスクが知られている。
【0005】
このような構造の光ディスクとしては、厚さ100μm程度の透明な樹脂シートを、記録層上に厚さ数μmの接着剤を介して貼り付けて構成した光ディスク(例えば、特許文献1参照。)や、記録層上に紫外線硬化樹脂をスピンコートして厚さ100μm程度の光透過層を形成する光ディスク(例えば、特許文献2参照。)が知られている。
【0006】
【特許文献1】
特開2000−311392号公報
【特許文献2】
特開2001−307380号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述の樹脂シート貼り合わせタイプの光ディスクにおいては、高い貼り合わせ精度が必要であり、歩留まり良く作製できない。
一方、紫外線硬化樹脂を塗布するタイプの光ディスクにおいては、そのディスク基板面中心(センター)に直径11乃至15mmの貫通穴(センタ穴)を設けてあるので、紫外線硬化樹脂の膜厚を全面均一にすることが困難であること、また、中心(内周)側の記録領域に制限がある(例えば、ミニディスクでは、センター穴直径が11mmで、記録再生開始の最内周直径が29mmであり、CDではセンター穴直径が15mmで、再生開始の最内周直径が45mmであり、DVDではセンター穴直径が15mmで、記録再生開始の最内周直径が43mmである。)という問題がある。
【0008】
そこで本発明は、上記問題を解決して、光ディスクにおいて、記録領域を拡大できるようにし、それにより記録容量を増加させた光ディスクを供給することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための手段として、本発明の光ディスクは、一方の面に、グルーブ又はピット列が形成されている円板状の基板3と、前記基板3の前記一方の面の全面上に順次形成された少なくとも反射層(情報層1)と光透過層2とを有し、センタ穴を有しない光ディスクであって、
前記基板3の他方の面に、前記光ディスクを回転させるためのドライブに装着固定するための所定形状の非貫通穴(ドライブ案内穴4)を設けたことを特徴とする光ディスクである。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態につき、好ましい実施例により、図面を参照して説明する。
【0011】
<実施例>
図1は、本発明の光ディスクの実施例を示す断面構成図である。
同図に示すように、本実施例の光ディスク10は、ディスク基板(以下、単に基板ともいう)3と、このディスク基板3上に順次形成した情報層1及び光透過層(保護層)2より構成される。
【0012】
本実施例の光ディスク10は、相変化型記録層を有する記録再生型の光ディスクである。
ディスク基板3は、例えば直径120mmで厚さ1.1mm±0.1mmのポリカーボネート樹脂より形成される。ディスク基板3には、従来の光ディスクに設けられているセンタ穴は設けられていない。代わりに、ディスク基板3の一方の面側には、ドライブ案内穴(これは、非貫通穴である。)4が設けられている。
【0013】
ドライブ案内穴4は、例えば直径15mm(なお範囲としては直径4mm乃至15mmが良好である)であり、深さは0.6mm(なお、範囲としては0.5mm乃至0.7mmが良好である)であリ、ディスク基板3の回転中心軸5に略同軸的に形成されている。ドライブ案内穴4は、光ディスク記録再生装置のスピンドルに光ディスク10を搭載固定する際に使用するものである。従って、ドライブ案内穴4の形状は、例えば円筒形であり、例えば円錐台形(表面側の直径が大きくても小さくてもどちらでも良い)である。
【0014】
ディスク基板3は、光ディスク用専用金型を装着した射出成形機を用いて、ポリカーボネート樹脂などの熱可塑性樹脂を原料として、射出成形によって製造される。光ディスク用金型内には、スタンパーと呼ばれる、円盤状の中心穴が無いニッケル盤が装着されている。このニッケル盤の表面には、高密度情報として、ピット列又は記録溝からなる情報面が形成されている。この情報面は、射出成形によって、ディスク基板3の一方の面上に転写される。すなわち、ディスク基板3の一方の面には、例えば、トラックピッチ0.32μm、溝幅が0.14μm乃至0.16μmである案内溝(グルーブ)(又は、再生専用型光ディスクの場合には、最短記録波長が0.16μmのピット列)が形成されている。
【0015】
グルーブは、光ディスク10に情報を記録再生する際に照射するレーザ光を案内するためのものである(ピット列には情報そのものを表す。)。このグルーブ(又はピット列)は、ディスク基板3のドライブ案内穴4の形成された面側の反対側の面上に形成されている。このグルーブは、ディスク基板3において、回転中心軸5から半径15mm乃至59mmの範囲の領域内であれば、任意の領域に形成可能である。半径が21.5mmから59mmの範囲であれば、最短記録ピット長0.16μmである、信号形式が2Tで、グルーブ上に情報を記録する場合には、22GB乃至27GBの情報が記録できる。
【0016】
ディスク基板3のグルーブの形成されている面上に、情報層1が形成されている。情報層1は、ディスク基板3面側から、順次積層された、反射層、第1光透過中間層、第1保護層、記録層、第2保護層及び第2光透過中間層より構成されている。
【0017】
記録層は、本実施例では、相変化記録層から構成しているが、これに限らず、光磁気記録層、層変化記録層、有機色素層等から、或いはこれらの組み合わせから構成される。
【0018】
反射層として、直流スパッタリング法により、厚さ200nmのAg合金膜が、グルーブの形成されたディスク基板3上に形成される。真空チャンバ内を6×10−5Paまで排気したあと、Arガスを導入して、1.6×10−1Paの圧力とし、500Wのパワーを直径2インチサイズのAgPg(1wt%)Cu(1wt%)合金ターゲットに印加してスパッタして形成する。なお、反射層の厚さとしては、160nm乃至240nmの範囲であれば、良好なレーザ光に対する反射特性が得られる。
【0019】
次に、反射層の上に、第1光透過中間層を形成する。これには、Geのターゲット(直径2インチで厚さ3mmである。)を用い、Arガスに加えて、N2ガスを真空チャンバに導入して、全圧力を4.1×10−1Paに調整し、80Wのパワーで、反応性スパッタにより、形成する。厚さ4nmのGeNからなる第1光透過中間層を形成する。なお、光透過中間層の厚さとしては、3nm乃至5nmの範囲をとることができる。
【0020】
次に、第1光透過中間層の上に、第1保護層を形成する。これには、直径2インチサイズのZnS−SiO2ターゲット(80mol%ZnS−20mol%SiO2である混合焼成ターゲット)を用い、高周波マグネトロンスパッタ法により、厚さ5nmの第1保護層を得る。このとき、Arガス1.6×10−1Paの真空度で、300Wのパワーでスパッタする。なお、第1保護層の厚さとしては、4nm乃至7nmの範囲をとることができる。
【0021】
次に、第1保護層上に、記録層を形成する。これには、ターゲットとして、直径2インチ、厚さ3mmのGe−Te−Sb合金ターゲットを用い、直流スパッタ法により形成した。Arガス圧1.6×10−1Paで、50Wのパワーでスパッタし、Ge0.10Te0.30Sb0.60からなる厚さ14nmの記録層を形成した。なお、記録層の厚さとしては、12nm乃至16nmの範囲をとることができる。
【0022】
次に、記録層上に、第2保護層を形成する。第2保護層は上述の第1保護層と同一の材料を用い、同一の作製条件により作製した。但し、膜厚は35nmである。なお、第2保護層の厚さとしては、30nm乃至40nmの範囲をとることができる。
【0023】
次に、第2保護層上に、第2光透過中間層を形成する。第2光透過中間層は、上述の第1光透過中間層と同様に形成する。第2光透過中間層は厚さ5nmのGeNである。なお、第2光透過中間層の厚さとしては、4nm乃至6nmの範囲をとることができる。
このようにして情報層2を形成する。
【0024】
次に、情報層2の上に、光透過層2を形成する。スピンコータ上に、情報層2の形成されたディスク基板3を、情報層2側を上にして装着する。情報層2上すなわち第2保護層上に、ディスク基板3上の全面に少なくとも広がるだけの量の紫外線硬化樹脂を滴下し、スピンコーターを所定の回転にし、紫外線硬化樹脂を全面に塗布し、ディスク基板3を回転させながら高圧水銀灯より紫外線を照射して塗布された紫外線硬化樹脂を硬化し、光透過膜2を形成する。ここで、紫外線硬化樹脂としては、ウレタンアクリレート紫外線硬化樹脂((株)テスク製の型番1467であり、粘度は1000mPa・sである。)を用い、これの0.65gを第2保護層上に滴下後、1300rpmで回転させる。紫外線硬化樹脂膜の広がりが安定した後に、この回転を維持しながら、500Wの高圧水銀灯により、1000mJ/cm2の紫外光を照射して、紫外線硬化樹脂膜を硬化して、厚さ100μmの光透過膜2を得る。
【0025】
このようにして、本実施例の相変化型記録型の光ディスク10を得る。
光ディスク10として、青色レーザ光を用いる光ディスクの場合(いわゆるブルーレイディスク)には、光透過膜2の厚さとしては、100μm±1.5μmであることが必要である。このとき、記録領域は、光ディスクの回転中心軸から半径17.5mm乃至59mmの範囲である。
【0026】
次に、上述した本実施例の光ディスク10について、光透過膜2の厚さを評価した結果を説明する。
これには、記録層1の形成してあるディスク基板3について、回転中心軸5を中心として、所定の半径における同心円上の4箇所でその厚さを予め測定しておく。4箇所とは、所定の半径方向を基準として、これを0度の位置とし、中心軸の周りの90度、180度、270度の位置をいう。
【0027】
次に、光透過層2を形成した後、同じ各位置での厚さを測定し、その測定値から、光透過層2を形成していないときの測定値を引いて、光透過膜2の厚さを求めた。
各厚さの測定には、マイクロメータを用いた。測定精度は、0.5μmである。
測定位置は、中心から半径15mm、20mm、25mm、30mm、35mm、40mm、45mm、50mm、55mm及び59mmである。
光透過膜2の厚さの測定結果を、表1に示す。
【0028】
【表1】
【0029】
表1において、一番左の欄には半径を示してあり、枠内の数値はmm単位で表してある。その右の各欄の枠内の数値は光透過膜2の厚さを示し、μm単位で表してある。
また、その結果を図2のグラフ(上のライン)に示してある。測定値の最大が101μmであり、最小が99μmである。
【0030】
表1及び図2に示すように、光透過膜2の厚さは、半径15mmから半径59mmまでの領域において、100μm±1μmの範囲となっている。
このことは、上述したように青色レーザ光対応の光ディスクにおける光透過膜は、その厚さが、半径17.5mmから半径59mmの範囲において、100μm±1.5μmのであることが要求されるが、本実施例の光ディスク10は、この要求を満たすとともに、さらにより内径側も均一に形成できている。従って、この内径15mmから内径17.5mmの範囲も記録領域として用いることが可能であり、本実施例の光ディスクは、従来の光ディスクよりは、より記録容量の大きい光ディスクである。
【0031】
以上のように、本発明の実施例である光ディスク10は、ディスク基板3として、情報層1を形成する側は全面が平面となっており、反対側の面に光ディスクをディスク記録再生装置に装填するためのドライブ案内穴を設けてあるので、情報層1をディスク面全面に均一に形成すると共に、均一な厚さを有する光透過層2を情報層1全面に亘って形成することができるので、、ディスク基板3の中心に貫通穴を形成してある従来の光ディスクにおけるよりも、情報記録領域を広くすることができ、記録容量を増加させることができる。
【0032】
なお、光透過層2については、エポキシアクリレート紫外線硬化樹脂((株)住友化学性の型番XR11であり、粘度100mPa・sである。)を用いた場合も検討した。この樹脂の0.16gを第2保護層上に滴下し、1800rpmで回転させ、上述の場合と同様に紫外線を照射して硬化させて、10μm厚さの光透過膜を得て、上述と同様に、光透過層2の厚さ分布を測定した。
その測定結果を、表2及び図2(下のライン)に示す。
【0033】
【表2】
【0034】
表2において、表1と同様、一番左の欄には半径を示してあり、枠内の数値はmm単位で表してある。その右の各欄の枠内の数値は光透過膜2の厚さを示し、μm単位で表してある。
表2及び図2に示すように、光透過膜2の厚さは、半径15mmから半径59mmまでの領域において、10μm+1μmの範囲となっている。
【0035】
このことは、情報層を形成する面が全面均一なディスク基板を用いた光ディスクにおいては、光透過層を100μmよりも薄くして、10μmとしても(より、高密度記録対応になる)、均一な光透過層を得ることができることを示し、この場合でも記録領域を増大することができ、記録容量を増大できることを示している。
【0036】
以上、本実施例は相変化型記録層を有する光ディスクについて、説明したが、情報層1を、金属反射膜(反射層)、光磁気記録層、相変化記録層、有機色素層等、或いはこれらの組合わせより構成でき、それに応じた光ディスクとできることはいうまでもない。
【0037】
なお、光透過膜2の材料としては、上記のほかに、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレートグリシジルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソブチルアクリレート、メチルアクリレートヒドロキシプロピルメタクリレート、アクリル酸を使用することができる。
【0038】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係わる光ディスクにおいて、請求項1記載によれば、基板の他方の面に、光ディスクを回転させるためのドライブに装着固定するための所定形状の非貫通穴を設けたことにより、一方の面は全面平面となり、この面に光透過膜を均一に形成できると共に、記録領域を広げることができ、それにより記録容量を増加した光ディスクを提供できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ディスクの実施例を示す断面構成図である。
【図2】光透過膜の半径方向の膜厚分布を示すグラフ図である。
【符号の説明】
1…情報層、2…光透過膜、3…ディスク基板、4…ドライブ案内穴、10…光ディスク、5…回転中心軸。
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスクに係り、特に記録容量を増大するのに好適な光ディスクに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般に、高密度にデ−タを記録できる光ディスクは、オーディオ及び画像データの記録用として、又はコンピュータメモリとして広く使用されている。
この光ディスクにおいては、センターに貫通穴(以下、センタ穴ともいう)が設けられた透明なディスク基板の表面上に、溝やピットからなる情報層が形成されている。さらに、このディスク基板の表面上に、金属反射膜、有機物又は無機物からなる記録層及び各種の保護層が積層されて、光ディスクが形成されている。
【0003】
光ディスクにおいては、記録密度の向上及び記録容量の向上が常に求められており、例えば、上記のような構成の光ディスクを2枚貼り合せて、記録容量を向上させたものも出現している。
光ディスクの記録密度を向上するには、記録層の記録するピットのサイズを小さくして、その密度を向上する。それには、記録再生に用いるレーザ光の波長を短くすること、レーザ光を記録層に照射するための対物レンズのNAを大きくすることが必要である。
【0004】
また、対物レンズと光ディスクの記録層の下に設けた反射膜との距離を短くして対物レンズのコマ収差を抑制する。このため、レーザ光が通過する層(光透過層である)の厚さを薄くする必要があり、さらに、対物レンズの焦点深度が浅くなるので、光透過層の厚さの均一化が要求される。そして、厚さの均一な薄い保護層を光透過層として設けた、高密度記録対応の記録再生用の光ディスクが知られている。
【0005】
このような構造の光ディスクとしては、厚さ100μm程度の透明な樹脂シートを、記録層上に厚さ数μmの接着剤を介して貼り付けて構成した光ディスク(例えば、特許文献1参照。)や、記録層上に紫外線硬化樹脂をスピンコートして厚さ100μm程度の光透過層を形成する光ディスク(例えば、特許文献2参照。)が知られている。
【0006】
【特許文献1】
特開2000−311392号公報
【特許文献2】
特開2001−307380号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述の樹脂シート貼り合わせタイプの光ディスクにおいては、高い貼り合わせ精度が必要であり、歩留まり良く作製できない。
一方、紫外線硬化樹脂を塗布するタイプの光ディスクにおいては、そのディスク基板面中心(センター)に直径11乃至15mmの貫通穴(センタ穴)を設けてあるので、紫外線硬化樹脂の膜厚を全面均一にすることが困難であること、また、中心(内周)側の記録領域に制限がある(例えば、ミニディスクでは、センター穴直径が11mmで、記録再生開始の最内周直径が29mmであり、CDではセンター穴直径が15mmで、再生開始の最内周直径が45mmであり、DVDではセンター穴直径が15mmで、記録再生開始の最内周直径が43mmである。)という問題がある。
【0008】
そこで本発明は、上記問題を解決して、光ディスクにおいて、記録領域を拡大できるようにし、それにより記録容量を増加させた光ディスクを供給することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための手段として、本発明の光ディスクは、一方の面に、グルーブ又はピット列が形成されている円板状の基板3と、前記基板3の前記一方の面の全面上に順次形成された少なくとも反射層(情報層1)と光透過層2とを有し、センタ穴を有しない光ディスクであって、
前記基板3の他方の面に、前記光ディスクを回転させるためのドライブに装着固定するための所定形状の非貫通穴(ドライブ案内穴4)を設けたことを特徴とする光ディスクである。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態につき、好ましい実施例により、図面を参照して説明する。
【0011】
<実施例>
図1は、本発明の光ディスクの実施例を示す断面構成図である。
同図に示すように、本実施例の光ディスク10は、ディスク基板(以下、単に基板ともいう)3と、このディスク基板3上に順次形成した情報層1及び光透過層(保護層)2より構成される。
【0012】
本実施例の光ディスク10は、相変化型記録層を有する記録再生型の光ディスクである。
ディスク基板3は、例えば直径120mmで厚さ1.1mm±0.1mmのポリカーボネート樹脂より形成される。ディスク基板3には、従来の光ディスクに設けられているセンタ穴は設けられていない。代わりに、ディスク基板3の一方の面側には、ドライブ案内穴(これは、非貫通穴である。)4が設けられている。
【0013】
ドライブ案内穴4は、例えば直径15mm(なお範囲としては直径4mm乃至15mmが良好である)であり、深さは0.6mm(なお、範囲としては0.5mm乃至0.7mmが良好である)であリ、ディスク基板3の回転中心軸5に略同軸的に形成されている。ドライブ案内穴4は、光ディスク記録再生装置のスピンドルに光ディスク10を搭載固定する際に使用するものである。従って、ドライブ案内穴4の形状は、例えば円筒形であり、例えば円錐台形(表面側の直径が大きくても小さくてもどちらでも良い)である。
【0014】
ディスク基板3は、光ディスク用専用金型を装着した射出成形機を用いて、ポリカーボネート樹脂などの熱可塑性樹脂を原料として、射出成形によって製造される。光ディスク用金型内には、スタンパーと呼ばれる、円盤状の中心穴が無いニッケル盤が装着されている。このニッケル盤の表面には、高密度情報として、ピット列又は記録溝からなる情報面が形成されている。この情報面は、射出成形によって、ディスク基板3の一方の面上に転写される。すなわち、ディスク基板3の一方の面には、例えば、トラックピッチ0.32μm、溝幅が0.14μm乃至0.16μmである案内溝(グルーブ)(又は、再生専用型光ディスクの場合には、最短記録波長が0.16μmのピット列)が形成されている。
【0015】
グルーブは、光ディスク10に情報を記録再生する際に照射するレーザ光を案内するためのものである(ピット列には情報そのものを表す。)。このグルーブ(又はピット列)は、ディスク基板3のドライブ案内穴4の形成された面側の反対側の面上に形成されている。このグルーブは、ディスク基板3において、回転中心軸5から半径15mm乃至59mmの範囲の領域内であれば、任意の領域に形成可能である。半径が21.5mmから59mmの範囲であれば、最短記録ピット長0.16μmである、信号形式が2Tで、グルーブ上に情報を記録する場合には、22GB乃至27GBの情報が記録できる。
【0016】
ディスク基板3のグルーブの形成されている面上に、情報層1が形成されている。情報層1は、ディスク基板3面側から、順次積層された、反射層、第1光透過中間層、第1保護層、記録層、第2保護層及び第2光透過中間層より構成されている。
【0017】
記録層は、本実施例では、相変化記録層から構成しているが、これに限らず、光磁気記録層、層変化記録層、有機色素層等から、或いはこれらの組み合わせから構成される。
【0018】
反射層として、直流スパッタリング法により、厚さ200nmのAg合金膜が、グルーブの形成されたディスク基板3上に形成される。真空チャンバ内を6×10−5Paまで排気したあと、Arガスを導入して、1.6×10−1Paの圧力とし、500Wのパワーを直径2インチサイズのAgPg(1wt%)Cu(1wt%)合金ターゲットに印加してスパッタして形成する。なお、反射層の厚さとしては、160nm乃至240nmの範囲であれば、良好なレーザ光に対する反射特性が得られる。
【0019】
次に、反射層の上に、第1光透過中間層を形成する。これには、Geのターゲット(直径2インチで厚さ3mmである。)を用い、Arガスに加えて、N2ガスを真空チャンバに導入して、全圧力を4.1×10−1Paに調整し、80Wのパワーで、反応性スパッタにより、形成する。厚さ4nmのGeNからなる第1光透過中間層を形成する。なお、光透過中間層の厚さとしては、3nm乃至5nmの範囲をとることができる。
【0020】
次に、第1光透過中間層の上に、第1保護層を形成する。これには、直径2インチサイズのZnS−SiO2ターゲット(80mol%ZnS−20mol%SiO2である混合焼成ターゲット)を用い、高周波マグネトロンスパッタ法により、厚さ5nmの第1保護層を得る。このとき、Arガス1.6×10−1Paの真空度で、300Wのパワーでスパッタする。なお、第1保護層の厚さとしては、4nm乃至7nmの範囲をとることができる。
【0021】
次に、第1保護層上に、記録層を形成する。これには、ターゲットとして、直径2インチ、厚さ3mmのGe−Te−Sb合金ターゲットを用い、直流スパッタ法により形成した。Arガス圧1.6×10−1Paで、50Wのパワーでスパッタし、Ge0.10Te0.30Sb0.60からなる厚さ14nmの記録層を形成した。なお、記録層の厚さとしては、12nm乃至16nmの範囲をとることができる。
【0022】
次に、記録層上に、第2保護層を形成する。第2保護層は上述の第1保護層と同一の材料を用い、同一の作製条件により作製した。但し、膜厚は35nmである。なお、第2保護層の厚さとしては、30nm乃至40nmの範囲をとることができる。
【0023】
次に、第2保護層上に、第2光透過中間層を形成する。第2光透過中間層は、上述の第1光透過中間層と同様に形成する。第2光透過中間層は厚さ5nmのGeNである。なお、第2光透過中間層の厚さとしては、4nm乃至6nmの範囲をとることができる。
このようにして情報層2を形成する。
【0024】
次に、情報層2の上に、光透過層2を形成する。スピンコータ上に、情報層2の形成されたディスク基板3を、情報層2側を上にして装着する。情報層2上すなわち第2保護層上に、ディスク基板3上の全面に少なくとも広がるだけの量の紫外線硬化樹脂を滴下し、スピンコーターを所定の回転にし、紫外線硬化樹脂を全面に塗布し、ディスク基板3を回転させながら高圧水銀灯より紫外線を照射して塗布された紫外線硬化樹脂を硬化し、光透過膜2を形成する。ここで、紫外線硬化樹脂としては、ウレタンアクリレート紫外線硬化樹脂((株)テスク製の型番1467であり、粘度は1000mPa・sである。)を用い、これの0.65gを第2保護層上に滴下後、1300rpmで回転させる。紫外線硬化樹脂膜の広がりが安定した後に、この回転を維持しながら、500Wの高圧水銀灯により、1000mJ/cm2の紫外光を照射して、紫外線硬化樹脂膜を硬化して、厚さ100μmの光透過膜2を得る。
【0025】
このようにして、本実施例の相変化型記録型の光ディスク10を得る。
光ディスク10として、青色レーザ光を用いる光ディスクの場合(いわゆるブルーレイディスク)には、光透過膜2の厚さとしては、100μm±1.5μmであることが必要である。このとき、記録領域は、光ディスクの回転中心軸から半径17.5mm乃至59mmの範囲である。
【0026】
次に、上述した本実施例の光ディスク10について、光透過膜2の厚さを評価した結果を説明する。
これには、記録層1の形成してあるディスク基板3について、回転中心軸5を中心として、所定の半径における同心円上の4箇所でその厚さを予め測定しておく。4箇所とは、所定の半径方向を基準として、これを0度の位置とし、中心軸の周りの90度、180度、270度の位置をいう。
【0027】
次に、光透過層2を形成した後、同じ各位置での厚さを測定し、その測定値から、光透過層2を形成していないときの測定値を引いて、光透過膜2の厚さを求めた。
各厚さの測定には、マイクロメータを用いた。測定精度は、0.5μmである。
測定位置は、中心から半径15mm、20mm、25mm、30mm、35mm、40mm、45mm、50mm、55mm及び59mmである。
光透過膜2の厚さの測定結果を、表1に示す。
【0028】
【表1】
【0029】
表1において、一番左の欄には半径を示してあり、枠内の数値はmm単位で表してある。その右の各欄の枠内の数値は光透過膜2の厚さを示し、μm単位で表してある。
また、その結果を図2のグラフ(上のライン)に示してある。測定値の最大が101μmであり、最小が99μmである。
【0030】
表1及び図2に示すように、光透過膜2の厚さは、半径15mmから半径59mmまでの領域において、100μm±1μmの範囲となっている。
このことは、上述したように青色レーザ光対応の光ディスクにおける光透過膜は、その厚さが、半径17.5mmから半径59mmの範囲において、100μm±1.5μmのであることが要求されるが、本実施例の光ディスク10は、この要求を満たすとともに、さらにより内径側も均一に形成できている。従って、この内径15mmから内径17.5mmの範囲も記録領域として用いることが可能であり、本実施例の光ディスクは、従来の光ディスクよりは、より記録容量の大きい光ディスクである。
【0031】
以上のように、本発明の実施例である光ディスク10は、ディスク基板3として、情報層1を形成する側は全面が平面となっており、反対側の面に光ディスクをディスク記録再生装置に装填するためのドライブ案内穴を設けてあるので、情報層1をディスク面全面に均一に形成すると共に、均一な厚さを有する光透過層2を情報層1全面に亘って形成することができるので、、ディスク基板3の中心に貫通穴を形成してある従来の光ディスクにおけるよりも、情報記録領域を広くすることができ、記録容量を増加させることができる。
【0032】
なお、光透過層2については、エポキシアクリレート紫外線硬化樹脂((株)住友化学性の型番XR11であり、粘度100mPa・sである。)を用いた場合も検討した。この樹脂の0.16gを第2保護層上に滴下し、1800rpmで回転させ、上述の場合と同様に紫外線を照射して硬化させて、10μm厚さの光透過膜を得て、上述と同様に、光透過層2の厚さ分布を測定した。
その測定結果を、表2及び図2(下のライン)に示す。
【0033】
【表2】
【0034】
表2において、表1と同様、一番左の欄には半径を示してあり、枠内の数値はmm単位で表してある。その右の各欄の枠内の数値は光透過膜2の厚さを示し、μm単位で表してある。
表2及び図2に示すように、光透過膜2の厚さは、半径15mmから半径59mmまでの領域において、10μm+1μmの範囲となっている。
【0035】
このことは、情報層を形成する面が全面均一なディスク基板を用いた光ディスクにおいては、光透過層を100μmよりも薄くして、10μmとしても(より、高密度記録対応になる)、均一な光透過層を得ることができることを示し、この場合でも記録領域を増大することができ、記録容量を増大できることを示している。
【0036】
以上、本実施例は相変化型記録層を有する光ディスクについて、説明したが、情報層1を、金属反射膜(反射層)、光磁気記録層、相変化記録層、有機色素層等、或いはこれらの組合わせより構成でき、それに応じた光ディスクとできることはいうまでもない。
【0037】
なお、光透過膜2の材料としては、上記のほかに、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレートグリシジルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソブチルアクリレート、メチルアクリレートヒドロキシプロピルメタクリレート、アクリル酸を使用することができる。
【0038】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係わる光ディスクにおいて、請求項1記載によれば、基板の他方の面に、光ディスクを回転させるためのドライブに装着固定するための所定形状の非貫通穴を設けたことにより、一方の面は全面平面となり、この面に光透過膜を均一に形成できると共に、記録領域を広げることができ、それにより記録容量を増加した光ディスクを提供できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ディスクの実施例を示す断面構成図である。
【図2】光透過膜の半径方向の膜厚分布を示すグラフ図である。
【符号の説明】
1…情報層、2…光透過膜、3…ディスク基板、4…ドライブ案内穴、10…光ディスク、5…回転中心軸。
Claims (1)
- 一方の面に、グルーブ又はピット列が形成されている円板状の基板と、前記基板の前記一方の面の全面上に順次形成された少なくとも反射層と光透過層とを有し、センタ穴を有しない光ディスクであって、
前記基板の他方の面に、前記光ディスクを回転させるためのドライブに装着固定するための所定形状の非貫通穴を設けたことを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003180930A JP2005018882A (ja) | 2003-06-25 | 2003-06-25 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003180930A JP2005018882A (ja) | 2003-06-25 | 2003-06-25 | 光ディスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005018882A true JP2005018882A (ja) | 2005-01-20 |
Family
ID=34181770
Family Applications (1)
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JP2003180930A Pending JP2005018882A (ja) | 2003-06-25 | 2003-06-25 | 光ディスク |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2005018882A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006200010A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Nikko Kinzoku Kk | スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体用薄膜 |
JP2012113807A (ja) * | 2010-11-24 | 2012-06-14 | General Electric Co <Ge> | 精密な記録のためのシステム及び方法 |
-
2003
- 2003-06-25 JP JP2003180930A patent/JP2005018882A/ja active Pending
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