JP2005107093A - 光学干渉層形成用塗布液、該塗布液を用いて作製された光学干渉層、反射防止フィルム、偏光板及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 金属酸化物微粒子の分散安定性に優れ、塗布液の停滞安定性が良好な光学干渉層形成用塗布液、該塗布液を用いて作製され、高い膜強度、高屈折率を示す光学干渉層、反射防止フィルム及び表示装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも金属酸化物微粒子と有機金属化合物とを含み、且つ、ジアセトンアルコールを含有する光学干渉層形成用塗布液において、
該金属酸化物微粒子を、少なくとも該ジアセトンアルコールを含有する溶剤中で分散する工程を経て調製されたことを特徴とする光学干渉層形成用塗布液。
【選択図】 なし

Description

本発明は光学干渉層形成用塗布液、該塗布液を用いて作製された光学干渉層、反射防止フィルム及び表示装置に関する。

光学レンズ、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）などの画像表示装置等の分野を中心に、透過率及びコントラストの向上、映り込み低減のために、表面反射を減少させる反射防止技術が従来より提案されている。反射防止技術としては、光学干渉層として屈折率と光学膜厚が適当な値を有する層をいくつか積層することにより、積層体と空気界面における光の反射を減少させることが有効である。

このような反射防止層は、高屈折率材料としてＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅等、また低屈折率材料としてＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂等が積層されており、これまでに提案された反射防止層は、乾式製膜方法と塗布式製膜方法により製造されてきている。例えば、前記乾式製膜方法としてはスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法がある。

一般的に光学的機能の観点では乾式製膜方法の方が優れているが、塗布式製膜方法は製造が容易で低コストであることが可能という利点がある。塗布式製膜方法としては、チタンアルコキシドやシランアルコキシドに代表される金属アルコキシドなどを支持体（以下、基材または基材フィルムともいう）の表面に塗布、乾燥、加熱して金属酸化物の層を形成する方法、金属酸化物微粒子と光重合性モノマーの混合物を基材に塗布、乾燥し、ＵＶ照射して層を形成する方法、フッ化ビニリデンやパーフルオロアルキル基を有する光重合性モノマーの光重合物からなる膜を形成する方法などが行われている。

ところで、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置ににおいては、表示装置の表面にある反射防止層は保護層としての機能を備える必要がある。

これらの表示装置は、近年カーナビゲーションや携帯電話など多様な環境で使用される機器に搭載されることが多くなり、耐熱性、耐湿性、耐光性、耐熱ショック性などの各種耐久性が求められている。

このような各種耐久性や保護層としての機能を付与するため、塗布式製膜方法で使用される素材は、ＵＶ（紫外線）や電子線などの活性エネルギー照射や、加熱などにより反応し、耐久性を得ることができる反応性素材等が使用される。

しかし、反応性素材を使用する場合、塗布液の停滞により、形成した層の物性変化や形成した膜の均一性などが劣化するという（停滞安定性が悪いともいう）問題点があり、また、金属酸化物微粒子を使用して屈折率調整を行う場合、金属酸化物微粒子は数ｎｍ〜１００ｎｍと非常に小さい粒子の分散安定性が劣化しやすいという問題点があった。

特に、金属酸化物微粒子の塗布液中での分散状態が変化すると、形成された光学干渉層の屈折率の変化や層の表面粗さ等が変化し、結果として反射率が変化しやすくなる傾向がある。

従来、金属酸化物微粒子を含む塗布液の溶媒としては、アルコール類、ケトン系溶剤、炭化水素系溶剤等各種溶剤が使用され、塗布液の濡れ性の向上、成膜性の向上などの目的で使用されている。

例えば、基体に対する濡れ性向上と外気の影響を受けにくい塗布液を得る観点から、酸窒化チタンと、Ｓｉ（ＯＲ）ｍＲ’ｎ（ｍ＋ｎ＝４、ｍ＝１〜４、ｎ＝０〜３、Ｒ、Ｒ’＝Ｃ１〜Ｃ４のアルキル基）またはその加水分解物と、Ｓｎ有機酸塩と、β−ジケトンとを含み、さらに、プロピレングリコールエーテル、その誘導体、プロピレングリコールエーテルアセテート及びその誘導体からなる群から選ばれる少なくとも１種と、メタノール、エタノール、及びプロパノールからなる群から選ばれる少なくとも１種と、ジアセトンアルコールとを含む着色膜形成用塗布液（例えば、特許文献１参照。）がある。

また、従来、短時間で、均一な厚みの薄膜が形成可能なスピンコート法により形成された反射防止性透明導電膜とほぼ同等の光学特性を有する反射防止性透明導電膜を得るために、スプレーコート法により塗工するシランアルコキシドのゾルゲル反応を利用した低屈折率透明薄膜層を形成するための塗布液であって、該塗布液中には、シリコンアルコキシド及び／又はその加水分解生成物と、炭素数が３以下のアルコールと、２０〜５０質量％の水とを少なくとも含む低屈折率透明薄膜層形成用塗布液（例えば、特許文献２参照。）が開示されている。

更に、無機化合物微粒子を含む被膜形成時の無機化合物微粒子の一部の凝集を防ぎ、無機化合物微粒子が単分散している被膜を、ガラス、プラスチック、金属、セラミックス等の基材上に形成できるような塗布液調製を可能にする観点から、無機化合物微粒子、および／またはアセチルアセトナトキレート、アルコキシシランおよび金属アルコキシドの部分加水分解物から選ばれた少なくとも１種のマトリックスを、水および／または有機溶媒中に分散または溶解して含む塗布液であって、この塗布液中のイオン濃度が、該塗布液中に含まれる全固形分１００ｇ当たり１０ミリモル以下である塗布液（例えば、特許文献３参照。）が開示されている。

しかしながら、上記の技術を用いても、金属酸化物微粒子の分散安定性の向上は実用上十分ではなく、得られた光学干渉層の膜強度は低く、層の屈折率も低いために反射防止性が低く、反射防止フィルムの反射防止性が低く、更に前記反射防止フィルムを用いて作製された表示装置の視認性が低くなる傾向があった。そこで、金属酸化物微粒子の分散安定性向上技術が求められている。
特開平７−８９７２０号公報 特開２０００−３５１９３９号公報 特開平６−２１２１２５号公報

本発明の目的は、金属酸化物微粒子の分散安定性に優れ、塗布液の停滞安定性が良好な光学干渉層形成用塗布液、該塗布液を用いて作製され、高い膜強度、高屈折率を示す光学干渉層、反射防止フィルム及び表示装置を提供することである。

本発明の上記目的は、下記の構成１〜８により達成された。
（請求項１）
少なくとも金属酸化物微粒子と有機金属化合物とを含み、且つ、ジアセトンアルコールを含有する光学干渉層形成用塗布液において、
該金属酸化物微粒子を、少なくとも該ジアセトンアルコールを含有する溶剤中で分散する工程を経て調製されたことを特徴とする光学干渉層形成用塗布液。
（請求項２）
金属酸化物微粒子１００質量部に対し、有機金属化合物を５質量部〜７０質量部を含み、樹脂または重合性単量体の含有量が１５０質量部以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学干渉層形成用塗布液。
（請求項３）
前記金属酸化物微粒子がコア／シェル構造を有し、該コア部が酸化チタンを主成分として含み、該シェル部が少なくとも１種の、金属酸化物Ａを有し、前記金属酸化物微粒子を構成するチタン元素（Ｔｉ）と該金属酸化物Ａを構成する金属元素Ａとの元素比率（Ｔｉ／Ａ）が、９５／５〜６０／４０であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学干渉層形成用塗布液。
（請求項４）
前記金属酸化物Ａが、シリカ、酸化アンチモン、酸化錫、ＡＴＯ（アンチモンドープティンオキサイド）、ＰＴＯ（リンをドープしたティンオキサイド）及びＩＴＯ（インジウムティンオキサイド）からなる群から選択される少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学干渉層形成用塗布液。
（請求項５）
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学干渉層形成用塗布液を支持体上に塗布乾燥後、紫外線照射工程を経て作製されたことを特徴とする光学干渉層。
（請求項６）
支持体の少なくとも一方の面に、該支持体の屈折率Ａよりも高い屈折率を示す高屈折率層及び、該屈折率Ａよりも低い屈折率を示す低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムにおいて、
該高屈折率層の少なくとも１層が請求項５に記載の光学干渉層であり、該低屈折率層が、ＳｉＯ₂を主成分として含むことを特徴とする反射防止フィルム。
（請求項７）
請求項６に記載の反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板。
（請求項８）
請求項６に記載の反射防止フィルムまたは請求項７に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。

本発明により、金属酸化物微粒子の分散安定性に優れ、塗布液の停滞安定性が良好な光学干渉層形成用塗布液、該塗布液を用いて作製され、高い膜強度、高屈折率を示す光学干渉層、反射防止フィルム及び表示装置を提供することが出来た。

本発明の光学干渉層形成用塗布液においては、請求項１〜４のいずれか１項で規定される構成とすることにより、金属酸化物微粒子の分散安定性に優れ、塗布液の停滞安定性が良好な光学干渉層形成用塗布液を調製することが出来る。これらの光学干渉層形成用塗布液を用いることにより、高屈折率を示す光学干渉層の作製が可能になり、更に、反射防止性能の高い、反射防止フィルムや表示装置の作製が可能になった。

以下、本発明に係る各構成要素の詳細について、順次説明する。

《光学干渉層形成用塗布液》
本発明の光学干渉層形成用塗布液について説明する。

本発明に係る光学干渉層形成用塗布液は、少なくとも金属酸化物微粒子と有機金属化合物を含み、且つ、該金属酸化物微粒子は少なくともジアセトンアルコールを含有する溶剤（溶媒ともいう）中にて分散する工程を経て調製されることが特徴である。

また、光学干渉層形成用塗布液において、金属酸化物微粒子１００質量部に対し、後述する有機金属化合物を５質量部〜７０質量部を含み、樹脂または重合性単量体の含有量が１５０質量部以下になるように調整されることが好ましい。

ここで、上記の樹脂は前記重合性単量体が重合して生成したポリマーでもよく、予め、所定の樹脂を塗布液中に加えても良い。また、重合性単量体は後述するハードコート層の形成に用いられる樹脂モノマーと同様のものを用いることが出来る。

以下、光学干渉層形成用塗布液を構成する各素材（材料ともいう）について説明する。

（金属酸化物微粒子）
本発明に係る金属酸化物微粒子について説明する。

金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物の具体例としては、二酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化チタン（ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等）、酸化鉄等が挙げられるが、中でも好ましく用いられるのは酸化チタンである。

本発明に係る金属酸化物微粒子はコア・シェル構造を有することが好ましく、前記コア／シェル構造では、シェルをコアの周りに１層形成させてもよいし、更に複数層のシェルを形成させてもよい。また、コア領域は、シェルにより完全に被覆されていることが好ましいが、部分的に被覆された状態でもよい。

コアは酸化チタン（ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等）、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることができるが、ルチル型の酸化チタンを主成分とすることが好ましい。

シェルは金属の酸化物から形成することが好ましく、具体的には、シリカ、酸化アンチモン、酸化錫、ＡＴＯ（アンチモンドープティンオキサイド）、ＰＴＯ（リンをドープしたティンオキサイド）及びＩＴＯ（インジウムティンオキサイド）からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、更に好ましくは、前記の金属酸化物を主成分として含むことである。

本発明に係る金属酸化物微粒子の屈折率を所定の値に調整し、且つ、微粒子の耐光性を向上させる観点から、コアに対するシェルの被覆量は、請求項３に規定されるように、コア部を構成するチタン元素とシェル部を構成する金属酸化物の金属元素Ａとの元素比率で表される。本発明では、チタン元素（Ｔｉ）と該金属酸化物Ａを構成する金属元素Ａとの元素比率（Ｔｉ／Ａ）が、９５／５〜６０／４０であることが好ましい。

また、上記金属元素Ａは、シリカ、酸化アンチモン、酸化錫、ＡＴＯ（アンチモンドープティンオキサイド）、ＰＴＯ（リンをドープしたティンオキサイド）及びＩＴＯ（インジウムティンオキサイド）からなる群から選択される少なくとも１種に金属酸化物を構成する少なくとも１種の金属元素でもよく、また、複数の金属元素でもよい。

（金属酸化物微粒子の作製方法）
金属酸化物微粒子は、液相法または気相法で作製されたものを使用できる。前記金属酸化物微粒子がコア／シェル構造を有する場合、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第３，４１０，７０８号、特公昭５８−４７０６１号、米国特許第２，８８５，３６６号、同第３，４３７，５０２号、英国特許第１，１３４，２４９号、米国特許第３，３８３，２３１号、英国特許第２，６２９，９５３号、同第１，３６５，９９９号に記載されている方法等を用いることができる。

《塗布液中の金属酸化物微粒子の含有量》
本発明の光学干渉層形成用塗布液においては、上記の金属酸化物からなる、平均粒径０．１５μｍ以下の微粒子を固形分比率で０．１質量％〜９０．０質量％含むことが好ましい。

これらのチタン酸化物を含有する光学干渉層は主に高屈折率層に用いられるが、添加剤の調整等によって中屈折率層とすることもできる。

微粒子と共に使用されるバインダー成分としては、前出の有機チタン化合物、有機シラン化合物、後述するハードコート用組成物を用いることができる。

（金属酸化物微粒子の平均粒径）
金属酸化物微粒子の凝集を抑制して塗布液中での分散性を向上させ、且つ、塗布後のと膜の透明性向上の観点から、金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒径は１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは５０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、最も好ましくは８０ｎｍ〜１３０ｎｍである。

ここで、金属酸化物微粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。

また、コアとして酸化チタンを用いる場合、粒径が小さい方が耐光性が劣ることが分かった。これは、コアとシェルの割合が同じ場合、粒径が小さい方がシェルの厚さが薄くなること、紫外線照射によって発生した電子と正孔が粒子から飛び出す確率が粒径が小さい方が高くなる（粒径が大きいと電子と正孔が打ち消し合う確率が高くなる）こと等が原因として考えられる。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が最も好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。

（金属酸化物微粒子分散液の調製）
本発明に係る金属酸化物微粒子分散液の調製においては、金属酸化物微粒子を少なくともジアセトンアルコールの存在下で分散することが必須の要件である。分散時の、金属酸化物微粒子分散液中の金属酸化物微粒子の含有率は５質量％〜５０質量％の範囲が好ましく、更に好ましくは、１０質量％〜３０質量％の範囲である。また、ジアセトンアルコールの含有率は、１０質量％〜５０質量％の範囲に調整することが好ましい。

ジアセトンアルコールに加えて、分散液調製には、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、また、後述する光学干渉層形成用塗布液の調製に用いられる各種の有機溶媒も金属酸化物微粒子の分散時に併用して用いることが出来る。

例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、アセト酢酸メチル、塩化メチレン、アセトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、蟻酸エチル、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、イソプロピルアルコール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール等を挙げることが出来る。

これらの溶媒は二種以上を併用してもよい。中でも、塩化メチレン、酢酸メチル、アセトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、イソプロピルアルコール等が好ましい。

分散機は通常の分散機が使用できる。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散には後者がヘイズが低くなるので好ましい。メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミル等を挙げることができる。

また、メディアレス分散機として、超音波型、遠心型、高圧型等があるが、本発明においては高圧型が好ましく、高圧分散装置が好ましい。

高圧分散装置は、微粒子と有機溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態等特殊な条件を作り出す装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。

上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等がある。

（コア・シェル構造の元素比率及び元素比率の測定）
本発明に係る金属酸化物微粒子は、コア／シェル構造を有し、コア部が酸化チタンを主成分として含み、シェル部が少なくとも１種の、金属酸化物Ａを有し、前記金属酸化物微粒子を構成するチタン元素（Ｔｉ）と該金属酸化物Ａを構成する金属元素Ａとの元素比率（Ｔｉ／Ａ）が、９５／５〜６０／４０であることが好ましい。

ここで、上記の元素分析及び元素比率の測定方法について説明する。

《Ｔｉ／Ａの測定》
ここで、金属酸化物粒子の表面、表面近傍並びに粒子内部の元素分析及び元素比率のの測定は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）表面分析装置を用いてその値を測定する。

本発明で用いられるＸＰＳ表面分析装置としては、特に限定なく、いかなる機種も使用することができるが、本実施例においてはＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いた。Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定した。エネルギー分解能は、清浄なＡｇ３ｄ５／２ピークの半値幅で規定したとき、１．５〜１．７ｅＶとなるように設定した。

先ず、結合エネルギー０ｅＶから１１００ｅＶの範囲を、データ取り込み間隔１．０ｅＶで測定し、いかなる元素が検出されるかを求めた。

次に、検出された、全ての元素について、データの取り込み間隔を０．２ｅＶとして、その最大強度を与える光電子ピークについてナロースキャンをおこない、各元素のスペクトルを測定した。得られたスペクトルは、測定装置、あるいは、コンピューターの違いによる含有率算出結果の違いを生じせしめなくするために、ＶＡＭＡＳ−ＳＣＡ−ＪＡＰＡＮ製のＣＯＭＭＯＮ ＤＡＴＡ ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ ＳＹＳＴＥＭ （Ｖｅｒ．２．３以降が好ましい）上に転送した後、同ソフトで処理をおこない、元素組成の値を原子数濃度（ａｔｏｍｉｃ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ）として求めた。

定量処理をおこなう前に、各元素についてＣｏｕｎｔ Ｓｃａｌｅのキャリブレーションをおこない、５ポイントのスムージング処理をおこなった。定量処理では、バックグラウンドを除去したピークエリア強度（ｃｐｓ＊ｅＶ）を用いた。バックグラウンド処理には、Ｓｈｉｒｌｅｙによる方法を用いた。

Ｓｈｉｒｌｅｙ法については、Ｄ．Ａ．Ｓｈｉｒｌｅｙ，Ｐｈｙｓ．Ｒｅｖ．，Ｂ５，４７０９（１９７２）を参考にすることができる。

《有機金属化合物》
本発明に係る有機金属化合物としては下記式（１）で表される化合物またはそのキレート化合物を用いることができる。

式（１）：Ａ_nＭＢ_x-n
式中、Ｍは金属原子、Ａは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Ｂは金属原子Ｍに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。ｘは金属原子Ｍの原子価、ｎは２以上でｘ以下の整数を表す。

加水分解可能な官能基Ａとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記式（１）に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を２個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、屈折率や塗膜強度の補強効果、取り扱い易さ、材料コスト等の観点から、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、ケイ素アルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることができる。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。ケイ素アルコキシドは反応速度が遅く、屈折率も低いが取り扱いが容易で耐光性に優れる。シランカップリング剤は金属酸化物微粒子と有機ポリマーの両方と反応することができるため、強靱な塗膜を作ることができる。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることができる。

チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン等が挙げられる。

ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。

ケイ素アルコキシド及びシランカップリング剤は下記式（２）で表される化合物である。

式（２）：ＲｍＳｉ（ＯＲ′）ｎ
式中、Ｒはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基）、または、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシル基等の反応性基を表し、Ｒ′はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基）を表し、ｍ＋ｎは４である。

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）トリメトキシシラン等が挙げられる。

遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量１万以下のものを挙げることができる。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成できる。

金属化合物の添加量は、中屈折率組成物では金属酸化物に換算して５質量％未満であることが好ましく、高屈折率組成物では金属酸化物に換算して２０質量％未満であることが好ましい。

また、本発明に係る有機金属化合物は、溶媒中に添加して溶解後、水分の存在で加水分解して金属酸化物を生成するものであれば如何なる化合物でもよく、下記一般式
で示される有機金属化合物を用いることも出来る。

一般式：Ｒ１ｘＭＲ２ｙＲ３ｚ
式中、Ｍは金属、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２はアルコキシ基、Ｒ３はβ−ジケトン錯体基、β−ケトカルボン酸エステル錯体基、β−ケトカルボン酸錯体基及びケトオキシ基（ケトオキシ錯体基）から選ばれる基であり、金属Ｍの価数をｍとした場合、ｘ＋ｙ＋ｚ＝ｍであり、ｘ＝０〜ｍ、またはｘ＝０〜ｍ−１であり、ｙ＝０〜ｍ、ｚ＝０〜ｍで、何れも０または正の整数である。Ｒ１のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることが出来る。Ｒ２のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、３，３，３−トリフルオロプロポキシ基等を挙げることが出来る。またアルキル基の水素原子をフッ素原子に置換したものでもよい。Ｒ３のβ−ジケトン錯体基、β−ケトカルボン酸エステル錯体基、β−ケトカルボン酸錯体基及びケトオキシ基（ケトオキシ錯体基）から選ばれる基としては、β−ジケトン錯体基として、例えば、２，４−ペンタンジオン（アセチルアセトンあるいはアセトアセトンともいう）、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−２，４−ペンタンジオン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン、１，１，１−トリフルオロ−２，４−ペンタンジオン等を挙げることが出来、β−ケトカルボン酸エステル錯体基として、例えば、アセト酢酸メチルエステル、アセト酢酸エチルエステル、アセト酢酸プロピルエステル、トリメチルアセト酢酸エチル、トリフルオロアセト酢酸メチル等を挙げることが出来、β−ケトカルボン酸として、例えば、アセト酢酸、トリメチルアセト酢酸等を挙げることが出来、またケトオキシとして、例えば、アセトオキシ基（またはアセトキシ基）、プロピオニルオキシ基、ブチリロキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等を挙げることが出来る。これらの基の炭素原子数は、上記例有機金属示化合物を含んで、１８以下が好ましい。また例示にもあるように直鎖または分岐のもの、また水素原子をフッ素原子に置換したものでもよい。

本発明において取り扱いの問題から、爆発の危険性の少ない有機金属化合物が好ましく、分子内に少なくとも一つ以上の酸素を有する有機金属化合物が好ましい。このようなものとしてＲ２のアルコキシ基を少なくとも一つを含有する有機金属化合物、またＲ３のβ−ジケトン錯体基、β−ケトカルボン酸エステル錯体基、β−ケトカルボン酸錯体基及びケトオキシ基（ケトオキシ錯体基）から選ばれる基を少なくとも一つ有する金属化合物が好ましい。

本発明に有用な有機金属化合物の金属元素は、遷移金属元素、典型金属元素、半金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素が好ましい。

遷移金属元素としては、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｔｈ等を挙げることが出来る。

典型金属元素としては、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｋ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｈｆ、Ｔｌ、Ｂｉ、Ｒａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ等を挙げることが出来る。

半金属元素としては、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ＊、Ａｓ、Ｓｂ＊、Ｔｅ、Ｂｉ＊、Ｓｅ等を挙げることが出来る。＊印の元素は典型金属元素ではあるが、半金属あるいは半導体として半金属元素としてもよいものである。

これらのうち、本発明に有用な有機金属化合物のより好ましい金属元素としては、Ｂ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｂａ、Ｈｆ、Ｉｒ、Ｔｈであり、更に好ましくは、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｃｅである。有機金属化合物が加水分解して金属酸化物（無機酸化物相）となった時、可視光に対して優れた透明性を有することがこのましく、上記の金属元素を有する有機金属化合物が好ましい。

有機金属化合物は、有機溶媒に可溶性であることが好ましい。また、加水分解後、ハロゲン化合物を生成するものは、電子機器に悪影響を及ぼす可能性があるので、ハロゲン化合物を生成しないものが好ましい。

有機金属化合物としては、例えば、ジブチルジエトキシ錫、ブチル錫トリス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはブチル錫トリアセトアセトナート、テトラエトキシ錫、メチルトリエトキシ錫、ジエチルジエトキシ錫、トリイソプロピルエトキシ錫、エチルエトキシ錫、メチルメトキシ錫、イソプロピルイソプロポキシ錫、テトラブトキシ錫、ジエトキシ錫、ジメトキシ錫、ジイソプロポキシ錫、ジブトキシ錫、ジブチリルオキシ錫、ジブチル錫ビス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはジブチル錫ジアセトアセトナート、錫ビス（２，４−ペンタンジオナート）あるいは錫ジアセトアセトナート、エチル錫（２，４−ペンタンジオナート）あるいはエチル錫アセトアセトナート、エトキシ錫（２，４−ペンタンジオナート）あるいはエトキシ錫アセトアセトナート、ジメチル錫ビス（２，４−ペンタンジオナート）、ジアセトメチルアセタート錫、ジアセトキシ錫、ジブトキシジアセトキシ錫、ジアセトオキシ錫ビス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはジアセトオキシ錫アセトアセトナート、ジブチル錫ジアセタート、ジブチルジアセトキシ錫、テトライソプロポキシ錫、トリエトキシチタン、トリメトキシチタン、トリイソプロポキシチタン、トリブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、メチルジメトキシチタン、エチルトリエトキシチタン、メチルトリイソプロポキシチタン、ジメチルチタンビス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはジメチルチタンジアセトアセトナート、エチルチタントリス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはエチルチタントリアセトアセトナート、チタントリス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはチタントリアセトアセトナート、チタントリス（アセトメチルアセタート）、トリアセトキシチタン、ジプロポキシプロピオニルオキシチタン、テトライソプロピルシラン、テトラメトキシシランまたはオルトメチルシリケート、テトラエトキシシランまたはオルトエチルシリケート、テトライソプロポキシシランまたはオルトイソプロピルシリケート、テトラブトキシシランまたはオルトブチルシリケート、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルシランビス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはジエチルシランジアセトアセトナート、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、インジウムトリス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはインジウムトリアセトアセトナート、インジウムトリス（ヘキサフルオロペンタンジオナート）あるいはインジウムトリヘキサフルオロアセトアセトナート、インジウムトリアセトアセタート、トリアセトキシインジウム、ジエトキシアセトキシインジウム、トリイソプロポキシインジウム、ジエトキシインジウム（１，１，１−トリフルオロペンタンジオナート）、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオナート）インジウム、エトキシインジウムビス（アセトメチルアセタート）、亜鉛ビス（２，４−ペンタンジオナート）あるいは亜鉛ジアセトアセトナート、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリブトキシアルミニウム、アルミニウムトリス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはアルミニウムトリアセトアセトナート、テトラエトキシセリウム、テトライソプロポキシセリウム、テトラブトキシセリウム、メチルトリエトキシセリウム、エチルジエトキシセリウム、ジエチルジエトキシセリウム、ジブチルジエトキシセリウム、ジメチルメトキシセリウム、トリメトキシセリウム、トリエトキシセリウム、トリイソプロポキシセリウム、トリブトキシセリウム、トリイソプロピルエトキシセリウム、イソプロピルジイソプロポキシセリウム、ジブチルジアセトキシセリウム、ジブチルセリウムビス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはジブチルセリウムジアセトアセトナート、ブチルセリウムトリス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはブチルセリウムトリアセトアセトナート、セリウムテトラ（２，４−ペンタンジオナート）あるいはセリウムテトラアセトアセトナート、エチルセリウムビス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはエチルセリウムビスアセトアセトナート、エトキシトリスセリウム（２，４−ペンタンジオナート）あるいはエトキシセリウムトリスアセトアセトナート、ジメチルセリウムビス（２，４−ペンタンジオナート）、ジアセトメチルアセタートセリウム、トリアセトキシセリウム、ジブトキシジアセトキシセリウム、ジアセトオキシセリウムビス（２，４−ペンタンジオナート）あるいはジアセトオキシセリウムアセトアセトナート、ジブチルセリウムジアセタートを挙げることが出来るが、これらに限定されない。なお、上記化合物の基が断らない限り、プロピル、プロポキシ、プロピオニル等はｎ−、ｉ−の何れでもよく、またブチル、ブトキシ等はｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−の何れでもよい。

《光学干渉層形成用塗布液の調製に用いる溶媒》
本発明の光学干渉層を塗設する際の塗布液に使用する溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、ププロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、水等が挙げられ、それらを単独または２種以上混合して使用することができる。特に、１気圧における沸点が１２０℃〜１８０℃で、且つ、２０℃における蒸気圧が２．３ｋＰａ以下の溶媒を塗布液中に少なくとも１種用いることで、硬化速度を適度に遅らせ、塗布後の白濁を防ぐことができ、塗布ムラの解消や、塗布液のポットライフ向上等もできる。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類が更に好ましい。

グリコールエーテル類としては、具体的には下記の溶剤が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。なお、溶剤名の後に１気圧における沸点及び２０℃における蒸気圧を示す。

プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
１２１℃、１．０６ｋＰａ
プロピレングリコールモノエチルエーテル
１３２．８℃、０．５３ｋＰａ
プロピレングリコールモノブチルエーテル
１７１．１℃、＜０．１３ｋＰａ
ジエチレングリコールジメチルエーテル １６２℃、０．４０ｋＰａ
エチレングリコールモノメチルエーテル １２４．４℃、０．７８ｋＰａ
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート
１４５℃、０．２７ｋＰａ
エチレングリコールモノブチルエーテル １７１．２℃、０．０９ｋＰａ
エチレングリコールモノエチルエーテル １３５．６℃、０．５１ｋＰａ
エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
１５６．３℃、０．１６ｋＰａ
エチレングリコールジエチルエーテル １２１℃、１．２５ｋＰａ
特に好ましくは、グリコールエーテル類としてはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテル、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルであり、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。また、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルとしては特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが挙げられ、具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの溶媒は、塗布液中に全有機溶媒の１〜９０質量％添加されていることが好ましい。

また、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される中心線平均表面粗さＲａが０．０５μｍ〜０．５μｍ程度の防眩層に対して中〜高屈折率層及び低屈折率層を塗設して反射防止加工する場合、防眩層の微細な凹凸上にできるだけ均一な層を形成するため、塗設後速やかに乾燥することが好ましく、沸点１３０℃以下、好ましくは１００℃以下の溶媒を全溶媒の３０質量％、より好ましくは５０質量％以上含有する溶媒を用いることが好ましい。これらの溶媒は特に限定されないが、アルコール類、ケトン類、炭化水素類、エーテル類、エステル類等から適宜選択される。好ましくは、前述の溶媒から選択することができる。

また、各層の塗布液には各種のレベリング剤、界面活性剤、シリコンオイル等の低表面張力物質を添加することが好ましい。具体的なシリコンオイルとしては表１、表２に記載の化合物が挙げられる。

これらの成分は支持体上への塗布や積層体作製時に予め塗設されている層に新たな塗布液を塗設するときの塗布性を高める効果がある。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は添加量が多過ぎると塗布時にハジキの原因となるため、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１質量％〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。

《光学干渉層の塗布方法》：ウェットコーティング
本発明の反射防止フィルムの各層の中で、高屈折率層、低屈折率層の形成には、ウェットコーティング法が用いられることが好ましく、また、中屈折率層、ハードコート層等が設けられる場合もウェットコーティング法による層形成が好ましい。

ここで、ウェットコーティング法の具体例としては、ディッピング、スピンコート、ナイフコート、バーコート、エアードクターコート、ブレードコート、スクイズコート、リバースロールコート、グラビアロールコート、スプレイコート、ダイコート（カーテンコート等）等の公知の塗布方法を用いてことができ、連続塗布または薄膜塗布が可能な塗布方法が好ましく用いられる。

本発明の反射防止フィルムを構成する各層の組成物を支持体上に塗布する際、塗布液中の固形分濃度や塗布量を調整することにより、層の膜厚及び塗布均一性等をコントロールすることができる。また、組成物の塗布性を向上させるために、塗布液中に微量の界面活性剤等を添加してもよい。

《光学干渉層と反射防止フィルム》
本発明の、光学干渉層と反射防止フィルムについて説明する。

本発明の反射防止フィルムは、少なくとも、本発明の光学干渉層を高屈折率層として用い、更に低屈折率層としてＳｉＯ₂（酸化珪素）を主成分として含む層を積層した低反射積層体である。ここで、主成分とは、層の構成成分の全質量の５０質量％以上であることを示す。

光学干渉層を積層した低反射積層体とは、支持体の少なくとも一方の面に、支持体側から高屈折率層、低屈折率層を順に積層した光学干渉層の積層体（後述のように他の層を追加してもよい）であり、波長λの光に対して高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚がλ／４以上になるように設定され反射防止積層体が掲載されることが好ましい。

本発明の反射防止フィルムの構成層の各々が光学干渉層を形成するかどうかは、各層の膜厚次第であり、高屈折率層、低屈折率層等は、光学干渉層を形成するが、後述する、好ましい層構成に記載のハードコート層、防眩層、帯電防止層やその他の層（例えば、防汚層、保護層等）は、各層の膜厚が光の波長（λ）のλ／４以上の場合には、光学干渉層として機能することが可能であるが、前記膜厚が例えば、ｎｍオーダのような薄膜の場合には、光に対して透明になり、実質的に光学干渉層としての機能は示すことはない。一方、λ／４よりも膜厚が大きい場合には光学干渉層の形成が可能である。

光学膜厚とは、層の屈折率ｎと膜厚ｄとの積により定義される量である。屈折率の高低はそこに含まれる金属または化合物によってほぼ決まり、例えばＴｉは高く、Ｓｉは低くというような組み合わせによって屈折率を調整することが出来る。屈折率と膜厚は、分光反射率の測定データを用いて算出出来る。

本発明の反射防止フィルムは、支持体の少なくとも一方の面に、該支持体の屈折率よりも高い屈折率を示す高屈折率層及び、前記支持体の屈折率よりも低い屈折率を示す低屈折率層をこの順に有するが、更に、高屈折率層は第１の高屈折率層と第２の高屈折率層の複数層構成であることが好ましい。ここで、屈折率は第２の高屈折率層のほうが、第１の高屈折率層よりも高くなるように調整される。よって、第１の高屈折率層の屈折率は、第２の高屈折率層と低屈折率層の中間の値をとるように調整される。また、本発明では、第１の高屈折率層のことを中屈折率層ともいう。

本発明の反射防止フィルムの層構成としては、例えば、透明な支持体（基材、基材フィルム、基板等ともいう）上に、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止層を形成することが好ましい。

反射防止層の構成例としては、ハードコート層上側から、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、第１の高屈折率層（中屈折率層とも呼ぶ）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層が積層されていてもよい。

中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する支持体上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に塗布することが好ましい。

本発明の反射防止フィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。

支持体／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／防眩層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／防眩層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
帯電防止層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／帯電防止層／防眩層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
帯電防止層／支持体／防眩層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
帯電防止層／支持体／防眩層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
また、防眩層とハードコート層は同一層であってもよい。

本発明では、光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特に上記の層構成のみに限定されない。また、帯電防止層としては、導電性ポリマー粒子または金属酸化物微粒子（例えば、ＳｎＯ₂、ＩＴＯ等）を含む層が好ましく、層の形成方法は塗布または大気圧プラズマ処理等によって設けることができる。

本発明の反射防止フィルムは上記のように、支持体上に、ハードコート層、光学干渉層（第１の高屈折率層（中屈折率層ともいう）、第２の高屈折率層、低屈折率層等）、また、必要に応じて帯電防止層、防眩層等が用いられるが、ハードコート層の膜厚が１μｍ〜２０μｍの範囲に調整されていることが好ましい。

（第１の高屈折率層（中屈折率層）、第２の高屈折率層の屈折率）
本発明の反射防止フィルムの第１の高屈折率層（中屈折率層）の屈折率は１．５５〜１．７５未満であることが好ましく、第２の高屈折率層の屈折率は１．７５〜２．００であることが好ましい。

本発明の光学干渉層形成用塗布液を用いて作製された光学干渉層は、請求項６に記載の反射防止フィルムの高屈折率層として用いられるが、該高屈折率層の屈折率が１．７５以上の場合には、前記樹脂または重合性単量体の塗布液中の含有量は０であることが好ましく、一方、前記第１の高屈折率層（中屈折率層）が１．５５〜１．７５未満の場合には、前記樹脂または重合性単量体の塗布液中の含有量は、５０質量部〜１５０質量部の範囲になるように調整することが好ましい。

《低屈折率層用有機素材》
本発明に係る低屈折率層形成に好ましい低屈折率層用有機素材について説明する。

低屈折率層用有機素材（低屈折率層用有機材料ともいう）には、フッ素原子の導入されたポリマー等の有機物等は、材料自体の屈折率が１．４５以下と低い点から好ましく用いることが出来る。また、溶剤が使用できる樹脂としてその取扱いが容易であることからポリフッ化ビニリデン（屈折率ｎ＝１．４０）が挙げられる。低屈折率層用有機素材として前記のポリフッ化ビニリデンを用いた場合には、低屈折率層の屈折率はほぼ１．４０程度となるが、更に低屈折率層の屈折率を低くするためにはトリフルオロエチルアクリレート（屈折率ｎ＝１．３２）のような低屈折率を示すアクリレートを１０質量部〜３００質量部、好ましくは１００質量部〜２００質量部添加することである。

尚、このトリフルオロエチルアクリレートは単官能型であり、そのため低屈折率層の膜強度が十分ではないので、さらに多官能アクリレート、例えば、電離放射線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（略号：ＤＰＨＡ，４官能型）を添加することが望ましい。このＤＰＨＡによる膜強度は添加量が多いほど高いが、低屈折率層の屈折率を低くする観点からはその添加量は１質量部〜５０質量部が好ましく、更に好ましくは５質量部〜２０質量部添加することである。

《滑り剤》
本発明に係る低屈折率層には滑り剤を添加することが好ましく、滑り性を付与することによって耐傷性を改善することができる。滑り剤としては、シリコンオイルまたはワックス状物質が好ましく用いられる。例えば、下記一般式で表される化合物が好ましい。

一般式 Ｒ₁ＣＯＲ₂
式中、Ｒ₁は炭素原子数が１２以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基を表す。アルキル基またはアルケニル基が好ましく、さらに炭素原子数が１６以上のアルキル基またはアルケニル基が好ましい。Ｒ₂は−ＯＭ₁基（Ｍ₁はＮａ、Ｋ等のアルカリ金属を表す）、−ＯＨ基、−ＮＨ₂基、または−ＯＲ₃基（Ｒ₃は炭素原子数が１２以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基、好ましくはアルキル基またはアルケニル基を表す）を表し、Ｒ₂としては−ＯＨ基、−ＮＨ₂基または−ＯＲ₃基が好ましい。具体的には、ベヘン酸、ステアリン酸アミド、ペンタコ酸等の高級脂肪酸またはその誘導体、天然物としてこれらの成分を多く含んでいるカルナバワックス、蜜蝋、モンタンワックスも好ましく使用できる。特公昭５３−２９２号公報に開示されているようなポリオルガノシロキサン、米国特許第４，２７５，１４６号明細書に開示されているような高級脂肪酸アミド、特公昭５８−３３５４１号公報、英国特許第９２７，４４６号明細書または特開昭５５−１２６２３８号公報及び同５８−９０６３３号公報に開示されているような高級脂肪酸エステル（炭素数が１０〜２４の脂肪酸と炭素数が１０〜２４のアルコールのエステル）、そして米国特許第３，９３３，５１６号明細書に開示されているような高級脂肪酸金属塩、特開昭５１−３７２１７号公報に開示されているような炭素数１０までのジカルボン酸と脂肪族または環式脂肪族ジオールからなるポリエステル化合物、特開平７−１３２９２号公報に開示されているジカルボン酸とジオールからのオリゴポリエステル等を挙げることができる。

低屈折率層中の滑り剤の添加量は０．０１ｍｇ／ｍ²〜１０ｍｇ／ｍ²が好ましい。

《耐擦傷性（耐擦り傷性ともいう）》
本発明の低屈折率層には、界面活性剤、柔軟剤、柔軟平滑剤等を添加することが好ましく、これによって耐擦傷性（耐擦り傷性）を改善することが出来る。

中でもアニオン系または非イオン系の界面活性剤の添加が好ましく、例えば、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム塩、多価アルコール脂肪酸エステルの非イオン界面活性剤乳化物等が好ましい。例えば、リポオイルＮＴ−６、ＮＴ１２、ＮＴ−３３、ＴＣ−１、ＴＣ−６８、ＴＣ−７８、ＣＷ−６、ＴＣＦ−２０８、ＴＣＦ−６０８、ＮＫオイルＣＳ−１１、ＡＷ−９、ＡＷ−１０、ＡＷ−２０、ポリソフターＮ−６０６、塗料用添加剤ＰＣ−７００（日華化学株式会社製）等が用いられる。

好ましい添加量は低屈折率層の塗布液に含まれる固形分当たり０．０１質量％〜３質量％であり、より好ましくは０．０３質量％〜１質量％である。

《有機珪素化合物》
本発明に用いられる有機珪素化合物について説明する。

本発明では、有機チタン化合物のモノマ、オリゴマまたはそれらの加水分解物を用いて形成した高屈折率層（更に、中屈折率層が形成されても良い）の上に、下記一般式（２）〜（５）のいずれかで表される有機珪素化合物のモノマ、オリゴマまたは、それらの混合物を含有する塗布液を塗布し、乾燥して形成した屈折率が１．３５以上１．５５未満の低屈折率層が積層されていることが好ましい。

一般式（２） Ｓｉ（ＯＲ²）₄
一般式（３） Ｓｉ−Ｘ₄
一般式（４） Ｒ³−Ｓｉ（ＯＲ²）₃
一般式（５） Ｒ³−Ｓｉ−Ｘ₃
式中、Ｒ²は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基、Ｒ³はメチル基またはエチル基、Ｘはハロゲン原子を表す。

好ましい有機珪素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等を挙げることができ、これらを加水分解することによりシリケートオリゴマが得られる。加水分解反応は、公知の方法により行うことができ、例えば、上記テトラアルコキシシランに所定量の水を加えて、酸触媒の存在下に、副生するアルコールを留去しながら、通常、室温〜１００℃で反応させる。この反応によりアルコキシシランは加水分解し、続いて縮合反応が起こり、ヒドロキシル基を２個以上有する液状のシリケートオリゴマ（通常、平均重合度は２〜８、好ましくは３〜６）を加水分解物として得ることができる。加水分解の程度は、使用する水の量により適宜調節することができるが、本発明においては４０％〜１０００％、好ましくは２００％〜３００％である。ここで、加水分解の程度は、加水分解可能な基、即ちテトラアルコキシシランにおいては、アルコキシル基を全て加水分解するために必要な理論水量、即ちアルコキシル基の数の１／２の水を添加したときを加水分解率１００％とし、
加水分解率（％）＝（実際の添加水量／加水分解理論水量）×１００
として求められる。

こうして得られたシリケートオリゴマにはモノマが通常２％〜１０％程度含有されている。本発明においてはモノマ状態で用いてもオリゴマ状態で用いても、またはモノマとオリゴマを混合して用いても差し支えないが、モノマが含有されていると貯蔵安定性に欠け、保存中に増粘し、膜形成が困難となることがあるので、モノマ含有量が１質量％以下、好ましくは０．３質量％以下になるように、このモノマをフラッシュ蒸溜や真空蒸溜等で除去するのが好ましい。

本発明には、上記の如くテトラアルコキシシランに触媒、水を添加して得られる部分加水分解物も用いられるが、完全加水分解物を用いるのが好ましい。加水分解物に溶媒を配合し、次いで下記硬化触媒と水を添加する等の方法により硬化した加水分解物が得られる。かかる溶媒としては、メタノール、エタノールを１種または２種使用するのが、安価であること、得られる被膜の特性が優れ硬度が良好であることから好ましい。イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、オクタノール等も用いることができるが、得られた被膜の硬度が低くなる傾向にある。溶媒量は部分加水分解物１００質量部に対して５０質量部〜４００質量部、好ましくは１００質量部〜２５０質量部である。

（硬化触媒）
硬化触媒としては、酸、アルカリ、有機金属、金属アルコキシド等を挙げることができるが、本発明においては酸、特にスルホニル基またはカルボキシル基を有する有機酸が好ましく用いられる。例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が用いられる。有機酸は１分子内に水酸基とカルボキシル基を有する化合物であればいっそう好ましく、例えば、クエン酸または酒石酸等のヒドロキシジカルボン酸が用いられる。また、有機酸は水溶性の酸であることが更に好ましく、例えば上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、２−オキソグルタル酸、グリコール酸、Ｄ−グリセリン酸、Ｄ−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等が好ましく用いられる。また、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、アトロバ酸等も適宜用いることができる。

上記有機酸を用いることで、硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸等の無機酸の使用による生産時の配管腐蝕や安全性への懸念が解消できるばかりでなく、加水分解時のゲル化を起こすことなく、安定した加水分解物を得ることができる。添加量は、部分加水分解物１００質量部に対して０．１質量部〜１０質量部、好ましくは０．２質量部〜５質量部がよい。また、水の添加量については部分加水分解物が理論上１００％加水分解し得る量以上であればよく、１００％相当量〜３００％相当量、好ましくは１００％相当量〜２００％相当量を添加するのがよい。

このようにして得られた低屈折率層用の塗布組成物は極めて安定であり、加水分解を開始してから１時間、６時間、１２時間、１日、３日、７日と経過しても使用することができる。

（熟成工程）
更に、本発明では熟成工程により、有機珪素化合物の加水分解、縮合による架橋が充分に進み、得られた被膜の特性が優れたものとなる。熟成は、オリゴマ液を放置すればよく、放置する時間は、上述の架橋が所望の膜特性を得るのに充分な程度進行する時間である。具体的には用いる触媒の種類にもよるが、塩酸では室温で１時間以上、マレイン酸では数時間以上、８時間〜１週間程度で充分であり、通常３日前後である。熟成温度は熟成時間に影響を与え、極寒地では２０℃付近まで加熱する手段をとった方がよいこともある。一般に高温では熟成が早く進むが、１００℃以上に加熱するとゲル化が起こるので、せいぜい５０〜６０℃までの加熱が適切である。また、本発明で用いるシリケートオリゴマについては、上記の他に、例えばエポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、カルボキシル基等の官能基を有する有機化合物（モノマ、オリゴマ、ポリマー）等により変性した変性物であってもよく、単独または上記シリケートオリゴマと併用することも可能である。

このようにして、前記一般式（２）、（３）、（４）及び（５）で表される有機珪素化合物のシリケートオリゴマが得られるが、シリケートオリゴマ中のＳｉＯ₂含有量は１〜１００％、好ましくは１０〜９９％である。ＳｉＯ₂含有量が１％未満では耐久性の向上が見られなくなり、本発明の効果を発揮しない。

また、低屈折率層には、前述のアルコール溶解性アクリル樹脂またはエポキシ系光硬化性化合物が好ましく用いられる。

膜厚が非常に薄い低屈折率層は、硬度が不足し、層表面が擦り傷または引っ掻き傷に弱い。このような場合、一般的には、硬化膜を形成し易い光照射架橋性のエチレン性不飽和化合物を層に含有させることが一般に行われるが、架橋性のエチレン性不飽和化合物は空気中の酸素の影響を受け易く、しかも膜厚が薄いため、エチレン性不飽和化合物の重合が阻害され易く、この方法では強靱な低屈折率層を得ることができない。

本発明では、硬度が不足し、擦り傷や引っ掻き傷に弱い低屈折率層にエポキシ系光硬化性化合物を含有させ、光を照射することによって、硬度が高く、擦り傷、引っ掻き傷に対して強靱な低屈折率層を形成させることが好ましい。エポキシ系光硬化性化合物は、酸素の阻害を受け難いため迅速に重合し、膜厚が５０〜２００ｎｍ程度という薄さでも高い硬度且つ強靱な被膜を形成することのできる優れた光硬化性化合物である。

エポキシ系光硬化性化合物は、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物で、前記バインダーの項に記載の化合物と同様の化合物である。

また、本発明においては上記低屈折率層に酸化珪素微粒子を含有させることができる。粒径０．１μｍ以下の酸化珪素微粒子を含むことが好ましい。特に表面がアルキル基で修飾された酸化珪素微粒子が好ましく用いられ、例えばアエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）として市販されている表面がメチル基で修飾された酸化珪素微粒子を好ましく添加することができる。このほか特開２００１−２７９９号公報に記載されている表面がアルキル基で置換された酸化珪素微粒子を用いることもでき、前述のシリケートオリゴマの加水分解後にアルキルシランカップリング剤により処理することでも容易に得ることができる。添加量としては、低屈折率層中の固形分比率で０．１質量％〜４０質量％の範囲となるように添加することが好ましい。

《支持体（基材フィルム、基板、基材等ともいう）》
本発明に係る支持体について説明する。

本発明に係る支持体としては、製造が容易であること、ハードコート層やその他の層（防眩層、中間層等）が接着し易いこと、光学的に等方性であること、光学的に透明性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらのうちセルローストリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）が好ましく、本発明においては、特にセルローストリアセテートフィルムまたはセルロースアセテートプロピオネートフィルムが、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の面から好ましい。

《セルロースエステルフィルム》
低反射率の積層体を得る観点から、基材としてはセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）が好ましく、中でも、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）が好ましく用いられる。

特に、アセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとしたとき、ＸとＹが下記の範囲にあるセルロースの混合脂肪酸エステルを有する支持体上に高屈折率層及び低屈折率層を設けた反射防止フィルムが好ましく用いられる。

２．３≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０．１≦Ｙ≦１．２
特に、
２．５≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
０．３≦Ｙ≦１．２であることが好ましい。

本発明に係る支持体としてセルロースエステルを用いる場合、セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることができる。

アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ₃ＣＯＣｌ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＣｌ、Ｃ₃Ｈ₇ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、本発明に係るセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度（モル％）という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実際には２．６〜３．０）。

本発明に係るセルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが特に好ましく用いられる。なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。

プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶画像表示装置用のフィルムとして有用である。

アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。

セルロースエステルの数平均分子量は、７０，０００〜２５０，０００の範囲のものが、成型した場合の機械的強度が強く、塗布液調製時には、適度なドープ粘度となり好ましく、更に好ましくは、８０，０００〜１５０，０００である。

ここで、上記のセルロースエステルの数平均分子量は、当該業者公知のＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）法を用いて測定することが出来る。

《製膜》
これらセルロースエステルは後述するように一般的に流延法と呼ばれるセルロースエステル溶解液（ドープ）を、例えば、無限に移送する無端の金属ベルトまたは回転する金属ドラムの流延用支持体上に加圧ダイからドープを流延（キャスティング）し製膜する方法で製造される。これらドープの調製に用いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えばメチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）として挙げられる。

また、下記の製膜工程に示すように、溶媒蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ（ドープ膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（沸点５６．３℃）、酢酸エチル（沸点７６．８２℃）等である。

上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れるメチレンクロライド、酢酸メチルが好ましく用いられ、特にメチレンクロライドが全有機溶媒に対して５０質量％以上含まれていることが好ましい。

上記有機溶媒の他に、０．１質量％〜３０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。特に好ましくは、５質量％〜３０質量％で前記アルコールが含まれることが好ましい。これらは上記記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。

炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができる。

これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよく、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。好ましくは、メチレンクロライド７０質量％〜９５質量％に対してエタノール５質量％〜３０質量％を含む溶媒を用いることが好ましい。環境上の制約でハロゲンを含む溶媒を避ける場合は、メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用いることもできる。このとき、冷却溶解法によりドープを調製してもよい。

《可塑剤》
本発明の反射防止フィルムの支持体にセルロースエステルを用いる場合、このセルロースエステルには可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、特に限定はないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤等が好ましく用いられる。

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。

ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。

特に、特開２００２−１４６０４４号公報記載のエポキシ系化合物、ロジン系化合物、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ケトン樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等の添加物を有するセルロースエステルも好ましく用いられる。

具体的には、ロジン及びロジン誘導体としては、以下の構造式のものが挙げられる。

上記化合物のうち、ＫＥ−６０４とＫＥ−６１０は荒川化学工業（株）からそれぞれ酸価２３７と１７０で市販されている。同じく、荒川化学工業（株）からアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物のエステル化物として、ＫＥ−１００及びＫＥ−３５６が、それぞれの酸価は８と０で市販されている。また、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物は、播磨化成（株）からそれぞれの酸価１６７、１６８のＧ−７及びハートールＲ−Ｘで市販されている。

エポキシ樹脂としては、例えば、以下の構造を有するものが挙げられる。

アラルダイドＥＰＮ１１７９及びアラルダイドＡＥＲ２６０は旭チバ（株）から市販されている。

ケトン樹脂としては、例えば、以下の構造のものが挙げられる。

ハイラック１１０、ハイラック１１０Ｈは日立化成（株）の市販品である。

パラトルエンスルホンアミド樹脂としては、以下の構造のものが挙げられ、トップラーとして、フジアミドケミカル（株）から市販されている。

また、本発明に用いられる可塑剤としては、下記に示す脂肪族多価アルコールエステルが挙げられる。

《脂肪族多価アルコールエステル》
本発明に係る脂肪族多価アルコールエステルについて詳細に説明する。

本発明に係る脂肪族多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコ
ールと１種以上のモノカルボン酸とのエステルとから形成される。

（脂肪族多価アルコール）
本発明に係る脂肪族多価アルコールは、２価以上のアルコールであるが、下記一般式（５）で表されるものが好ましい。

一般式（５）
Ｒ₁−（ＯＨ）ｍ
式中、Ｒ₁は、ｎ価の脂肪族有機基、ｎは２以上の正の整数を表し、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表し、ｍは、２〜２０が好ましい。

一般式（５）において、ｎ価の脂肪族有機基の中で、２価の基としては、アルキレン基（例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、プロピレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等）、アルケニレン基（例えば、ビニレン基、プロペニレン基、エテニレン基等）、アルキニレン基（例えばエチニレン基、３−ペンチニレン基等）、シクロアルキレン基（例えば１，４−シクロヘキサンジイル基等）等が挙げられる。

一般式（５）において、ｎ価の脂肪族有機基の中で、３価の基としては、例えば、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ウンデカントリイル基、ドデカントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロペンタントリイル基、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基、１，２，３−プロパントリイル基等が挙げられる。

一般式（５）において、ｎ価の脂肪族有機基の中で、４価の基としては、例えば、プロパンジイリデン基、１，３−プロパンジイル−２−イリデン基、ブタンジイリデン基、ペンタンジイリデン基、ヘキサンジイリデン基、ヘプタンジイリデン基、オクタンジイリデン基、ノナンジイリデン基、デカンジイリデン基、ウンデカンジイリデン基、ドデカンジイリデン基、シクロヘキサンジイリデン基、シクロペンタンジイリデン基、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基等が挙げられる。

また、上記のｎ価の脂肪族有機基は、更に置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、２−メトキシエチル基、トリフルオロメチル基、２−エチルヘキシル基など）、アリール基、（例えば、フェニル基、ナフチル基など）、アルコキシル基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基など）、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基など）、スルファモイル基（例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、オクチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ｐ−トリルチオ基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、クロロアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基等）、アルキルウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、メトキシエチルウレイド基、ジメチルウレイド基等）、アリールウレイド基（例えば、フェニルウレイド基等）、アルキルスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、トリフルオロメチルスルホンアミド基、２，２，２−トリフルオロエチルスルホンアミド基等）、アリールスルホンアミド基（例えば、フェニルスルホンアミド基、トリルスルホンアミド基等）、アルキルアミノスルホニルアミノ基（例えば、メチルアミノスルホニルアミノ基、エチルアミノスルホニルアミノ基等）、アリールアミノスルホニルアミノ基（例えば、フェニルアミノスルホニルアミノ基等）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、複素環基（例えば、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、ピロリル基、インドリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、キノリル基、チエニル基等）が挙げられる。

好ましい脂肪族多価アルコールの例としては、例えばアドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等が挙げられる。

中でも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが特に好ましく用いられる。

（モノカルボン酸）
本発明に係る脂肪族多価アルコールエステル形成に用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができるが、セルロースエステルフィルムの透湿性向上、保留性向上の観点から、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いることが好ましい。

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有するとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。

好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されない。

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。これらは更に置換基を有しても良い。

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。このほか、芳香族モノカルボン酸の芳香環には置換基を有していてもよい。

（脂肪族多価アルコールエステルの分子量）
本発明に係る多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。保留性の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。

ここで、上記の脂肪族多価アルコールエステルの分子量は、市販のＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）装置を用いて測定できる。

本発明に係る脂肪族多価アルコールエステルにおけるカルボン酸は一種類でも、二種以上の混合でもよい。また、脂肪族多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。好ましくは、分子内に芳香環もしくはシクロアルキル環を３つ以上有することが好ましい。

本発明に用いられる、芳香環としては、芳香族炭素環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、ｐ−テルフェニル環、ジフェニルメタン環、トリフェニルメタン環、ビベンジル環、スチルベン環、インデン環、テトラリン環、アントラセン環、フェナントレン環等）や芳香族複素環、例えば、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、１，２，３−オキサジアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ｓ−トリアジン環、ベンゾフラン環、インドール環、ベンゾチオフェン環、ベンズイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、プリン環、キノリン環及びイソキノリン環等が挙げられる。

本発明に用いられるシクロアルキル環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロオクタン環等が挙げられる。

以下、本発明に係る脂肪族多価アルコールエステルの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。

これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１質量％〜２０質量％が好ましい。

《支持体の光学特性》
支持体の光学特性は、光学異方性としては、支持体の面内方向のリターデーション値（Ｒ₀）は０ｎｍ〜１０００ｎｍのものが好ましく用いられ、厚み方向のリターデーション値（Ｒ_t）は０ｎｍ〜３００ｎｍのものが、用途により好ましく用いられる。

また、波長分散特性としては、Ｒ（６００）／Ｒ（４５０）が０．７〜１．３であることが好ましく、特に１．０〜１．３であることが好ましい。ここで、Ｒ（４５０）、Ｒ（６００）は、各々４５０ｎｍ、６００ｎｍの波長の光による面内リターデーション値（Ｒ₀）を示す。

ここで、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムとしては、例えば、コニカタックＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ５ＵＮ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３（コニカオプト（株）製）等の市販品が好ましく用いられる。

《ハードコート層》
本発明に係るハードコート層について説明する。

本発明に係るハードコート層としては、光硬化樹脂層または熱硬化樹脂層が好ましく用いられる。本発明では、支持体（基材ともいう）上にハードコート層として光硬化樹脂層を設け、その上に、請求項５に記載の本発明の光学干渉層（高屈折率層を形成する）や中屈折率層、低屈折率層等を設けることが好ましい。

ここで、これらの光硬化性樹脂、特にハードコート加工のために光硬化性樹脂層が用いられる例について説明する。

本発明に係るハードコート層は、支持体上に直接設層しても、帯電防止層または下引層等の他の層の上に設層してもよい。

ハードコート層として光硬化樹脂層を設ける場合には、紫外線等光照射により硬化する光硬化樹脂を含有することが好ましい。光硬化樹脂は、前述の光硬化樹脂と同様なもの（例えば、エポキシ系光硬化性化合物を用いて形成された層等）を用いることができる。光の光源、照射量、光開始剤や光増感剤、それらの使用量等についても前述と同様である。

（ハードコート層の屈折率、膜厚）
本発明に係るハードコート層は、本発明の反射防止フィルムに低反射性を付与させるための光学設計上の観点から屈折率が１．４５〜１．６５の範囲にあることが好ましい。また、反射防止フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与し、且つ、適度な屈曲性、作製時の経済性等を鑑みた観点から、ハードコート層の膜厚としては、１μｍ〜２０μｍの範囲が好ましく、更に好ましくは、１μｍ〜１０μｍである。

光硬化性樹脂層とは紫外線や電子線のような光照射（本発明では、『光』とは、電子線、中性子線、Ｘ線、アルファ線、紫外線、可視光線、赤外線等、種々の電磁波をすべて光と定義する）により架橋反応等を経て硬化した樹脂を主たる成分として含有する層をいう。光硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の光照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂の具体例としては、前記バインダーの項に記載の化合物を挙げることができる。

また、前記光反応開始剤も光増感剤としても使用できる。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤また光増感剤は、組成物の２．５質量％〜６質量％であることが好ましい。

樹脂モノマー（重合性単量体ともいう、ここで重合性とは熱重合性、光重合性の両方を含む。また、光とは、上記の光と同義である。）としては、例えば、不飽和二重結合が１個のモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を２個以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前述のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。

また、紫外線硬化性樹脂組成物の光硬化を妨げない程度に、紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。紫外線吸収剤としては、前記基材に使用してもよい紫外線吸収剤と同様なものを用いることができる。

また硬化された層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、旭電化工業（株）製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド Ｈ−６０１（三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。

光硬化性樹脂層の塗布組成物は、固形分濃度は１０〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。

光硬化性樹脂を光硬化反応により硬化被膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であればいずれでも使用できる。具体的には、前記光の項に記載の光源を使用できる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量としては２０ｍＪ／ｃｍ²〜１００００ｍＪ／ｃｍ²の範囲が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ²〜２０００ｍＪ／ｃｍ²である。近紫外線領域から可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用できる。

光硬化性樹脂層を塗設する際の溶媒は、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒の中から適宜選択し、または混合して使用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルまたはプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエステルを５質量％以上、さらに好ましくは５質量％〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられる。

光硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法としては、グラビアコータ、スピナーコータ、ワイヤーバーコータ、ロールコータ、リバースコータ、押出コータ、エアードクターコータ等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で０．１μｍ〜３０μｍが適当で、好ましくは０．５μｍ〜１５μｍである。塗布速度は１０ｍ／分〜６０ｍ／分の範囲が好ましい。

光硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された後、紫外線を照射するが、照射時間は０．５秒〜５分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率から３秒〜２分がより好ましい。

こうして硬化被膜層を得ることができるが、液晶表示装置パネルの表面に防眩性を与えるために、また他の物質との対密着性を防ぎ、対擦り傷性等を高めるために、硬化被膜層用の塗布組成物中に無機または有機の微粒子を加えることもできる。

例えば、金属酸化物微粒子としては酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙げることができる。

また、有機微粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙げることができる。これらは紫外線硬化性樹脂組成物に加えて用いることができる。これらの微粒子粉末の平均粒径としては、０．０１μｍ〜１０μｍであり、使用量は紫外線硬化樹脂組成物１００質量部に対して、０．１質量部〜２０質量部となるように配合することが望ましい。防眩効果を付与するには、平均粒径０．１μｍ〜１μｍの微粒子を紫外線硬化樹脂組成物１００質量部に対して１質量部〜１５質量部用いるのが好ましい。

このような微粒子を紫外線硬化樹脂に添加することによって、中心線平均表面粗さＲａが０．１μｍ〜０．５μｍの好ましい凹凸を有する防眩層を形成することができる。また、このような微粒子を紫外線硬化性樹脂組成物に添加しない場合、中心線平均表面粗さＲａは０．０５μｍ未満、より好ましくは０．００２μｍ〜０．０４μｍ未満の良好な平滑面を有するハードコート層を形成することができる。これらハードコート層等の上にはさらに高屈折率層（好ましくは屈折率１．６〜２．３）、低屈折率層（好ましくは屈折率１．３５〜１．５）等から構成される反射防止層を形成することもできる。またはさらに中屈折率層を設けることが好ましい。

この他、ブロッキング防止機能を果たすものとして、上述したのと同じ成分で、体積平均粒径０．００５μｍ〜０．１μｍの極微粒子を樹脂組成物１００質量部に対して０．１質量部〜５質量部を用いることもできる。

《反射防止フィルムの裏面（支持体の裏面ともいう）》
本発明の反射防止フィルムの裏面には、高さ０．１μｍ〜１０μｍの突起を１個〜５００個／０．０１ｍｍ²が設けられていることが好ましく、更に好ましくは１０個〜４００個／０．０１ｍｍ²であり、特に好ましくは、１５個〜３００個／０．０１ｍｍ²である。

これによって、各光学干渉層塗設中に一旦ロール状に巻き取りをしてもブロッキングの発生が防止できるだけでなく、次の光学干渉層を塗設する際の塗布むらを著しく低減することができる。塗布むらの原因は完全に明らかにはなっていないが、原因の１つとしてロール状に巻き取ったフィルムを塗布工程に送り出す際の剥離帯電が関係していると推測される。

前記裏面に突起を設ける手段としては、支持体基材フィルム中に微粒子を添加することで、裏面に高さ０．１μｍ〜１０μｍの突起を１個〜５００個／０．０１ｍｍ²有するようにすることができる。このとき、基材フィルムを多層構成として、表層のみに微粒子を含ませることもできる。

添加する微粒子の種類としては、有機化合物でも無機化合物でもよく、例えば二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の金属酸化物微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化珪素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましい。微粒子の２次粒子の平均粒径は０．１〜１０μｍで、その含有量は基材のセルロースエステルに対して０．０４〜０．３質量％が好ましい。二酸化珪素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、これはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類（特にメチル基を有するアルコキシシラン類）、シラザン、シロキサン等が挙げられる。微粒子の平均粒径は大きい方がマット効果が大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は５ｎｍ〜５０ｎｍで、より好ましくは７ｎｍ〜１６ｎｍである。二酸化珪素の微粒子としてはアエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることができ、好ましくはＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えばＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用できる。

本発明において、微粒子はドープ調製時にセルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散してもよいが、セルロースエステル溶液とは別に微粒子分散液のような十分に分散させた状態でドープを調製するのが好ましい。微粒子を分散させるために、前もって有機溶媒にひたしてから高剪断力を有する分散機（高圧分散装置）で細分散させておくのが好ましい。その後により多量の有機溶媒に分散して、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープとすることが好ましい。この場合、微粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。

また、光学干渉層を有する反射防止フィルムの裏面側に微粒子を含む層を塗設することによって、裏面に高さ０．１μｍ〜１０μｍの突起を１個〜５００個／０．０１ｍｍ²有する反射防止フィルム（低反射積層体ともいう）を提供することができる。

《カール特性》
本発明の反射防止フィルムのカール特性について説明する。

フィルムの片面だけに表面加工を施した場合や、両面に異なる種類または異なる程度の表面加工を施した場合等には、フィルムが丸まってしまうというカール現象が起こり易い。カールするとこれを用いて偏光板を作製する際等に取扱い難く不都合である。

カールを防止するため、ハードコート層を塗設した反対側にアンチカール層を設けることができる。すなわち、アンチカール層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせるものである。なお、アンチカール層は好ましくはブロッキング層を兼ねて塗設され、その場合、塗布組成物にはブロッキング防止機能を持たせるための前述の金属酸化物微粒子及び／または有機微粒子を含有させることができる。（この層は、バックコート層とも言う。）
アンチカール機能の付与は、具体的には基材を溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒の混合物の他、さらに溶解させない溶媒を含む場合もある。これらを樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜選択した割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。

カール防止機能を強めたい場合は、溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは、（溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０〜１：９で用いられる。このような混合組成物に含まれる、溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルム等がある。溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール等がある。

これらの塗布組成物をグラビアコータ、ディップコータ、リバースロールコータ、押し出しコータ等を用いて基材の表面にウェット膜厚１〜１００μｍ塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであるとよい。

この塗布組成物には樹脂を含ませることができ、ここで用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル／アクリロニトリル共重合体、エチレン／ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体または共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート樹脂等のセルロースエステル系樹脂、マレイン酸及び／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル／スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル／塩素化ポリエチレン／スチレン共重合体、メチルメタクリレート／ブタジエン／スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン／ブタジエン樹脂、ブタジエン／アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。アクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（以上、三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（以上、根上工業（株）製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８（以上、三菱レーヨン（株）製）等が用いられる。特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロースエステル樹脂が用いられる。

アンチカール層を塗設する順番は、基材の反対側に光学的機能性層（例えば帯電防止層またはハードコート層、光学干渉層等）を塗設する前でも後でも構わないが、アンチカール層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。

《偏光板及びそれを用いる表示装置》
本発明の偏光板、それを用いた表示装置について説明する。本発明の偏光板に用いる偏光子としては、従来公知のものを用いることができる。偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。

本発明の偏光板は、こうして得られた偏光子と本発明の反射防止フィルム（反射防止積層体フィルムともいう）とを貼合して得られる。

本発明の反射防止フィルムは偏光板保護フィルムとして好ましく用いられ、偏光子の少なくとも片側に積層し、貼合されて偏光板とすることができる。

本発明の偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明の反射防止フィルムをアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。上記記載のアルカリケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れをよくし、接着性を向上させるために、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理を示す。

このとき、反射防止層の表面には再剥離性の保護フィルム（例えばＰＥＴ等のポリエステル樹脂製）を設けることにより、アルカリや汚れから保護することができる。

本発明の反射防止フィルムを一方の偏光板保護フィルムとして用いた場合、もう一方の偏光板保護フィルムには、光学補償機能を持たせることができる。例えば、直接または配向層を介して、液晶を塗布して配向、固定化した光学異方層（例えばハイブリッド配向で固定化した層）を設け、これを偏光板保護フィルムとして用いて視野角拡大効果を有する偏光板を作製することもできる。

また、必要に応じて、反射防止層の表面に防汚性を持たせるかあるいは防汚層を設けることができる。防汚層としてはＳｉ系あるいはＦ系の公知の化合物を用いた層が好ましく用いられる。

このようにして得られた偏光板は、液晶セルの一方の面または、両面に設けてもよい。本発明の反射防止フィルムは、少なくとも支持体上に高屈折率層、低屈折率層を有する反射防止層が外側を向くように液晶セルに貼りつけ、本発明の表示装置が得られる。

本発明の反射防止フィルム（反射防止積層体フィルム）を用いることにょって、高精細でありながら視認性に優れた表示装置を提供することができる。

以下、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。

実施例１
光学干渉層形成用塗布液１〜９を下記のように調製して、次いで、ハードコートフィルム上に前記塗布液を塗布して光学干渉層１〜９を各々作製し、塗膜のムラ、スジ等を評価し、塗布液の停滞安定性を評価した。

まず、下記の酸化チタン分散液１、２を調製した。

《酸化チタン分散液の調製》
下記組成の酸化チタン分散液１、酸化チタン分散液２を調製した。平均粒径は、マイクロトラック粒度分布測定装置（ＵＰＡ１５０（日機装社製））により測定した平均粒径を記す。分散機及び分散条件は以下に示す。また、部とは分散液作製に用いた各素材の質量部を表す。

（酸化チタン分散液１）
酸化チタン微粒子（Ｔｉ／Ｓｉ元素比率＝８５／１５） １５部
ソルスパース５０００（アビシア社製） ２部
ジアセトンアルコール １７部
ｎ−ブタノール ６６部
分散機 ：超音波分散機（日本精機製作所：モデルＵＳ３００）
分散条件：２００μＡ、３０分
平均粒径：１２０ｎｍ
（酸化チタン分散液２）
酸化チタン微粒子（Ｔｉ／Ｓｉ元素比率＝８５／１５） １５部
ソルスパース５０００（アビシア社製） ２部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ８０部
キシレン ３部
分散機 ：超音波分散機（日本精機製作所：モデルＵＳ３００）
分散条件：２００μＡ、３０分
平均粒径は１１５ｎｍ
《光学干渉層形成用塗布液の調製》
次いで、下記組成の光学干渉層形成用塗布液１〜９を各々調製した。

（光学干渉層形成用塗布液１：高屈折率層形成用）：本発明
酸化チタン分散液１ ７０部
テトラ（ｎ）ブトキシキチタン １．５部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシシラン
（信越化学社製：ＫＢＭ５０３） ３部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー
（日本ユニカー製：ＦＺ−２２０７） ０．２部
イソプロピルアルコール ５５５部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ２７８部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ９３部
（光学干渉層形成用塗布液２、３の調製）：本発明
光学干渉層形成用塗布液１の調製において、塗布液調製時の各材料の種類、使用量を表３に記載のように代えた以外は同様にして、本発明の光学干渉層形成用塗布液２、３を各々調製した。

（光学干渉層形成用塗布液４：高屈折率層形成用）：比較例
酸化チタン分散液２ ７０部
テトラ（ｎ）ブトキシキチタン ３部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシシラン
（信越化学社製：ＫＢＭ５０３） １．５部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー
（日本ユニカー製 ＦＺ−２２０７） ０．２部
イソプロピルアルコール ５５５部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ２７８部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ９３部
（光学干渉層形成用塗布液５の調製）：比較例
光学干渉層形成用塗布液４の調製において、塗布液調製時の各材料の種類、使用量を表３に記載のように代えた以外は同様にして、比較の光学干渉層形成用塗布液５を各々調製した。

（光学干渉層形成用塗布液６の調製）：本発明
酸化チタン分散液１ ３７部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシシラン
（信越化学社製 ＫＢＭ５０３） ２．３部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー
（日本ユニカー製：ＦＺ−２２０７） ０．２部
チタンアセチルアセトネート
（松本製薬社製 オルガチックスＴＣ１００） ０．５部
イソプロピルアルコール ５７６部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ２８８部
メチルエチルケトン ９６部
（光学干渉層形成用塗布液７の調製）：本発明
光学干渉層形成用塗布液７の調製において、塗布液調製時の各材料の種類、使用量を表３に記載のように代えた以外は同様にして光学干渉層形成用塗布液７を調製した。

（光学干渉層形成用塗布液８、９の調製）：比較例
光学干渉層形成用塗布液７の調製において、塗布液調製時の各材料の種類、使用量を表３に記載のように代えた以外は同様にして光学干渉層形成用塗布液８、９を調製した。

調製した各光学干渉層形成用塗布液については、各塗布液をハードコートフィルム上に塗布し、光学干渉層１〜９を作製した。

《光学干渉層１の作製》
上記で得た光学干渉層形成用塗布液１に対して６０℃、７日間の保存試験（強制劣化試験）を実施した。

後述するハードコート層の上に、保存試験に入れた光学干渉層形成用塗布液１を押し出しコーターで塗布し、８０℃、０．１ｍ／秒の条件で１分間乾燥させた。この時指触乾燥終了（塗布面を指で触って乾燥していると感じる状態）までは非接触フローターを使用した。非接触フローターとしてベルマッティク社製の水平フロータータイプのエアータンバーを使用した。フローター内静圧は９．８ｋＰａとし、約２ｍｍ巾手均一に浮上させて搬送した。乾燥後、高圧水銀ランプ（８０Ｗ）を用いて紫外線を１３０ｍＪ／ｃｍ²照射して硬化させ、光学干渉層１を作製した。

（ハードコート層の作製）
膜厚８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（コニカ（株）製コニカタックＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、屈折率１．４９、アセチル基の置換度２．８８）の片面に下記ハードコート層組成物（１）を乾燥膜厚３．５μｍとなるように塗布し、８０℃にて１分間乾燥した。次に高圧水銀ランプ（８０Ｗ）にて１５０ｍＪ／ｃｍ²の条件で硬化させ、ハードコート層を有するハードコートフィルム１を作製した。ハードコート層の屈折率は１．５０であった。

〈ハードコート層組成物（Ｃ−１）〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 １０８質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ３６質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分
３６質量部
ジエトキシベンゾフェノン（ＵＶ光開始剤） １８質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ９０質量部
酢酸エチル ９０質量部
《光学干渉層２〜９の作製》
光学干渉層１の形成において、光学干渉層形成用塗布液２〜９を各々用いた以外は同様にして光学干渉層２〜９を各々作製した。また、光学干渉層形成用塗布液２〜９についても光学干渉層形成用塗布液１と同様に、６０℃、７日間の保存試験（強制劣化試験）を実施した。

《停滞性評価：塗布液の安定性評価》
得られた光学干渉層１〜９の各塗膜について、乾燥ムラと塗布スジを下記の基準に従い目視でランク評価した。

（ムラ）
○：乾燥ムラが全くない（実用可）
△：弱い乾燥ムラがある（実用不可）
×：乾燥ムラ有り、凝集物有り（実用不可）
（塗布スジ）
○：塗布スジが全くない（実用可）
△：弱い塗布スジ有り（実用不可）
×：強い塗布スジ有り（実用不可）
得られた結果を表３に示す。

表３から、比較に比べて、本発明の光学干渉層形成用塗布液を用いて作成された光学干渉層の塗膜はムラ、スジがすくなく、停滞条件（強制劣化条件）での保存にもかかわらず、塗布液が安定であることが判る。

実施例２：光学干渉層の作製
《光学干渉層１１〜１５の作製》
実施例１の光学干渉層１〜５の作製において、光学干渉そう形成用塗布液の各々に６０℃、７日間の保存試験（強制劣化試験）を実施しない以外は同様にして、光学干渉層１１〜１５を各々作製した。

《光学干渉層１６〜１９の作製》
実施例１の光学干渉層６〜９の作製において、光学干渉層形成用塗布液の各々に６０℃、７日間の保存試験（強制劣化試験）を実施しない以外は同様にして、光学干渉層１６〜１９を各々作製した。

《光学干渉層２０、２１の作製》
実施例１の光学干渉層２の作製において、光学干渉層形成用塗布液２の調製に用いた酸化チタン分散液１の代わりに、下記の酸化チタン分散液３、４を各々用いて、光学干渉層２０、２１を各々作製した。

（酸化チタン分散液３の調製）
実施例１の酸化チタン分散液１の調製において、分散液組成を下記に変更した以外は同様にして、酸化チタン分散液３を調製した。

酸化チタン微粒子（Ｔｉ／Ｓｉ元素比率＝７０／３０） １５部
ソルスパース５０００（アビシア社製） ２部
ジアセトンアルコール １７部
ｎ−ブタノール ６６部
平均粒径は１１８ｎｍ
（酸化チタン分散液４の調製）
実施例１の酸化チタン分散液１の調製において、分散液組成を下記に変更した以外は同様にして、酸化チタン分散液４を調製した。

酸化チタン微粒子（Ｔｉ／Ｓｉ元素比率＝５５／４５） １５部
ソルスパース５０００（アビシア社製） ２部
ジアセトンアルコール １７部
ｎ−ブタノール ６６部
平均粒径は１０８ｎｍ
《光学干渉層２２、２３の作製》
実施例１の光学干渉層６の作製において、光学干渉層形成用塗布液６の調製に用いた酸化チタン分散液１の代わりに、下記の酸化チタン分散液５、６を各々用いて、光学干渉層２２、２３を各々作製した。

（酸化チタン分散液５の調製）
実施例１の酸化チタン分散液１の調製において、分散液組成を下記に変更した以外は同様にして、酸化チタン分散液５を調製した。

酸化チタン微粒子（Ｔｉ／Ｓｉ元素比率＝９３／７） １５部
ソルスパース５０００（アビシア社製） ２部
ジアセトンアルコール １７部
ｎ−ブタノール ６６部
平均粒径は１２０ｎｍ
（酸化チタン分散液６の調製）
実施例１の酸化チタン分散液１の調製において、分散液組成を下記に変更した以外は同様にして、酸化チタン分散液６を調製した。

酸化チタン微粒子（Ｔｉ／Ｓｉ元素比率＝１００／０） １５部
ソルスパース５０００（アビシア社製） ２部
ジアセトンアルコール １７部
ｎ−ブタノール ６６部
平均粒径は１１１ｎｍ
得られた光学干渉層１１〜２３の各々について、膜強度、屈折率の評価を行った。

《膜強度》
光学干渉層１１〜２３の各々の光学干渉層を、ベンコットで擦り、傷のつき方を下記のようにランク評価した。

◎ ：強く擦っても傷が入らない
○ ：やや強く擦っても傷が入らない
○△：やや強く擦っても、目視で見える傷はほとんどなし
△ ：やや強く擦ると、弱い傷が入る
× ：擦ると、傷が入る
本発明では、○△以上が実用化可能なレベルである。

《屈折率の測定》
光学干渉層１１〜２３の光学特性として、各光学干渉層の屈折率を測定した。

屈折率の測定は、各サンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求めることが出来る。分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所製）を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率の測定を行うことにより、屈折率の測定が可能である。また、この方法により、各サンプルの膜厚についても同時に測定可能である。

得られた結果を表４に示す。

表４から、比較に比べて、本発明の試料は高い屈折率を示し、且つ、高い膜強度を有することが判る。

実施例３
《反射防止フィルムの作製》
下記のようにして反射防止フィルム１〜１３を作製した。

《反射防止フィルム１の作製》
実施例２と同様にして、セルローストリアセテートフィルム（コニカ（株）製コニカタックＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、屈折率１．４９、アセチル基の置換度２．８８）の片面にハードコート層を作製し、実施例２の塗布液７を用いて、第一の高屈折率層（中屈折率層とも言う）を形成した。第１の高屈折率層の厚みは９７ｎｍに調整した。

次いで、第１の屈折率層上に塗布液１を塗布乾燥し、紫外線を照射し、第２の高屈折率層を形成した。第２の高屈折率層の厚みは９０ｎｍに調整した。

次いで、第２の高屈折率層上に、下記低屈折率層形成用塗布液１４を塗工し、低屈折率層を形成し、反射防止フィルム１を作成した。

低屈折率層の厚みは１０５ｎｍとなる条件とした。

（低屈折率層形成用塗布液１４の調製）
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン２９ｇとエタノール５５ｇを混合し、これに酢酸の１．６質量％水溶液１６ｇを添加した後に、２５℃にて２８時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Ａを調製した。

〈塗布液１４〉
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ ２３０質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシシラン
（ＫＢＭ５０３：信越化学社製） ６質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマーの
１０％ＰＧＭＥ溶液
（ＦＺ−２２０７：日本ニユカー社製） ３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ） ３８０質量部
イソプロピルアルコール ３８０質量部
《反射防止フィルム２〜１３の作製》
反射防止フィルム１の作製において、層形成に用いる塗布液の種類を表３に記載のように変更した以外は同様にして、反射防止フィルム２〜１３を各々作製した。

得られた反射防止フィルム１〜１３について、耐擦傷性（初期とＵＶ照射後）、反射率、基点故障を各々評価した。

《耐擦傷性》
フィルムを平滑な台の上に置き、＃００００のスチールウール上に１ｃｍ²あたり２００ｇの荷重をかけて、フィルム表面を２０往復擦り、擦る方向と垂直方向に１ｃｍの範囲で発生した傷の本数を目視で数え、以下の基準で評価した。

耐擦傷性については、反射防止フィルムの作製直後（初期という）と、前記反射防止フィルムに下記の条件で紫外線照射を行った後の２条件の評価を行った。

（耐ＵＶ性：ＵＶ照射後の耐擦傷性評価）
反射防止フィルムを２５℃の温度で、１０００ｍＷ／ｃｍ²の高圧水銀ランプに２４時間照射し、耐擦傷性を評価した。

また、評価は下記のようなランク評価を行った。

○ ：傷の本数が０本
○△：傷の本数が１〜５本未満である
△ ：傷の本数が５本以上〜２０本未満である
× ：傷の本数が２０本以上である
本発明では、○△、○を実用可とした。

《反射率》
反射防止フィルムの光学特性として、反射率を測定した。ここｄ、え反射率は、分光光度計の分光反射率の測定結果から求める。分光光度計はＵ−４０００型（日立製作所製）を用いて、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００〜７００ｎｍ）の反射率の測定を行う。反射率はＪＩＳ Ｚ ８７２９に記載のＣＩＥ ＸＹＺに順じて求めたＹ値とする。

測定する試料は、正確な反射スペクトルを測定するために処理を施す。試料の処理は、低反射積層体を透過した光が測定台などに反射して測定されることを防ぐため、試料の支持体の反射防止層が設けられていない面を、３７０ｎｍから７３０ｎｍにおける透過率が１０％未満、このましくは１％満となるように黒色に着色する。

《輝点故障（輝点異物ともいう）》
各反射防止フィルムを、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長の透過濃度が２．０以上のアクリル板に、粘着材を使用して貼り合わせた。

作製したサンプルを、目視で評価し、輝点（周囲に対し光って見える部位）の個数を確認した。輝点は、表面に付着した異物および貼り合わせ時の異物による場合があるため、これらの輝点は評価から外した。評価は下記のランク評価を行った。

○ ：輝点が０．５個／ｍ²未満
○△：輝点が０．５以上２個／ｍ²未満
△ ：輝点が２個以上１０個／ｍ²未満
× ：輝点が１０固／ｍ²以上
本発明では、△以上が実用に耐えられるレベル
得られた結果を表５に示す。

表５から、比較に比べて、本発明の試料は、耐擦傷性が高く、低い反射率であり、且つ、輝点故障が少ないことが明らかである。

実施例４：表示装置（液晶表示パネル）作製と評価
《偏光板１〜１４の作製》
延伸処理したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例３の本発明の反射防止フィルム１〜６、本発明の反射防止フィルム８〜１３、比較の反射防止フィルム７、１４〜１０の各々を偏光膜の片側に貼り付けた。もう一方の面には市販のセルローストリアセテートフィルム（コニカタックＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、コニカ（株）製）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼合し、本発明の偏光板１〜６、８〜１３、比較の偏光板７、１４を各々作製した。

《液晶パネル１〜１０の作製》
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。

富士通製１５型ディスプレイＶＬ−１５０ＳＤのあらかじめ貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板１〜１４を各々液晶セルのガラス面に貼合したものを作製した。

その際、その偏光板の貼合の向きは、市販のセルローストリアセテートフィルム（コニカタックＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、コニカ（株）製）の面が、液晶セル側となるように、且つ、あらかじめ貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、本発明の液晶パネル１〜６、８〜１３、比較の液晶パネル７、１４を各々作製した。

得られた液晶パネル１〜１４の中で、下記に記載のようにして視認性評価を行ったところ、比較に比べて、本発明の液晶パネル１〜６、８〜１３は各々、いずれも○〜◎であり視認性が優れていることがわかった。

《視認性評価》
液晶パネル（液晶表示装置）を屋内で目視観察し、斜め方向の視認性（黒のしまりと鮮明度）を評価し、次いで、屋外にて黒画像を表示させ、輝点の発生を目視評価し、下記のようにランク評価した。

◎：黒がしまって見え、鮮明であり、輝点がまったく認められない
○：黒がしまって見え、鮮明であるが、わずかに輝点が認められる
△：黒のしまりがなく、鮮明さがやや低く、輝点が認められる
×：黒のしまりがなく、鮮明さが低く、輝点発生が気になる
本発明においては、○、◎が実用可である。

Claims (8)

1. 少なくとも金属酸化物微粒子と有機金属化合物とを含み、且つ、ジアセトンアルコールを含有する光学干渉層形成用塗布液において、
   該金属酸化物微粒子を、少なくとも該ジアセトンアルコールを含有する溶剤中で分散する工程を経て調製されたことを特徴とする光学干渉層形成用塗布液。
2. 金属酸化物微粒子１００質量部に対し、有機金属化合物を５質量部〜７０質量部を含み、樹脂または重合性単量体の含有量が１５０質量部以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学干渉層形成用塗布液。
3. 前記金属酸化物微粒子がコア／シェル構造を有し、該コア部が酸化チタンを主成分として含み、該シェル部が少なくとも１種の、金属酸化物Ａを有し、前記金属酸化物微粒子を構成するチタン元素（Ｔｉ）と該金属酸化物Ａを構成する金属元素Ａとの元素比率（Ｔｉ／Ａ）が、９５／５〜６０／４０であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学干渉層形成用塗布液。
4. 前記金属酸化物Ａが、シリカ、酸化アンチモン、酸化錫、ＡＴＯ（アンチモンドープティンオキサイド）、ＰＴＯ（リンをドープしたティンオキサイド）及びＩＴＯ（インジウムティンオキサイド）からなる群から選択される少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学干渉層形成用塗布液。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学干渉層形成用塗布液を支持体上に塗布乾燥後、紫外線照射工程を経て作製されたことを特徴とする光学干渉層。
6. 支持体の少なくとも一方の面に、該支持体の屈折率Ａよりも高い屈折率を示す高屈折率層及び、該屈折率Ａよりも低い屈折率を示す低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムにおいて、
   該高屈折率層の少なくとも１層が請求項５に記載の光学干渉層であり、該低屈折率層が、ＳｉＯ₂を主成分として含むことを特徴とする反射防止フィルム。
7. 請求項６に記載の反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板。
8. 請求項６に記載の反射防止フィルムまたは請求項７に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。