JP2005139911A - 真空排気装置およびその真空引き方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】真空チャンバー内でワークの加工作業を行うとき、アキュームレーターに予め蓄えておいた負圧力で真空チャンバー内の空気を吸引して仮真空(不完全真空)にし、その後に真空ポンプで真空チャンバー内を所定の負圧の真空にする時間を短くすること課題とする。
【解決手段】ワークの格納または交換時に開閉する扉1aを有する真空チャンバー1と、真空ポンプ2と、負圧力を蓄えるアキュームレーター3とを備え、前記真空チャンバー1の排気口4と真空ポンプ2との間が第1排気管6で連結されるとともにこの第1排気管6に第1バルブ7を設け、前記排気口4とアキュームレーター3との間が第2排気管8で連結されるとともにこの第2排気管8に第2バルブ9を設け、前記アキュームレーター3と真空ポンプ2との間が第3排気管10で連結されるとともにこの第3排気管10に第3バルブ11を設けて構成したことを特徴とする真空排気装置。
【選択図】 図1

Description

本発明は、例えばスパッタリング装置や真空蒸着装置等に利用され、薄膜形成や蒸着加工等を行うときに使用する真空排気装置およびその真空引き方法に関するものである。
従来、例えばスパッタリング装置や真空蒸着装置等に利用される真空排気装置やその真空引き方法としては種々なものが知られている。
例えば、図3に示すように、真空予備チャンバー51にバルブ53を介して真空ポンプ54が配管55で接続されており、前記バルブ53にはこのバルブ53の開閉を検知するセンサー56が設けられ、前記センサー56の信号はシーケンサー58を介してインバーター回路59に印加されており、前記センサー56の信号の印加によってインバーター回路59から前記真空ポンプ54の回転数を制御する信号が前記真空ポンプ54に印加されるように構成されたことを特徴とする真空ポンプ制御システムがある。なお、図中、符号60はポンプ電源、57は真空予備チャンバー51と高真空チャンバー61との間のゲートバルブ、62は高真空ポンプ、63は真空ゲージコントローラ、64は真空ゲージである。
この真空ポンプ制御システムによれば、生産物を真空予備チャンバー51に入れるために、真空予備チャンバー51を大気圧にし、ドア52から生産物を真空予備チャンバー51に入れる。この時、真空引き配管55のバルブ53が閉じられているため、真空ポンプ54の回転は50%低減されている。その後、ドア52を閉じ、真空引き配管55のバルブ53を開ける。この時、バルブ開閉を検知するセンサー56からの信号がシーケンサー58に印加され、さらに、シーケンサー58からの信号がインバーター回路59に送られる。インバーター回路59から真空ポンプ54に印加された信号によって、真空ポンプ54の回転数が短時間で通常回転数まで上げられる。これによって真空ポンプ54はあらかじめ設定された真空度に到達するまで真空引きを行う。次に配管55のバルブ53を閉じる。この時、バルブ開閉を検知するセンサー56からの信号が、シーケンサー58を介してインバーター回路59に送られる。このインバーター回路59からの信号が真空ポンプ54に印加されることで、真空ポンプ54の回転数が50%低減される。そして、高真空チャンバー61間のバルブを開け高真空チャンバー61に生産物を入れる。これにより、真空ポンプ54の回転数は、必要なとき以外は、50%低減されるため、ポンプの使用する電力が削減され、かつ、高回転で回転している時間が低減されるため長寿命化が可能となる(例えば、特許文献1参照)。
また、従来、例えば、図4に示すように、真空チャンバー20と主ポンプ21とを繋ぐ排気管22に口径の大きいメインバルブ23と圧力計27を取り付け、前記主ポンプ21の排気ライン25に逆止弁26が取り付けられており、前記逆止弁26と並列に前記主ポンプ21より排気容量の小さい補助ポンプ24が取り付けられて構成された真空排気装置28によって、前記真空チャンバー20を大気圧またはその近傍から排気するに際しての真空排気装置の運転方法において、前記補助ポンプ24を最初に起動し、前記真空チャンバー20が所定の真空度に達した後に、前記主ポンプ21を起動することを特徴とする真空排気装置の運転方法がある。
この真空排気装置の運転方法によれば、前記真空チャンバー20の大気圧からの排気には、前記補助ポンプ24のみを起動してスロー排気し、前記真空チャンバー20が所定の真空度に達した後に、前記主ポンプ21を起動する(例えば、特許文献2参照)。
また、従来、図5に示すように、真空チャンバー31の排気口にメインバルブ32を通して真空ポンプ34の吸込口を接続し、前記真空ポンプ34を起動運転することにより、前記真空チャンバー31を真空状態にする真空ポンプの運転制御方式において、前記真空ポンプ34の吸込口に接続された配管38に開閉バルブ33を設けるとともに、前記開閉バルブ33をバイパスする絞り機構35を設け、前記メインバルブ32の開閉状態と開閉バルブ33の直前の配管38の内圧または真空ポンプ34の吸込圧と吐出圧の差圧または前記真空ポンプ34の吸込圧と中間圧の差圧の状態から、前記開閉バルブ33の開度を制御することを特徴とする真空ポンプの運転制御方式がある。
この真空ポンプの運転制御方式によれば、前記メインバルブ32の開閉状態と開閉バルブ33の直前の配管内圧状態とから、開閉バルブ33の開閉弁の開度を制御するから、大気引き時に真空ポンプ34が過負荷状態にならないように運転制御することができる。なお、圧力センサ36は前記開閉バルブ33の直前の配管38の内部圧力を検出する。この圧力センサ36の出力信号は制御装置37に入力される。前記開閉バルブ33およびメインバルブ32の開閉および開度は前記制御装置37の制御信号で制御できるようになっている(例えば、特許文献3参照)。
さらに、従来、図6に示すように、ガスを導入する真空チャンバー40と、この真空チャンバー40の中に導入したガスを排気し、かつ、所望の圧力に減圧する主真空ポンプ43を有する排気ラインL1と、この排気ラインL1の主真空ポンプ43の吸気側に設けられ、前記真空チャンバー40の中を所望の圧力に調圧するアダプティブプレッシャーコントロールバルブ41(APCバルブ)と、前記排気ラインL1を開閉するゲートバルブ42,44と、前記ゲートバルブ44の後流側に配置された補助ポンプ(ドライ真空ポンプ)47と、前記主真空ポンプ43の後流側に設けたアダプティブプレッシャーコントロールバルブ45(APCバルブ)とを設け、前記主真空ポンプ43の後流側に設けたアダプティブプレッシャーコントロールバルブ45(APCバルブ)で前記真空チャンバー40を所望の圧力に調整することを特徴とする真空排気システムがある。
この真空排気システムによれば、前記真空チャンバー40の中を不完全な真空にするときは、主排気ラインL1のゲートバルブ42,44を閉じ、粗引きラインL2のゲートバルブ46を開いて、前記補助ポンプ47により、前記真空チャンバー40の中を不完全な真空にする。この時、前記主真空ポンプ43は運転状態または停止状態にある。前記真空チャンバー40の中が減圧され、所定の圧力に減圧されたら、前記粗引きラインL2のゲートバルブ46を閉じ、前記主真空ポンプ43を有する前記排気ラインL1のゲートバルブ42,44を開いて、通常のプロセス運転に移る。なお、コントローラ48は前記主真空ポンプ43の回転数を制御する。符号49,50は真空計である(例えば、特許文献4参照)。
特開平7−35072号公報(特許請求の範囲、段落0013および図1) 特開2003−139080号公報(特許請求の範囲、および図1) 特開平5−231368号公報(特許請求の範囲、要約、段落0008および図1) 特開2001295761号公報(特許請求の範囲、段落0015および図2)
前記各特許文献に開示された技術とも、真空チャンバーを排気中およびワークの加工中に、負圧力を蓄える補助真空チャンバーとしてのアキュームレーターの排気を行っておき、真空チャンバーに次の加工を行うワークをセットして扉を閉じた後に、真空チャンバーとアキュームレーターとを繋ぐ配管に設けたバルブを開くと、真空チャンバー内の大気がアキュームレーターに引き込まれて前記真空チャンバーが仮真空になり、その後に真空ポンプを作動させて真空チャンバー内を所定の負圧の真空にする時間が短くなるという作用が行われない、といった問題がある。
そこで、本発明の課題は、前記のような問題を解決し、真空チャンバーに次の加工を行うワークをセットして扉を閉じた後に、真空チャンバーとアキュームレーターとを繋ぐ配管に設けたバルブを開くと、真空チャンバー内の大気が、予め所定の負圧力を蓄えておいたアキュームレーターに引き込まれることにより仮真空になり、その後に真空ポンプで吸引することにより、真空チャンバー内を所定の負圧の真空状態にする時間を短縮し、また、真空チャンバー内を真空にするための高出力機能の真空ポンプが低出力機能の真空ポンプで代用可能となり、また、最初から真空チャンバー内の大気引きを行うときのように、真空ポンプが負荷の増大とならないようにした、真空排気装置およびその真空引き方法を提供することを課題とする。
前記課題を解決するため、請求項1に係る発明のような手段とした。これを請求項1に対応する図1を参照して説明すると、ワークの格納または交換時に開閉する扉(1a)を有する真空チャンバー(1)と、真空ポンプ(2)と、負圧力を蓄えるアキュームレーター(3)とを備え、前記真空チャンバー(1)の排気口(4)と真空ポンプ(2)との間が第1排気管(6)で連結されるとともにこの第1排気管(6)に第1バルブ(7)を設ける。また、前記排気口(4)とアキュームレーター(3)との間が第2排気管(8)で連結されるとともにこの第2排気管(8)に第2バルブ(9)を設ける。また、前記アキュームレーター(3)と真空ポンプ(2)との間が第3排気管(10)で連結されるとともにこの第3排気管(10)に第3バルブ(11)を設ける。以上のように構成した真空排気装置としたものである。
また、前記課題を解決するため、請求項2に係る発明のような、請求項1に係る発明の真空排気装置を使用した真空引き方法とした。これを図1を参照して説明すると、前記のように構成した真空排気装置を使用し、
第1工程は、前記真空チャンバー(1)の中にワークをセットした後で、前記第1バルブ(7)を開き、前記第3バルブ(11)と前記第2バルブ(9)とを閉じて、前記真空ポンプ(2)の運転を行い、前記真空チャンバー(1)の中を真空にする。
第2工程は、前記真空チャンバー(1)の中が設定した真空度に到達したら第1バルブ(7)を閉じて真空チャンバー(1)の中のワークを加工するとともに、第3バルブ11を開き、このワークの加工中に前記アキュームレーター(3)の中を負圧にする。
第3工程は、前記ワークの加工が完了したら、前記真空ポンプ(2)の運転を前記アキュームレーター(3)が所定の負圧力になるまで行いながらワークの交換を行う。
第4工程は、前記真空チャンバー(1)の中のワークを加工中および交換中に前記アキュームレーター(3)の負圧力を高めておき、次のワークをセットした後に、真空チャンバー(1)の扉(1a)を閉じるとともに、前記第2バルブ(9)を開き、前記真空チャンバー(1)の中の大気を前記アキュームレーター(3)の中に引き込み、真空チャンバー(1)の中を仮真空にする。
その後に第1工程に戻ってワークの加工作業を繰り返し行うことができるようにしたことを特徴とする真空排気装置の真空引き方法としたものである。
請求項1および請求項2に係る発明によれば、真空チャンバーに次の加工を行うワークをセットして扉を閉じた後に、真空チャンバーとアキュームレーターとを繋ぐ配管に設けたバルブを開くと、真空チャンバー内の大気が予め負圧力を蓄えておいたアキュームレーターに引き込まれて、真空チャンバー内が仮真空(不完全な真空)になり、その後に前記真空ポンプを作動させて真空チャンバー内を所定の負圧の真空状態にする時間を短縮し、また、真空チャンバー内を真空にするための真空ポンプが、低出力機能の真空ポンプで代用可能となり、また、最初から真空チャンバー内の大気引きを行うときのように、真空ポンプが負荷の増大にならないようにすることができる。
図2は請求項1および請求項2に係る発明を実施するための最良の形態を示す図面であ
り、図1に示す構成部材と同一部材には、図1に付した符号(番号)と同一符号を付けて説明する。請求項1に係る本発明の真空排気装置の最良の実施の形態は、ワークの格納または交換時に開閉する扉1aを有する真空チャンバー1と、真空ポンプ2と、負圧力を蓄えるアキュームレーター3とを備える。前記真空チャンバー1には、第1排気口4と第2排気口5とが設けられている。この第1排気口4と真空ポンプ2との間が第1排気管6で連結され、この第1排気管6に第1バルブ7が設けられている。一方、第2排気口5と負圧力を蓄える補助真空チャンバーとしてのアキュームレーター3との間が第2排気管8で連結され、この第2排気管8に第2バルブ9,9′を設け、この第2排気管8の第2バルブ9,9′の間と前記真空ポンプ2との間が第3排気管10,10′で連結されるとともに、この第3排気管10′に第3バルブ11が設けられて、真空排気装置が構成されている。なお、図1に示すように、前記第2排気口5を無くし、前記第1排気口4と前記アキュームレーター3との間が第2排気管8で連結されるようにすることもできる。
さらに、前記第3排気管10と第3バルブ11を設けた第3排気管10′とに連通して低出力機能の真空ポンプ12が接続されている。また、前記真空チャンバー1には扉1aを開けるときに扉1aが開き易いように真空チャンバー1に大気を入れるためのバルブ1bが設けられている。前記各バルブは電磁バルブであり、これらの電磁バルブはその開閉が制御装置13からの制御信号によって行われ、また、真空ポンプ2と低出力機能の真空ポンプ12の駆動制御も制御装置13からの制御信号によって行われるようになっている。また、前記第2バルブ9は、制御装置13からの制御信号の印加によって数秒間で全開するようになっている。
次に、この真空排気装置を使用した真空引き方法について詳細に説明する。
先ず、前記制御装置13に備えた電源スイッチSWが押されると、真空排気装置が始動する。そして、制御装置13からの制御信号の印加によって、真空ポンプ2および低出力機能の真空ポンプ12が運転されるとともに、前記第2バルブ9′が開き、予め前記アキュームレーター3の負圧力が高められる。
そして、第1工程として、前記扉1aを開けて真空チャンバー1の中にワークをセットし、扉1aを閉じた後で、前記制御装置13に備えた作業開始ボタン13aを押す。そうすると、前記制御装置13からの信号の印加により、第1バルブ7が開き、第3バルブ11と前記第2バルブ9とが閉じられて、前記真空ポンプ2と低出力機能の真空ポンプ12の運転を行い、前記真空チャンバー1の中が所定の真空度になる。
第2工程として、この真空チャンバー1の中が所定の真空度になると、高真空の圧力センサ14からの所定の高真空度になった信号が制御装置13に入力され、この制御装置13からの信号の印加によって、前記第1バルブ7が閉じられ、また、前記制御装置13からの信号の印加によって、前記真空ポンプ2の運転が停止されるか、運転能力が半減されて運転を続け、前記真空チャンバー1の中でワークの加工が行われる。例えばスパッタリング装置や真空蒸着装置等で、薄膜形成や蒸着加工等が行われる。
第3工程として、ワークの加工が完了したら、前記制御装置13に備えた作業終了ボタン13bが押されると、前記第1バルブ7が閉じたまま、制御装置13からの信号の印加によって、前記真空チャンバー1に設けたバルブ1bが開き、真空チャンバー1の中に大気を導入して扉が開き易いようになる。また、前記第2バルブ9′は前記のように開いたままで、前記低出力機能の真空ポンプ12は、アキュームレーター3が所定の負圧力になるまで運転したままにしておく。そして、前記扉1aを開けて真空チャンバー1の中のワークの交換を行う。
第4工程として、前記真空チャンバー1の中のワークを加工中および交換中に、前記アキュームレーター3は、前記第2バルブ9′が開いているので、前記低出力機能の真空ポンプ12の運転でその真空度が高められており、次のワークをセットした後に、真空チャンバー1の扉1aを閉じるとともに、前記制御装置13の作業開始ボタン13aが押されると、制御装置13からの信号の印加によって、前記第2バルブ9が徐々に開き、前記真空チャンバー1の中の大気が前記アキュームレーター3の中に徐々に引き込まれ、真空チャンバー1の中が仮真空(不完全な真空)になる。
前記のように、第2バルブ9が徐々に開くことにより、前記真空チャンバー1の中の大気がアキュームレーター3の中に一気に引き込まれて、真空チャンバー1に振動が生じることを防止している。
真空チャンバー1の中が仮真空になると、前記仮真空の圧力センサ15から仮真空になった信号が制御装置13に入力し、制御装置13からの信号の印加により、前記第2バルブ9が閉じ、前記第1バルブ7および第3バルブ11が開いて、前記真空ポンプ2の運転が開始し、この運転と前記低出力機能の真空ポンプ12の運転とによって、前記真空チャンバー1の中が速やかに真空になり、再度、真空チャンバー1の中でワークの加工が繰り返し行われる。この加工中には、前記のように第2バルブ9′が開いて、前記低出力機能の真空ポンプ12の運転によって、アキュームレーター3の負圧力が蓄えられる。このアキュームレーター3の負圧力が所定の値になると、アキュームレーター3に設けた圧力センサ3aからの信号が制御装置13に入力し、この制御装置13からの信号の印加によって、低出力機能の真空ポンプ12の運転が停止されるか、運転能力が半減されて運転を続ける。
なお、本発明は、前記実施の形態に限定されることはなく、例えば、アキュームレーター3の負圧力が蓄えられるように、アキュームレーター3に低出力機能の真空ポンプ12が接続されているが、前記真空ポンプ2を高出力機能の真空ポンプとして、この高出力機能の真空ポンプによって、前記真空チャンバー1およびアキュームレーター3が吸引されて、負圧力を高めることができる。したがって、請求項1に係る発明の説明を行う図1においては、低出力機能の真空ポンプ12を無くしている。
本発明の請求項1に対応する構成図である。 本発明を実施するための最良の実施の形態を示す構成図である。 従来の真空ポンプ制御システムの説明図である。 従来の真空排気装置の運転方法の説明図である。 従来の真空ポンプの運転制御方式の説明図である。 従来の真空排気システムの説明図である。
符号の説明
1 真空チャンバー
1a 扉
1b バルブ
2 真空ポンプ
3 アキュームレーター
3a 圧力センサ
4 第1排気口
5 第2排気口
6 第1排気管
7 第1バルブ
8 第2排気管
9,9′ 第2バルブ
10,10′第3排気管
11 第3バルブ
12 低出力機能の真空ポンプ
13 制御装置
13a 作業開始ボタン
13b 作業終了ボタン
14 高真空の圧力センサ
15 仮真空の圧力センサ
SW 電源スイッチ

Claims (2)

  1. ワークの格納または交換時に開閉する扉(1a)を有する真空チャンバー(1)と、真空ポンプ(2)と、負圧力を蓄えるアキュームレーター(3)とを備え、
    前記真空チャンバー(1)の排気口(4)と真空ポンプ(2)との間が第1排気管(6)で連結されるとともにこの第1排気管(6)に第1バルブ(7)を設け、
    前記排気口(4)とアキュームレーター(3)との間が第2排気管(8)で連結されるとともにこの第2排気管(8)に第2バルブ(9)を設け、
    前記アキュームレーター(3)と真空ポンプ(2)との間が第3排気管(10)で連結されるとともにこの第3排気管(10)に第3バルブ(11)を設けて構成したことを特徴とする真空排気装置。
  2. ワークの格納または交換時に開閉する扉(1a)を有する真空チャンバー(1)と、真空ポンプ(2)と、負圧力を蓄えるアキュームレーター(3)とを備え、
    前記真空チャンバー(1)の排気口(4)と真空ポンプ(2)との間が第1排気管(6)で連結されるとともにこの第1排気管(6)に第1バルブ(7)を設け、
    前記排気口(4)とアキュームレーター(3)との間が第2排気管(8)で連結されるとともにこの第2排気管(8)に第2バルブ(9)を設け、
    前記アキュームレーター(3)と真空ポンプ(2)との間が第3排気管(10)で連結されるとともにこの第3排気管(10)に第3バルブ(11)を設けて構成した真空排気装置を使用し、
    前記真空チャンバー(1)の中にワークをセットした後で、前記第1バルブ(7)を開き、前記第3バルブ(11)と前記第2バルブ(9)とを閉じて、前記真空ポンプ(2)の運転を行い、前記真空チャンバー(1)の中を真空にする第1工程と、
    前記真空チャンバー(1)の中が設定した真空度に到達したら第1バルブ7を閉じて真空チャンバー(1)の中のワークを加工するとともに、第3バルブ11を開き、このワークの加工中に前記アキュームレーター(3)の中を負圧にする第2工程と、
    前記ワークの加工が完了したら、前記真空ポンプ(2)の運転を前記アキュームレーター(3)が所定の負圧力になるまで行いながらワークの交換を行う第3工程と、
    前記真空チャンバー(1)の中のワークを加工中および交換中に前記アキュームレーター(3)の負圧力を高めておき、次のワークをセットした後に、真空チャンバー(1)の扉(1a)を閉じるとともに、前記第2バルブ(9)を開き、前記真空チャンバー(1)の中の大気を前記アキュームレーター(3)の中に引き込み、真空チャンバー(1)の中を仮真空にする第4工程と、
    その後に第1工程に戻ってワークの加工作業を繰り返し行うことができるようにしたことを特徴とする真空排気装置の真空引き方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012057630A (ja) * 2011-12-19 2012-03-22 Anest Iwata Corp 真空ポンプ装置
WO2024069767A1 (ja) * 2022-09-27 2024-04-04 株式会社Kokusai Electric 基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラム及び基板処理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012057630A (ja) * 2011-12-19 2012-03-22 Anest Iwata Corp 真空ポンプ装置
WO2024069767A1 (ja) * 2022-09-27 2024-04-04 株式会社Kokusai Electric 基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラム及び基板処理装置

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