JP5408135B2 - 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents
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Description
さらに、該ハードコート層が熱可塑性アクリル樹脂とラジカル重合性化合物とを含有し、該熱可塑性アクリル樹脂と該ラジカル重合性化合物との含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂:ラジカル重合性化合物=0.50:100〜20:100の範囲内であることが好ましい。
本発明の光学フィルム、特にハードコート層を有する光学フィルム(ハードコートフィルム)において、該ハードコート層は、熱可塑性アクリル樹脂を含有することを一つの特徴としている。
本発明に係る熱可塑性アクリル樹脂(以下、単に「アクリル樹脂」ともいう。)は、メタクリル樹脂も含まれる。樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位50〜99質量%、およびこれと共重合可能な他の単量体単位1〜50質量%からなるものが好ましい。
カラム: Shodex K806、K805、K803G
(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン
(東ソー(株)製)Mw=2,800,000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
本発明において用いられるラジカル重合性化合物としては、エネルギー活性線の照射等によってラジカル重合を起こして樹脂化する化合物であり、また、具体的なラジカル重合性化合物としては、(メタ)アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等を有する化合物が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましい。また、ラジカル重合性化合物としては、分子内に2個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。好ましい具体的化合物としては、多官能アクリレートであり、中でもペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる多官能アクリレートが好ましい。多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、イソボロニルアクリレート等が好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独又は2種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであってもよい。
ラジカル重合性化合物の硬化促進のために、光重合開始剤をラジカル重合性化合物と併用して用いることが好ましい。光重合開始剤とラジカル重合性化合物とを併用して用いる場合には、光重合開始剤とラジカル重合性化合物とを質量比で20:100〜0.01:100含有することが好ましい。
本発明において用いられるカチオン重合性化合物としては、エネルギー活性線照射や熱によってカチオン重合を起こして樹脂化する化合物であり、具体的には、エポキシ基、環状エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル化合物、ビニルオキソ基等を有する化合物が挙げられる。中でもエポキシ基やビニルエーテル基などの官能基を有する化合物が本発明においては、好適に用いられる。エポキシ基又はビニルエーテル基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、リモネンジオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−(6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ化合物としては、ポリマー化合物も使用することができ、例えば、特開平7−247313号公報に開示されている手法で合成することができる。
上記一般式(I)〜(III)において、R7、R9、R10、R11がアルキル基の場合、その炭素数は1〜6程度であることができ、具体的には、メチル、エチル、プロキル、ブチルなどが挙げられる。またフルオロアルキル基も、炭素数1〜6程度であることができる。さらにアリール基は、典型的にはフェニル又はナフチルであり、これらは他の基で置換されていてもよい。
(式中、Rfはフッ素含有アルキル基、aは1〜2、bは0〜3の整数を表す。Rfは直鎖あるいは分枝のアルキル基のいずれであってもよい。)
具体的化合物としては次のとおりである。
CH2=CH−O−CH2−O−CH2−(CF2)k−CH2−O−CH2−O−CH=CH2
CH2=CH−O−CH2−O−(CH2)2−(CF2)k−(CH2)2−O−CH2−O−CH=CH2
CH2=CH−O−CH2−O−(CH2)3−(CF2)k−(CH2)3−O−CH2−O−CH=CH2
CH2=CH−O−(CH2)2−O−(CF2)k−O−(CH2)2−O−CH=CH2
CH2=CH−O−(CH2)2−O−CH2−(CF2)k−CH2−O−(CH2)2−O−CH=CH2
CH2=CH−O−(CH2)2−O−(CH2)2−(CF2)k−(CH2)2−O−(CH2)2−O−CH=CH2
CH2=CH−O−(CH2)2−O−(CH2)3−(CF2)k−(CH2)3−O−(CH2)2−O−CH=CH2
上記において、kは好ましくは2以上12以下の整数であり、更に好ましくは、kが4以上10以である。上記含フッ素のビニルエーテル化合物は、含フッ素ジアルコール体とハロゲン基をもつビニルエーテルをアルカリ触媒下で反応させることによって製造することができる。また、含フッ素エポキシ化合物を含有してもよく、例えば特開平11−309830号公報の一般式(1)〜(4)に記載の化合物を用いることができる。具体的には以下に示す含フッ素エポキシ化合物1〜4の化合物を挙げることができるが、これらに限定されない。
更にハードコート層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又はゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを添加してもよい。これら樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−COOM、−OH、−NR2、−NR3X、−SO3M、−OSO3M、−PO3M2、−OPO3M(ここで、Mは水素原子、アルカリ金属又はアンモニウム基を、Xはアミン塩を形成する酸を、Rは水素原子、アルキル基を表す)等を挙げることができる。
式中、nは2〜40を表す。
ハードコート層形成において、ハードコート層は塗布乾燥後に、光照射後、加熱処理する工程を含むことが好ましい。
本発明のハードコートフィルムのハードコート層上に、直接又は他の層を介して低屈折層が積層された、反射防止フィルムも本発明の目的効果を発揮する。本発明における低屈折層とは、フィルム基材よりも屈折率の低い層をいう。反射防止フィルムの反射防止層は、低屈折率層の他に、支持体よりも屈折率の高い高屈折率層を更に組み合わせて、構成しても良い。更に、中屈折率層(支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)も積層されても良い。具体的な反射防止フィルムの層構成としては下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。
フィルム基材/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
フィルム基材/ハードコート層/低屈折率層
フィルム基材/ハードコート層/導電性層/低屈折率層
フィルム基材/ハードコート層/高屈折率層(導電性層)/低屈折率層
フィルム基材/ハードコート層/防眩性層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/中屈折率層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/防眩性層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/導電性層/低屈折率層
バックコート層/フィルム基材/ハードコート層/高屈折率層(導電性層)/低屈折率層
〔低屈折率層〕
本発明に係る「低屈折率層」とは、透明フィルム基材の屈折率よりも低い層をいう。具体的な屈折率としては、23℃、波長550nmで1.20〜1.45の範囲のものが好ましく、1.25〜1.40の範囲のものが更に好ましく、1.30〜1.37の範囲のものが特に好ましい。また、低屈折率層の膜厚は、光学干渉層としての特性から、5nm〜0.5μmが好ましく、10nm〜0.3μmがより好ましく、30nm〜0.2μmであることが更に好ましい。
本発明に係る低屈折率層は、カチオン重合性化合物を含有することが、密着性の観点から好ましい。
カチオン重合性化合物の重合を促進する化合物として、公知の酸や光酸発生剤を挙げることができる。光酸発生剤としては、カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。具体的には、例えば、オニウム化合物、有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物が挙げられ、好ましくは、オニウム化合物である。オニウム化合物としては、以下の各式に示されるジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などが好適に使用される。
(R)3S+Z−、
(R)2I+Z−
式中、Arはアリール基を表し、Rはアリール基又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、一分子内にRが複数回現れる場合は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、Z−は非塩基性でかつ非求核性の陰イオンを表す。
中空シリカ系微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、又は(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体又は多孔質物質で充填された空洞粒子である。なお、低屈折率層には(I)複合粒子又は(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、又は、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、又は、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物又はケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物又はケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
また、低屈折率層は、バインダーとして、カチオン性重合化合物を含有することが、目的効果や耐擦傷性がより良く発揮される点から好ましい。カチオン性重合化合物としては、前述したハードコート層に記載した化合物を用いることができる。その他、カチオン重合性化合物の重合を促進する化合物として、上記の酸や光酸発生剤を用いることも好ましい。これらの酸や光酸発生剤は、カチオン重合性化合物100質量部に対して、0.1〜20質量部の割合が好ましく、より好ましくは0.5〜15質量部の割合で添加することが、低屈折率層形成組成物中での安定性、重合反応性等から好ましい。
低屈折率層は有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
反射防止層は、上述の低屈折率層の他に、下記のような高屈折率層を有してもよい。
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基又は加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合又はイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
光重合開始剤の添加量は、質量比で光重合開始剤:ラジカル重合性化合物=3:7〜1:9含有することが好ましい。
導電性層はフィルム基材上に設けることができ、例えば、ハードコート層と反射防止層との間、又は該反射防止層が設けられた側とは反対の面のフィルム基材上に塗設することができる。
本発明のハードコートフィルム又は反射防止フィルムは、ハードコート層を設けた側と反対側の面にバックコート層(「樹脂層」ともいう。)を設けることが好ましい。バックコート層は、ハードコート層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることができる。なお、バックコート層はブロッキング防止層を兼ねて塗設されることが好ましいが、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。
カラム:Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度:0.1質量%
検出器:RI Model 504(GLサイエンス(株)社製)
ポンプ:L6000(日立製作所(株)製)
流量:1.0ml/min
校正曲線:標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に得ることが好ましい。
本発明に係るバックコート層(樹脂層)には、バインダーを含有させることも好ましい。バインダーとして、例えば塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル/塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル/アクリロニトリル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体あるいは共重合体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル/スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル/塩素化ポリエチレン/スチレン共重合体、メチルメタクリレート/ブタジエン/スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン/ブタジエン樹脂、ブタジエン/アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を併用することができる。
本発明に係るバックコート層(樹脂層)は、前記アクリル樹脂の粒子又は/及び下記の金属酸化物微粒子を含有してもよい。該粒子は通常、ブロッキング防止機能を持たせるために添加されるが、バックコート層(樹脂層)に含まれるセルロースエステルを構成成分とした場合、干渉ムラとブロッキング防止効果をより高めるために、平均粒径0.1〜1.0μmの粒子を、5〜50質量%含有することが好ましい。粒子の平均粒径は、光散乱方式やレーザードップラー方式を用いた市販の粒径測定装置、例えば、ゼータサイザー1000(マルバーン(株)社製)、レーザ回折散乱法粒度分布測定装置(L32 ベックマン・コールター株式会(株)社製)等を用いて、簡便に求めることができる。
本発明においてはバックコート層(樹脂層)の塗布組成物の一つとして可塑剤を用いることが好ましい。可塑剤としては前記透明フィルムの項で述べた可塑剤を用いることができる。
本発明においてはバックコート層(樹脂層)の塗布組成物の一つとして有機溶剤を用いることが好ましい。有機溶剤は、溶剤としての機能の他に、アンチカール機能の付与がある。アンチカール機能の付与は、具体的には光学フィルム基材として用いる透明フィルムを溶解させる溶剤または膨潤させる溶剤を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる有機溶剤としては、溶解させる溶剤または膨潤させる溶剤の混合物の他、さらに溶解させない溶剤を含む場合もあり、これらを透明フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。
本発明の光学フィルムは、塗布または、プラズマCVD法、特に大気圧プラズマ処理法等によって種々な機能層を形成するのにも適しており、これらは本発明の光学フィルムに種々の機能を付与するのに有用である。これらによって、ハードコート層上に直接または間接に設けた反射防止層(低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層)、透明導電層、帯電防止層、防汚層等を更に形成することができる。
反射防止フィルムの反射率は、分光光度計、分光測色計により測定を行うことができる。その際、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色スプレー、黒色アクリル板の貼り付け等して光吸収処理を行ってから、可視光領域(400〜700nm)の反射光を測定する。
各層を塗布する前に表面処理してもよい。表面処理方法としては、洗浄法、アルカリ処理法、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられる。
本発明の特徴の一つであるフィルム基材について説明する。本発明に係るフィルム基材は、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを含有し、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂:セルロースエステル樹脂=95:5〜50:50であることを特徴とする。前記範囲で熱可塑性アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を併用し、該範囲のフィルム基材上にフィルム基材の熱可塑性アクリル樹脂を含有したハードコート層を設けることで、本発明の目的効果が発揮される。
フィルム基材としての熱可塑性アクリル樹脂とは、後述するセルロースエステル樹脂と相溶状態で含有する樹脂である。具体的には、ハードコート層で前述した化合物を用いことができる。また、フィルム基材に用いられるアクリル樹脂は、目的効果が良好に発揮されることやセルロースエステル樹脂との相溶性から、重量平均分子量(Mw)が、80000〜1000000の範囲内であることが好ましい。さらには、110000〜500000の範囲内であることが好ましい。
セルロースエステル樹脂は、脆性の改善やアクリル樹脂と相溶させたときに透明性の観点から、アシル基の総置換度(T)が2.0〜3.0、炭素数が3〜7のアシル基の置換度が1.2〜3.0であり、炭素数3〜7のアシル基の置換度は、2.0〜3.0であることが好ましい。即ち、本発明において用いられるセルロースエステル樹脂は炭素数が3〜7のアシル基により置換されたセルロースエステル樹脂であり、具体的には、プロピオニル、ブチリル等が好ましく用いられるが、特にプロピオニル基が好ましく用いられる。
本発明に係るフィルム基材の脆性の改善や優れた鉛筆硬度が得られる点から、アクリル粒子を含有することが好ましい。
フィルム基材には、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を併用することも可能である。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、あるいはエポキシ系等が挙げられる。この中で、ポリエステル系とフタル酸エステル系の可塑剤が好ましく用いられる。ポリエステル系可塑剤は、フタル酸ジオクチルなどのフタル酸エステル系の可塑剤に比べて非移行性や耐抽出性に優れるが、可塑化効果や相溶性にはやや劣る。
フィルム基材の製膜方法の例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。フィルム基材の製膜方法としては、インフレーション法、T−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。
フィルム基材を溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。
本発明のハードコートフィルム又は反射防止フィルムは、偏光板保護フィルム用として用いることが好ましい。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたハードコートフィルム又は反射防止フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを貼り合わせる方法があり、少なくとも片面に本発明のハードコートフィルム又は反射防止フィルムが偏光子に直接貼合することが好ましい。
本発明のハードコートフィルム又は反射防止フィルムを用いた偏光板について述べる。偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明のハードコートフィルム又は反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理したハードコートフィルム又は反射防止フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面に該ハードコートフィルム又は反射防止フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明のハードコートフィルム又は反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、厚さ方向リターデーションRtが100〜400nmの位相差を有する光学補償フィルム(位相差フィルム)を用いることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957号、特願2002−155395号記載の方法で作製することができる。又は、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348号記載の方法で光学異方性層を形成することができる。或いは、特開2003−12859号記載のリターデーションRoが590nmで0〜5nm、Rtが−20〜+20nmの無配向フィルムも好ましく用いられる。
本発明のハードコートフィルム又は反射防止フィルムを用いて作製した偏光板を液晶表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた液晶表示装置を作製することができる。本発明のハードコートフィルム又は反射防止フィルムは前記偏光板に組み込まれ、反射型、透過型、半透過型LCD又はTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型、OCB型等の各種駆動方式の液晶表示装置で好ましく用いられる。
1. ハードコート層を有する光学フィルム(以下「ハードコートフィルム」という。)についての検討
実施例1
〔アクリル樹脂A2の調製〕
先ず、メチルメタクリレート/アクリルアミド共重合体系懸濁剤を、次の様にして調製した。
アクリルアミド 80質量部
過硫酸カリウム 0.3質量部
イオン交換水 1500質量部
上記を反応器中に仕込み、反応器中を窒素ガスで置換しながら、単量体が完全に重合体に転化するまで、70℃に保ち反応を進行させた。得られた水溶液を懸濁剤とした。容量が5リットルで、バッフルおよびファウドラ型撹拌翼を備えたステンレス製オートクレーブに、上記懸濁剤0.05質量部をイオン交換水165質量部に溶解した溶液を供給し、系内を窒素ガスで置換しながら400rpmで撹拌した。次に、下記仕込み組成の混合物質を、反応系を撹拌しながら添加した。
メチルメタクリレート 73質量部
t−ドデシルメルカプタン 1.2質量部
2,2′−アゾビスイソブチロニトリル 0.4質量部
添加後、70℃まで昇温し、内温が70℃に達した時点を重合開始時点として、180分間保ち、重合を進行させた。その後、通常の方法に従い、反応系の冷却、ポリマーの分離、洗浄、乾燥を行い、ビーズ状の共重合体を得た。この共重合体の重合率は97%であり、重量平均分子量は130000であった。この共重合体に添加剤(NaOCH3)を0.2質量%配合し、2軸押出機(TEX30(日本製鋼社製、L/D=44.5))を用いて、ホッパー部より窒素を10L/分の量でパージしながら、スクリュー回転数100rpm、原料供給量5kg/時、シリンダ温度290℃で分子内環化反応を行い、ペレットを作製し、80℃で8時間真空乾燥してアクリル樹脂A2を得た。アクリル樹脂A2の重量平均分子量(Mw)は130000、Tgは140℃であった。
A3:モノマー質量比(MMA:MA=98:2)、Mw70000
MS1:モノマー質量比(MMA:ST=60:40)、Mw100000
(MA:メタクリル酸、MMA:メチルメタクリレート、ST:スチレンを表す)
また、特開2005−146084号公報の実施例1に記載のアクリル樹脂を、段落番号[0068]〜[0070]項に記載の方法と同様の方法で調製し、B1として用いた。B1の重量平均分子量は244000であった。
ダイヤナールBR88(三菱レイヨン(株)製) Mw480000
ダイヤナールBR80(三菱レイヨン(株)製) Mw95000
上記市販のアクリル樹脂における分子中のMMA単位の割合は、いずれも90質量%以上99質量%以下であった。
〈フィルム基材1の作製〉
(ドープ液組成1)
ダイヤナールBR85(三菱レイヨン(株)製) 70質量部
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度:2.75、アセチル基置換度0.19、プロピオニル基置換度2.56、Mw=200000) 30質量部
メチレンクロライド 300質量部
エタノール 40質量部
上記組成物を、加熱しながら十分に溶解し、ドープ液を作製した。
上記作製したドープ液を、ベルト流延装置を用い、温度22℃、2m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力162N/mでステンレスバンド支持体上から剥離した。
上記作製したフィルム基材1に下記手順によりハードコート層及びバックコート層を塗設し、ハードコートフィルム1を作製した。
アクリル樹脂(Mw280000、商品名:ダイヤナールBR85、三菱レイヨン(株)製)3.8質量部をメチルエチルケトン100質量部で溶解したのち、下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物1とした。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 180質量部
(NKエステルA−DPH、新中村化学工業株式会社製)
(光重合開始剤)
イルガキュア184(チバ・ジャパン株式会社製) 6質量部
イルガキュア907(チバ・ジャパン株式会社製) 8質量部
(シリコーン系界面活性剤)
ポリエーテル変性シリコーン化合物(商品名;KF−355A、信越化学工業株式会社製) 9質量部
(溶媒)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
酢酸メチル 80質量部
(バックコート層組成物1)
アセトン 89.0質量部
イソプロパノール 10.0質量部
セルロースアセテートプロピオネート 0.6質量部
(アシル基総置換度2.7、アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)
超微粒子シリカ2%アセトン分散液 0.2質量部
(日本アエロジル株式会社製アエロジル200V)
(ハードコートフィルム2〜10の作製)
フィルム基材1の作製において、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の種類と含有比率を、表1に記載の如きに変化させた以外は同様にして、ハードコートフィルム2〜10を作製した。
ハードコートフィルム7及び8の作製において、ハードコート組成物をハードコート組成物2に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム11及び12を作製した。
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物2とした。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 180質量部
(NKエステルA−DPH、新中村化学工業株式会社製)
(光重合開始剤)
イルガキュア184(チバ・ジャパン株式会社製) 6質量部
イルガキュア907(チバ・ジャパン株式会社製) 8質量部
(シリコーン系界面活性剤)
ポリエーテル変性シリコーン化合物(商品名;KF−355A、信越化学工業株式会社製) 9質量部
(溶媒)
イソプロピルアルコール 180質量部
(ハードコートフィルム13の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート組成物をハードコート組成物3に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム13を作製した。
アクリル樹脂(Mw480000、商品名:ダイヤナールBR88、三菱レイヨン(株)製)3.8質量部をメチルエチルケトン100質量部で溶解したのち、下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物3とした。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 180質量部
(NKエステルA−DPH、新中村化学工業株式会社製)
(光重合開始剤)
イルガキュア184(チバ・ジャパン株式会社製) 6質量部
イルガキュア907(チバ・ジャパン株式会社製) 8質量部
(シリコーン系界面活性剤)
ポリエーテル変性シリコーン化合物(商品名;KF−355A、信越化学工業株式会社製) 9質量部
(溶媒)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
酢酸メチル 80質量部
(ハードコートフィルム14の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート組成物をハードコート組成物4に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム14を作製した。
アクリル樹脂(Mw280000、商品名:ダイヤナールBR85、三菱レイヨン(株)製)5.0質量部をメチルエチルケトン100質量部で溶解したのち、下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物4とした。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 180質量部
(NKエステルA−DPH、新中村化学工業株式会社製)
(光重合開始剤)
イルガキュア184(チバ・ジャパン株式会社製) 6質量部
イルガキュア907(チバ・ジャパン株式会社製) 8質量部
(シリコーン系界面活性剤)
ポリエーテル変性シリコーン化合物(商品名;KF−355A、信越化学工業株式会社製) 9質量部
(溶媒)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 100質量部
酢酸メチル 80質量部
《評価》
上記作製したハードコートフィルム1〜14について、下記の耐久性試験を実施後、以下の項目について評価した。得られた結果を表1に示した。
上記作製したハードコートフィルムの各ロールから、15cm×15cmサイズに試験試料を切り出して、屋外使用を想定したサイクルサーモ(−40℃・30分放置、次いで85℃・30分放置、を交互に500サイクル)に投入後、ハードコート層を表面にしてサンシャインカーボンアークで20日間光照射し、耐久性試験を実施した。次に耐久性試験を実施したハードコートフィルムを、温度23℃、相対湿度55%の条件で24時間調湿後、評価した。
JIS−S6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS−K5400が規定する鉛筆硬度評価法に従い、500gのおもりを用いて各硬度の鉛筆でハードコート層表面を5回繰り返し引っ掻き、傷が1本までの硬度を測定した。3H以上が、高硬度であり、数字か高いほど、高硬度を示す。
ハードコート層表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを入れて、合計100個の正方形の升目を刻み、ポリエステル粘着テープ(品番31B、日東電工株式会社製)における密着試験を、同じ場所で繰り返し3回行った。剥がれの有無を目視で観察し、下記の4段階評価を行った。
○:100升目において剥がれが、2升目以内のもの
△:100升目において剥がれが、3升目〜10升目のもの(実用上問題となるレベル)
×:100升目において剥がれが、11升目を越えたもの
《延性破壊試験:脆性評価》
ハードコートフィルムを100mm(縦)×10mm(幅)で切り出し、縦方向の中央部で、曲率半径8mmで山折り、谷折りとなるようにそれぞれ1回ずつ折りまげた。この試験を3回行い、下記基準で評価した。
○:3回とも支持体とハードコート層の一部に、ひびが若干認められるが、
実用上問題ないレベル
×:3回のうち少なくとも1回は、フィルムを折り曲げた部分が割れた。
鉛筆硬度、密着性及び脆性の結果から、下記の基準で総合評価を行った。
○:鉛筆硬度が3H以上で、密着性及び脆性のどちらも○以上
△:鉛筆硬度が3H以上で、密着性△或いは脆性が×(実用上問題となるレベル)
×:鉛筆硬度が2H以下で、密着性△或いは脆性が×
(ハードコートフィルム15〜19の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート組成物のアクリル樹脂の添加量をラジカル重合性化合物であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(A−DPH)に対して、表2に記載の如き変化させた以外は、同様にしてハードコートフィルム15〜19を作製した。
上記作製したハードコートフィルム15〜19.及び実施例1で作製したハードコートフィルム1について、下記耐久性試験の条件に変更した以外は実施例1と同様にして評価した。得られた結果を表2に示した。
上記作製したハードコートフィルムの各ロールから、15cm×15cmサイズに試験試料を切り出して、屋外使用を想定したサイクルサーモ(−40℃・30分放置、次いで85℃・30分放置)を500サイクルから600サイクルに変更して、サイクルサーモに投入後、ハードコート層を表面にしてサンシャインカーボンアークで20日間光照射し、耐久性試験を実施した。次に耐久性試験を実施したハードコートフィルムを、温度23℃、相対湿度55%の条件で24時間調湿後、評価した。
(ハードコートフィルム20〜23の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート組成物のアクリル樹脂を表3に記載の如き変化させた以外は、同様にしてハードコートフィルム20〜23を作製した。なお、表3に記載のA3及びA4のアクリル樹脂は実施例1と同様の重合反応で得た。A3、A4及び市販のアクリル樹脂は以下の通りである。
A4:モノマー質量比(MMA:MA=97:3)、Mw550000
ダイヤナールBR80(三菱レイヨン(株)製)、Mw95000
《評価》
上記作製したハードコートフィルム20〜23、実施例1で作製したハードコートフィルム1及び13について、実施例2と同様にして耐久性試験及び評価を行った。得られた結果を表3に示した。
(ハードコートフィルム24の作製)
実施例1で作製したフィルム基材8に下記手順により2層からなるハードコート層及びバックコート層を塗設し、ハードコートフィルム24を作製した。
実施例1で作製したフィルム基材8に、ハードコート層組成物1の溶媒を下記溶媒に替えたハードコート層組成物14を調製し、ハードコートフィルム1と同様に塗設してハードコートフィルム25を作製した。
メチルエチルケトン 50質量部
酢酸メチル 50質量部
《評価》
上記作製したハードコートフィルム24、25及び実施例1で作製したハードコートフィルム8について、下記耐久性試験の条件に変更した以外は実施例1と同様にして評価した。得られた結果を表4に示した。
上記作製したハードコートフィルムの各ロールから、15cm×15cmサイズに試験試料を切り出して、屋外での使用を想定したサイクルサーモ(−40℃・30分放置、次いで85℃・30分放置)を500サイクルから600サイクルに変更して、サイクルサーモに投入後、ハードコート層を表面にしてサンシャインカーボンアークの光照射日数を20日間から30日間に変更し、光照射して、耐久性試験を実施した。次に耐久性試験を実施したハードコートフィルムを、温度23℃、相対湿度55%の条件で24時間調湿後、評価した。
(ハードコートフィルム26〜30の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、フィルム基材1を以下に記載したフィルム基材11〜15に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム26〜30を作製した。
〈アクリル粒子(C1)の調製〉
内容積60リットルの還流冷却器付反応器に、イオン交換水38.2リットル、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム111.6gを投入し、250rpmの回転数で攪拌しながら、窒素雰囲気下75℃に昇温し、酸素の影響が事実上無い状態にした。APS0.36gを投入し、5分間攪拌後にMMA1657g、BA21.6g、およびALMA1.68gからなる単量体の混合物を一括添加し、発熱ピークの検出後さらに20分間保持して最内硬質層の重合を完結させた。
MA;メチルアクリレート
BA;n−ブチルアクリレート
ALMA;アリルメタクリレート
PEGDA;ポリエチレングリコールジアクリレート(分子量200)
n−OM;n−オクチルメルカプタン
APS;過硫酸アンモニウム
(フィルム基材11〜15の作製)
(ドープ液組成11)
ダイヤナールBR85(三菱レイヨン(株)製) 70質量部
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度2.75、アセチル基置換度0.19、プロピオニル基置換度2.56、Mw=200000)
30質量部
メチレンクロライド 300質量部
エタノール 40質量部
上記調製したアクリル粒子(C1) 21質量部
上記組成物を、加熱しながら十分に溶解し、ドープ液を作製した。次に、実施例1のフィルム基材1の製造方法と同様にして、フィルム基材11を作製した。
上記作製したハードコートフィルム26〜30、実施例1で作製したハードコートフィルム1について、実施例4と同様にして耐久性試験及び評価を行った。得られた結果を表5に示した。
(反射防止フィルム1〜14の作製)
実施例1で作製したハードコートフィルム1〜14、それぞれについて、再び繰り出して、ハードコート層表面上に下記の低屈折率層塗布組成物1を、乾燥後の膜厚が85nmとなるように、マイクログラビアコーターで塗布し、温度80℃で1分間乾燥させ、ついで酸素濃度が0.5体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が300mW/cm2、照射量を0.35J/cm2条件で硬化させた。
(含フッ素エポキシ化合物1の調製)
1,3−ジヒドロキシヘキサフルオロイソプロピルベンゼン81.03gとエピクロロヒドリン185gを混合し、水酸化ナトリウム16.27gと水40mlを加え、撹拌下で加熱還流させた。130℃で3時間反応後、自然冷却し、生成した塩化ナトリウムを吸引濾過により除去した。得られた濾液をクロロホルム−水により抽出し、有機層を乾燥、濾過、濃縮することにより、含フッ素エポキシ化合物1を95.7g得た。
〔1−(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル
6.5質量部
3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチルカルボキシレート
0.5質量部
含フッ素エポキシ化合物1 2質量部
(カチオン重合性開始剤)
トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロフォスフィン塩 0.2質量部
(微粒子)
イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子ゾル 6.9質量部
(固形分20%、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名:ELCOM V−8209)
(添加剤)
シリコーン化合物(FZ−2207、日本ユニカー株式会社製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 0.9質量部
(溶媒)
メチルイソブチルケトン 90質量部
メチルエチルケトン 30質量部
上記の低屈折率層用塗布組成物1のうち、メチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンに対して、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子ゾルを除く化合物を、上記配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子ゾルを上記の配合割合で添加した。また、低屈折率層塗布組成物1の低屈折率層の屈折率は1.37であった。
(試験)
《耐擦傷性》
反射防止フィルムの低屈折率層表面に、#0000のスチールウール(SW)に1000g/cm2の荷重をかけ、10往復したときの1cm幅当たりの傷の本数を測定した。なお、傷の本数は荷重をかけた部分の中で最も傷の本数の多い所で測定し、以下の基準で評価した。なお、スチールウールを往復させた装置は、新東科学株式会社摩擦摩耗試験機(トライボステーションTYPE:32、移動速度4000mm/min)を使用した。
◎:1本/cm以下
○:5本/cm以下
△:10本/cm以下
×:10本/cm以上
《総合評価》
鉛筆硬度、密着性、耐擦傷性、及び脆性の結果から、下記の基準で総合評価を行った。
○:鉛筆硬度が4H以上で、密着性、耐擦傷性、及び脆性の全ての項目が○以上
△:鉛筆硬度が3H以上で、密着性が△以下、耐擦傷性が△以下、或いは脆性が×
(実用上問題となるレベル)
×:鉛筆硬度が2H以下で、密着性が△以下、耐擦傷性が△以下、或いは脆性が×
(反射防止フィルム17の作製)
実施例1で作製したハードコートフィルム8について、再び繰り出して、ハードコート層表面上に下記の低屈折率層塗布組成物2を、乾燥後の膜厚が85nmとなるように、マイクログラビアコーターで塗布し、温度80℃で1分間乾燥させ、ついで酸素濃度が0.5体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が300mW/cm2、照射量を0.35J/cm2条件で硬化させた。
(含フッ素ポリマー1の調製)
内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7g、および過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、反応系内を脱気して、窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して、温度65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は、5.4kg/cm2であった。オートクレーブ内の温度をそのまま保持し、8時間反応を続け、圧力が3.2kg/cm2に達した時点で加熱をやめ、放冷した。室温まで内温が下がった時点で、未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して、反応液を取り出した。
(溶媒)
メチルエチルケトン 460質量部
シクロヘキサノン 300質量部
(ラジカル重合性化合物)
含フッ素ポリマー1 30質量部
A−DPH(新中村化学工業社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物)
34質量部
(光重合性開始剤)
イルガキュア907(チバ・ジャパン社製) 3質量部
(添加剤)
シリコーン化合物(FZ−2207、日本ユニカー株式会社製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 6.5質量部
(微粒子)
イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子ゾル 50質量部
(固形分20%、触媒化成工業社製シリカゾル、商品名:ELCOM V−8209)
上記の低屈折率層用塗布組成物1のうち、メチルエチルケトン、及びシクロヘキサノンに対して、先に調製した含フッ素ポリマー1、メタクリレート基含有シリコーン樹脂、光重合開始剤、A−DPHを、上記の配合割合で加えて溶解した後に、イソプロピルアルコール分散中空シリカ微粒子ゾルを上記の配合割合で添加した。また、低屈折率層塗布組成物2の低屈折率層の屈折率は1.37であった。
上記作製した反射防止フィルムの各ロールから、15cm×15cmサイズに試験試料を切り出して、屋外での使用を想定したサイクルサーモ(−40℃・30分放置、次いで85℃・30分放置)を500サイクルから600サイクルに変更して、サイクルサーモに投入後、ハードコート層を表面にしてサンシャインカーボンアークの光照射日数を20日間から25日間に変更し、光照射して、耐久性試験を実施した。
下記方法に従って、反射防止フィルム1〜14それぞれと位相差フィルムであるコニカミノルタタックKC4FR−2(コニカミノルタオプト(株)製)、各々1枚を偏光板保護フィルムとして用いて偏光板を作製した。
厚さ120μmの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gの比率からなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gの比率からなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
次いで、下記工程1〜5に従って、偏光膜と偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
(視認性)
A:最も近い蛍光灯の写り込みが気にならず、フォントの大きさ8以下の文字もはっきりと読める
B:近くの蛍光灯の写り込みはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ8以下の文字もなんとかと読める
C:遠くの蛍光灯の写り込みも気になり、フォントの大きさ8以下の文字を読むのは困難である
D:蛍光灯の写り込みがかなり気になり、写り込みの部分はフォントの大きさ8以下の文字を読むことはできない。
液晶パネル101〜114の表示を全面黒表示にして、ルーペで輝点異物の直径及び数をカウントし、下記基準で評価した。なお、この時のルーペの倍率は50倍であった。
×:100μm以上の異物が認められる。実用上問題となるレベル。
下記方法に従って、ハードコートフィルム1〜14それぞれと位相差フィルムであるコニカミノルタタックKC4FR−2(コニカミノルタオプト(株)製)、各々1枚を偏光板保護フィルムとして用いて偏光板を作製した。
厚さ120μmの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gの比率からなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gの比率からなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
次いで、下記工程1〜5に従って、偏光膜と偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
○:蛍光灯が若干曲がったように見えるところがある
△:蛍光灯が曲がって見える
×:蛍光灯が大きく畝って見える。
実施例1のハードコートフィルム11と12の作製に対して、ハードコート層の塗布液の溶媒と、フィルム基材を表9に記載した様に変更して実施例1と同様に実験を行った。但し、ハードコートフィルムの状態でハードコート層中の熱可塑性アクリル樹脂の含有量を測定し表9に記載した。
2. バックコート層を有する光学フィルムについての検討
なお、特に断りない限り、実施例中の「%」は「質量%」を表す。
(実施例1)
〔光学フィルム1の作製〕
(アクリル樹脂含有フィルムA1の作製)
(A1用ドープ液の調製)
アクリル樹脂(A):
BR100(アクリル樹脂、三菱レイヨン(株)社製) 70質量部
セルロースエステル樹脂(B):
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度2.75、アセチル基置換度0.19、プロピオニル基置換度2.56、Mw=200000)
30質量部
塩化メチレン 264質量部
エタノール 36質量部
(アクリル樹脂含有フィルムA1の製膜)
上記作製したA1用ドープ液を、ベルト流延装置を用い、温度22℃、2m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒濃度(残留溶剤量)が100%になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力162N/mでステンレスバンド支持体上から剥離した。この際、流延から剥離までに要した時間は100秒であった。剥離したアクリル樹脂のウェブを35℃で溶媒を蒸発させ、1.6m幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に1.1倍に延伸しながら、135℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶媒濃度は10質量%であった。テンターで延伸後130℃で5分間緩和を行った後、120℃、130℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm高さ5μmのナーリング加工を施し、初期張力220N/m、終張力110N/mで内径6インチコアに巻き取り、アクリル樹脂含有フィルムA1を得た。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるMD方向の延伸倍率は1.1倍であった。表10記載のアクリル樹脂含有フィルムフィルムA1の残留溶媒濃度は0.1質量%であり、膜厚は60μm、巻数は4000mであった。
(C1用加工液の調製)
セルロースエステル樹脂(C):
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度1.90、アセチル基置換度0.20、プロピオニル基置換度1.70、Mw=150000)
100質量部
アセトン 16000質量部
メタノール 4000質量部
微粒子シリカKE−P30((株)日本触媒製、平均粒径0.3μm)2%メタノール
分散液 1600質量部
(樹脂層C1の形成)
上記調製した加工液を、アクリル樹脂含有フィルムA1のステンレスバンド支持体上から剥離した側の面に、ウェット膜厚14μmとなるようにダイコートし、50℃にて乾燥し、巻き取り、樹脂層C1を設けた。
以下、アクリル樹脂含有フィルム中のアクリル樹脂(A),セルロースエステル樹脂(B)の組成を表10記載のように変えた以外は、光学フィルム1と同様にして、アクリル樹脂含有フィルムA2〜A29を作製した。
a1:モノマー質量比(MMA:MA=98:2)、Mw1000000
a2:モノマー質量比(MMA:MA=97:3)、Mw110000
a3:モノマー質量比(MMA:MA=97:3)、Mw500000
a4:モノマー質量比(MMA:MA=97:3)、Mw1100000
また、表10のセルロースエステル樹脂(B)の欄における記号ac、p、b、bz、phで示した欄の数字は、はそれぞれ下記のように置換基の置換度を表す。
〔光学フィルム33の作製〕
(樹脂層C6の作製)
(C6用加工液の調製)
セルロースエステル樹脂(C):
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度2.00、アセチル基置換度0.05、プロピオニル基置換度1.95、Mw=150000)
100質量部
アセトン 16000質量部
メタノール 4000質量部
微粒子シリカKE−P30((株)日本触媒製、平均粒径0.3μm)2%メタノール
分散液 1600質量部
上記調製した加工液を、アクリル樹脂含有フィルムA17のステンレスバンド支持体上から剥離した側の面に、ウェット膜厚14μmとなるようにダイコートし、50℃にて乾燥し、巻き取り、樹脂層C6を設けた。
以下、樹脂層中のセルロースエステル樹脂(C)の組成を表13記載のように変え、アクリル樹脂含有フィルムA17のステンレスバンド支持体上から剥離した側の面に、光学フィルム1と同様にして樹脂層C7〜C14を塗工し、光学フィルム34〜41を作製した。
〔光学フィルム42の作製〕
(樹脂層C15の作製)
(C15用加工液の調製)
セルロースエステル樹脂(C):
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート:アシル基総置換度1.90、アセチル基置換度0.20、プロピオニル基置換度1.70、Mw=150000)
70質量部
アクリル樹脂(D):
BR85(アクリル樹脂、三菱レイヨン(株)社製) 30質量部
アセトン 16000質量部
メタノール 4000質量部
微粒子シリカKE−P30((株)日本触媒製、平均粒径0.3μm)2%メタノール分散液 1600質量部
上記調製した加工液を、アクリル樹脂含有フィルムA17のステンレスバンド支持体上から剥離した側の面に、ウェット膜厚14μmとなるようにダイコートし、50℃にて乾燥し、巻き取り、樹脂層C15を設けた。
以下、樹脂層中のセルロースエステル樹脂(C)、アクリル樹脂(D)の組成を表15記載のように変え、アクリル樹脂含有フィルムA17のステンレスバンド支持体上から剥離した側の面に、光学フィルム1と同様にしてセルロースエステル樹脂(C)を塗工し、光学フィルム42〜50を作製した。
(アクリル樹脂含有フィルムA30の作製)
(A30用ドープ液の調製)
アクリル樹脂(A):
BR85(アクリル樹脂、三菱レイヨン(株)社製) 70質量部
セルロースエステル樹脂(B):
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度2.75、アセチル基置換度0.19、プロピオニル基置換度2.56、Mw=200000)
30質量部
アクリル粒子(E):
アクリル粒子E1 0.5質量部
塩化メチレン 264質量部
エタノール 36質量部
(アクリル樹脂含有フィルムA30の製膜)
上記作製したA30用ドープ液を用いて、アクリル樹脂含有フィルムA1と同様にアクリル樹脂含有フィルムA30を作製した。
以下、アクリル樹脂含有フィルム中のアクリル粒子(E)の組成を表16記載のように変え、アクリル樹脂含有フィルムA30と同様にアクリル樹脂含有フィルムA31〜A36を作製した。
E1:平均粒径0.1μm
E2:平均粒径0.5μm
E3:平均粒径1.0μm
E4:平均粒径2.0μm
〔光学フィルム58の作製〕
(樹脂層C24の作製)
(C24用加工液の調製)
セルロースエステル樹脂(C):
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度1.90、アセチル基置換度0.20、プロピオニル基置換度1.70、Mw=150000)
70質量部
アクリル樹脂(D):
BR85(アクリル樹脂、三菱レイヨン(株)社製) 30質量部
アクリル粒子(E):
E1 0.1質量部
アセトン 16000質量部
メタノール 4000質量部
微粒子シリカKE−P30((株)日本触媒製、平均粒径0.3μm)2%メタノール
分散液 1600質量部
上記調製した加工液を、アクリル樹脂含有フィルムA31のステンレスバンド支持体上から剥離した側の面に、ウェット膜厚14μmとなるようにダイコートし、50℃にて乾燥し、巻き取り、樹脂層C24を設けた。
以下、樹脂層中のアクリル樹脂(E)の組成を表19記載のように変え、アクリル樹脂含有フィルムA31のステンレスバンド支持体上から剥離した側の面に、光学フィルム1と同様にしてセルロースエステル樹脂(C)を塗工し、光学フィルム59〜64を作製した。
(透明性)
透明性は、分光高度計U−3400(日立製作所(株))を用い、可視光領域の平均透過率を測定し、以下の基準で評価し、透明性の評価とした。可視光領域とは、波長400〜720nmとしている。
○:可視光領域の平均透過率が90%以上
△:可視光領域の平均透過率が85%以上90%未満
×:可視光領域の平均透過率が85%未満。
光学フィルムを100mm(縦)×10mm(幅)で切り出し、縦方向の中央部で山折り、谷折りと2つにそれぞれ1回ずつ折りまげ、この評価を3回測定して、下記基準で評価した。尚、ここでの評価の折れるとは、割れて2つ以上のピースに分離したことを表す。
○:3回とも折れない
×:3回のうち少なくとも1回は折れる
(耐吸湿度性)
作製した光学フィルムの流延方向に、目印(十字)を2箇所つけて60℃、90%RHで1000時間処理し、
処理前と処理後の目印(十字)の距離を光学顕微鏡で測定し、下記基準で評価した。
式中、a1は熱処理前の距離、a2は熱処理後の距離を表す。
○:0.3%未満
△:0.3%以上、0.5%未満
×:0.5%以上
(耐熱性)
各光学フィルムを90℃、DRY(相対湿度5%RH以下)の雰囲気下に1000時間放置後、フィルム変形の度合いを目視で観察し、下記基準で評価した。
○:フィルムの変形が全くない
△:フィルムの変形が認められる
×:著しいフィルムの変形が認められる
(フィルム/偏光子密着性)
(前処理:鹸化)
上記作製した光学フィルムを3.5cm×20cmサイズでカットし、1基底の水酸化カリウム水溶液1リットル中で、2分間浸漬し、イオン交換水で20秒間洗浄した後乾燥させ、室温23℃・相対湿度55%の環境下で1日保存した。
◎:水接触角25°未満
○:水接触角25°以上35°未満
△:水接触角35°以上50°未満
×:水接触角が50°以上
(基材/樹脂層密着性)
JIS K 5600に準拠して、碁盤目テープ剥離試験を行なった。
◎:全く剥離しない
○:ほとんど剥離はしないが、一部のマスで端部が欠けている
△:剥離が認められる
×:全面剥離する。
(前処理:鹸化)
上記作製した光学フィルムをA4サイズにカットし、1mol水酸化カリウム水溶液1リットル中で、2分間浸漬し、イオン交換水で20秒間洗浄した後乾燥させ、室温23℃・相対湿度55%の環境下で1日保存した。
◎:干渉ムラが全く見られない
○:干渉ムラがほとんど見られない
△:若干、干渉ムラが見えるが問題ないレベル
×:干渉ムラがはっきりと見られる
評点が○〜◎であれば実用上問題はない。
上記作製した光学フィルムをA4サイズに2枚カットし、光学フィルムの表面と樹脂層が接するように重ね合わせ、23℃55%RHの雰囲気化で100時間保持した。
◎:全く貼りついていない
○:わずかに貼りついているが、貼り付き部の面積が10%未満
△:貼り付き面積が10%以上30%未満
×:くっつき面積30%以上。
上記作製した光学フィルムをA4サイズに2枚カットし、光学フィルムの表面と樹脂層が接するように重ね合わせ、23℃55%RHの雰囲気化で100時間保持した。
◎:貼りつき跡が全く見えない
○:貼りつき跡が見えにくく、よく観察するとようやくわかる
△:うっすらと貼りつき跡が観察できる
×:貼りつき跡がはっきりとわかる。
作製した光学フィルムのフィルム基材側を表面にして、耐光性試験機(アイスーパーUVテスター:岩崎電気社製)にて、120時間光照射を行った。
軽荷重引き裂き試験機(東洋精機社製)を用いて各光学フィルムを引き裂き、以下のように評価した。
○:引き裂き面が非常に滑らかで、かつ、真っ直ぐに裂けている
△:引き裂き面にややバリがあるが、真っ直ぐに裂けている
×:引き裂き面にバリがかなりあり、真っ直ぐに裂けていない。
粘着シートを敷き、その上で前述の軽荷重引き裂き試験を10回行った。その後、粘着シート上に付着した切子の数を数え、単位面積あたりの個数として換算し、評価した。
○:粘着シート上に付着した切子が10個/m2以上30個/m2未満
△:粘着シート上に付着した切子が30個/m2以上50個/m2未満
×:粘着シート上に付着した切子が50個/m2以上
(鉛筆硬度)
JIS S 6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS K 5400が規定する鉛筆硬度評価法に従い、1kgのおもりを用いて各硬度の鉛筆でハードコート層の表面を5回繰り返し引っかき、傷が1本までの硬度を測定した。
上記作製した光学フィルムをA4サイズに2枚カットし、光学フィルムの表面と樹脂層が接するように重ね合わせ、60℃、90%RHの雰囲気化で50時間保持した。
◎:全く貼りついていない
○:わずかに貼りついているが、貼り付き部の面積が10%未満
△:貼り付き面積が10%以上30%未満
×:くっつき面積30%以上。
上記作製した各々のフィルム試料について、フィルム試料1枚をJIS K−7136に従って、ヘイズメーター(NDH2000型、日本電色工業(株)製)を使用して測定した。
◎:ヘイズの値が0.5%未満
○:ヘイズの値が0.5%以上1.0%未満
△:ヘイズの値が1.0%以上1.5%未満
×:ヘイズ値が1.5%以上
上記各種評価結果を表20〜表23に示す。
〔ハードコートフィルム101〜164の作製〕
〈ハードコート層の作製〉
実施例1の光学フィルム1〜64の樹脂層とは反対側の面に、下記手順によりハードコート層を塗布し、実施例1の光学フィルム1〜64に対応するよう、ハードコートフィルム101〜164を作製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート 20質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート 50質量部
ウレタンアクリレート 50質量部
(U−4HA:新中村化学工業社製)
ラジカル重合開始剤 5質量部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社製)
上記組成物に、酢酸エチル/プロピレングリコールモノメチルエーテル=50質量部/50質量部の混合溶媒を添加して、固形分50質量%とし、ハードコート層形成用樹脂組成物を得た。
〔反射防止フィルム201〜264の作製〕
上記得られたハードコートフィルム101〜164のハードコート層上に、下記手順により反射防止フィルム201〜264を作製した。
前記ハードコート層の上に、下記低屈折率層組成物を押し出しコーターで塗布し、80℃、0.1m/秒の条件で1分間乾燥させた。乾燥後、高圧水銀ランプ(80W)を用いて紫外線を130mJ/cm2照射して硬化させ、更に120℃で5分間熱硬化させ、低屈折率層を有する反射防止層を作製した。
(カチオン重合性化合物)
〔1−(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル
4.5質量部
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 2.5質量部
含フッ素エポキシ化合物 2質量部
(光カチオン重合開始剤)
4−メチルフェニル[4−(1−メチルエチル)フェニル]ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート 0.2質量部
(ロードシル2074、ローディアジャパン株式会社製)
(シリカ粒子)
中空シリカ系粒子分散液D−1 35質量部
(添加剤)
シリコーン化合物(FZ−2207、東レダウコーニング株式会社製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 0.9質量部
(溶媒)
メチルイソブチルケトン 30質量部
メチルエチルケトン 90質量部
(含フッ素エポキシ化合物の調製)
1,3−ジヒドロキシヘキサフルオロイソプロピルベンゼン81.03gとエピクロロヒドリン185gを混合し、水酸化ナトリウム16.27gと水40mlを加え、撹拌下で加熱還流させた。130℃で3時間反応後、自然冷却し、生成した塩化ナトリウムを吸引濾過により除去した。得られた濾液をクロロホルム−水により抽出し、有機層を乾燥、濾過、濃縮することにより、含フッ素エポキシ化合物1を95.7g得た。
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと、純水1900gとの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gと、Al2O3として1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して、固形分濃度20質量%のSiO2・Al2O3核粒子分散液を調製した。(工程a)
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5質量%)3000gを添加して、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程b)
ついで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、さらに濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。ついで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら、限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al2O3多孔質粒子の分散液を調製した(工程c)
上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1750g、及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。ついで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%の中空シリカ系粒子分散液D−1を調製した。
B:干渉むらもなく、近くの蛍光灯の映り込みはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ8以下の文字もなんとかと読める
C:干渉むらがやや観察され、遠くの蛍光灯の映り込みも気になり、フォントの大きさ8以下の文字を読むのは困難である
D:干渉むらが明らかに認められ、蛍光灯の映り込みがかなり気になり、映り込みの部分はフォントの大きさ8以下の文字を読むことはできない
評価の結果、比較例の反射防止フィルムはC以下の評価だったのに対して、本発明の反射防止フィルムは、何れもB以上の評価結果であり、干渉むらもなく視認性が良好であることが確認された。
作製した反射防止フィルム201〜264を偏光板用保護フィルムとして、下記の方法に従ってそれぞれ偏光板301〜364を作製した。
(1)反射防止フィルム201〜264、KC8UCR−5を2mol/lの水酸化ナトリウム溶液に60℃で2分間浸漬し、さらに水洗、乾燥した。なお、反射防止フィルムは、あらかじめ反射防止層表面に易接着フィルムを貼り付けておいた。
次いで、偏光板301〜364を用いてそれぞれ液晶表示装置401〜464を作製した。
各液晶表示装置について、画面を黒表示として、表面の干渉ムラを目視で下記基準で評価した。
A:干渉ムラは分からず、黒がしまって見える
B:わずかに干渉ムラが認識される
C:干渉ムラが認識されるが実用上問題ないレベル
D:干渉ムラがかなり気になる
評価の結果、比較例の反射防止フィルムを用いた液晶表示パネルはC以下の評価だったのに対して、本発明の反射防止フィルムを用いた液晶表示パネルは、何れもB以上の評価結果であり、干渉むらもなく視認性が良好であることが確認された。
1 繰り出しロール
2 搬送ローラー
3 押出しコータ
4 対向ロール
5 乾燥ゾーン
6 活性光線照射ランプユニット
6a 空冷活性光線ランプ
6b 空冷用Air通風口
6c N2用供給チャンバー
7 加熱ゾーン
8 巻き取り室
9 巻き取りロール
10 温風吹き出し口
12 移動可能な台車
15 巻き取りコア
A 加熱処理室
Claims (18)
- フィルム基材上に少なくとも一層のハードコート層を有する光学フィルムにおいて、該フィルム基材が、熱可塑性アクリル樹脂(A)とセルロースエステル樹脂(B)を含有し、該熱可塑性アクリル樹脂(A)と該セルロースエステル樹脂(B)の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂(A):セルロースエステル樹脂(B)=95:5〜50:50の範囲内であって、かつ少なくとも一層のハードコート層が熱可塑性アクリル樹脂を含有することを特徴とする光学フィルム。
- 前記フィルム基材に含有する熱可塑性アクリル樹脂(A)の重量平均分子量が、110000〜500000の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。
- 前記フィルム基材が、アクリル粒子を含有し、該アクリル粒子と、前記熱可塑性アクリル樹脂(A)とセルロースエステル樹脂(B)の総質量に対する含有質量比が、アクリル粒子:熱可塑性アクリル樹脂(A)とセルロースエステル樹脂(B)の総質量=0.5:100〜30:100の範囲内であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学フィルム。
- 前記ハードコート層に含有される熱可塑性アクリル樹脂の重量平均分子量が、80000〜500000の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記ハードコート層に含有される熱可塑性アクリル樹脂の重量平均分子量が、110000〜500000の範囲内であることを特徴とする請求項4に記載の光学フィルム。
- 前記ハードコート層がラジカル重合性化合物を含有し、前記熱可塑性アクリル樹脂と該ラジカル重合性化合物との含有質量比が熱可塑性アクリル樹脂:ラジカル重合性化合物=0.50:100〜20:100の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記ハードコート層に含有される熱可塑性アクリル樹脂が、該ハードコート層表面よりも前記フィルム基材と該ハードコート層との界面近傍により多く存在することを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記ハードコート層が、積層体からなり、前記フィルム基材と隣接するハードコート層が熱可塑性アクリル樹脂を含有することを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 更にバックコート層を有することを特徴とする請求項1から請求項8までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記セルロースエステル樹脂(B)のアシル基の総置換度が2.0〜3.0の範囲内で、炭素数が3〜7のアシル基の置換度が1.2〜3.0の範囲内であり、前記バックコート層が、セルロースエステル樹脂(C)を含有し、該セルロースエステル樹脂(C)の重量平均分子量が、10000〜200000の範囲内であることを特徴とする請求項9に記載の光学フィルム。
- 前記セルロースエステル樹脂(C)のアシル基の総置換度が、2.0〜3.0の範囲内であり、炭素数が3〜7のアシル基の置換度が0〜2.2であることを特徴とする請求項10に記載の光学フィルム。
- 前記バックコート層が、前記セルロースエステル樹脂(C)と熱可塑性アクリル樹脂(D)とを含有し、該熱可塑性アクリル樹脂(D)の重量平均分子量が、30000〜1000000の範囲内であり、該セルロースエステル樹脂(C)と熱可塑性アクリル樹脂(D)との含有質量比が、95:5〜50:50の範囲内であることを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の光学フィルム。
- 前記バックコート層が、アクリル粒子を、該バックコート層を構成する樹脂の総質量に対して、0.1〜50質量%の範囲内で含有することを特徴とする請求項9から請求項12までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記バックコート層が含有する前記アクリル粒子の平均粒径が、0.1〜1μmの範囲内であることを特徴とする請求項13に記載の光学フィルム。
- 請求項1から請求項14までのいずれか一項に記載の光学フィルムを用いて作製された反射防止フィルムであって、前記ハードコート層上に直接又は他の層を介して、低屈折率層が積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。
- 前記低屈折率層が、カチオン重合性化合物を含有することを特徴とする請求項15に記載の反射防止フィルム。
- 請求項1から請求項14までのいずれか一項に記載の光学フィルム、又は請求項15若しくは請求項16に記載の反射防止フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。
- 請求項1から請求項14までのいずれか一項に記載の光学フィルム、又は請求項15若しくは請求項16に記載の反射防止フィルムを用いたことを特徴とする液晶表示装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102535711B1 (ko) | 2018-12-21 | 2023-05-23 | 주식회사 엘지화학 | 액정 조성물, 액정 필름 및 액정 필름의 제조 방법 |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9376593B2 (en) | 2009-04-30 | 2016-06-28 | Enki Technology, Inc. | Multi-layer coatings |
US8864897B2 (en) * | 2009-04-30 | 2014-10-21 | Enki Technology, Inc. | Anti-reflective and anti-soiling coatings with self-cleaning properties |
US9353268B2 (en) | 2009-04-30 | 2016-05-31 | Enki Technology, Inc. | Anti-reflective and anti-soiling coatings for self-cleaning properties |
JP5987269B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2016-09-07 | 住友化学株式会社 | ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置 |
JP5987268B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2016-09-07 | 住友化学株式会社 | ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置 |
JP5477186B2 (ja) * | 2010-06-18 | 2014-04-23 | コニカミノルタ株式会社 | 光学異方性フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
JP5672806B2 (ja) * | 2010-07-15 | 2015-02-18 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
US8816211B2 (en) * | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
WO2013094263A1 (ja) * | 2011-12-19 | 2013-06-27 | コニカミノルタ株式会社 | Ipsモード型液晶表示装置 |
US20130194281A1 (en) * | 2012-01-30 | 2013-08-01 | Apple Inc. | Moisture Barrier for Electronic Devices |
CN104364683B (zh) * | 2012-06-21 | 2016-10-12 | 柯尼卡美能达株式会社 | 偏振片、偏振片的制造方法及图像显示装置 |
CN104540663B (zh) * | 2012-07-31 | 2016-10-12 | 米其林集团总公司 | 用于弹性体混合物的压延驱动装置的自动启动和连续操作 |
EP2881769A4 (en) * | 2012-08-06 | 2016-03-09 | Konica Minolta Inc | LIGHT REFLECTIVE FILM AND LIGHT REFLECTOR MADE THEREFROM |
KR102069572B1 (ko) * | 2012-08-22 | 2020-01-28 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 편광 빔 스플리터 및 이를 제조하는 방법 |
KR101443845B1 (ko) * | 2012-09-03 | 2014-09-23 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름을 포함하는 편광판 |
US8668960B1 (en) | 2013-02-08 | 2014-03-11 | Enki Technology, Inc. | Flow coating apparatus and method of coating |
FR3009234B1 (fr) * | 2013-08-05 | 2017-09-29 | Essilor Int | Structure en couches fonctionnalisee |
JP5905035B2 (ja) * | 2014-01-07 | 2016-04-20 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
JP2015179204A (ja) * | 2014-03-19 | 2015-10-08 | コニカミノルタ株式会社 | ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置 |
US9598586B2 (en) | 2014-07-14 | 2017-03-21 | Enki Technology, Inc. | Coating materials and methods for enhanced reliability |
US9376589B2 (en) | 2014-07-14 | 2016-06-28 | Enki Technology, Inc. | High gain durable anti-reflective coating with oblate voids |
US9382449B2 (en) | 2014-09-19 | 2016-07-05 | Enki Technology, Inc. | Optical enhancing durable anti-reflective coating |
JP6067640B2 (ja) * | 2014-09-29 | 2017-01-25 | 富士フイルム株式会社 | フィルム製造方法 |
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KR101862251B1 (ko) * | 2015-08-03 | 2018-05-29 | 주식회사 엘지화학 | 플렉시블 플라스틱 필름 |
JP6702617B2 (ja) * | 2016-02-05 | 2020-06-03 | エルジー・ケム・リミテッド | 光硬化性および熱硬化性を有する樹脂組成物およびドライフィルムソルダーレジスト |
KR102267594B1 (ko) | 2018-01-24 | 2021-06-18 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
KR102257923B1 (ko) | 2018-01-24 | 2021-05-27 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
KR102235481B1 (ko) * | 2018-10-17 | 2021-04-02 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
JP7328774B2 (ja) * | 2019-03-18 | 2023-08-17 | 株式会社きもと | スモークハードコートフィルム及びこれを用いた表示装置 |
JP7342593B2 (ja) * | 2019-10-09 | 2023-09-12 | コニカミノルタ株式会社 | 光学フィルム、その製造方法及び偏光板 |
US11434312B2 (en) | 2020-12-15 | 2022-09-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Photocurable composition for forming cured layers with high thermal stability |
JP2023066932A (ja) * | 2021-10-29 | 2023-05-16 | 日東電工株式会社 | 偏光板および有機エレクトロルミネセンス表示装置 |
JP2023066933A (ja) * | 2021-10-29 | 2023-05-16 | 日東電工株式会社 | 偏光板および有機エレクトロルミネセンス表示装置 |
JP2023169799A (ja) * | 2022-05-17 | 2023-11-30 | Toppanホールディングス株式会社 | 光学フィルム及びこれを用いた画像表示装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05119217A (ja) * | 1991-10-23 | 1993-05-18 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 偏光膜保護用フイルム |
JP2001083327A (ja) * | 1999-07-08 | 2001-03-30 | Konica Corp | 光学フィルム及びその製造方法 |
JP2002356658A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Nippon Carbide Ind Co Inc | アクリル系オーバーレイフィルム |
JP2005070744A (ja) * | 2003-08-05 | 2005-03-17 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 |
JP2005338550A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
JP2008088417A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-04-17 | Japan Advanced Institute Of Science & Technology Hokuriku | 樹脂組成物及び成形体 |
JP2008120011A (ja) * | 2006-11-14 | 2008-05-29 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコートフィルム |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3119457B2 (ja) | 1992-04-29 | 2000-12-18 | 株式会社クラレ | 透明フィルム |
JPH1149920A (ja) * | 1997-07-30 | 1999-02-23 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アクリル系フィルム用樹脂組成物およびそれよりなるフィルム |
JP3870670B2 (ja) | 2000-06-29 | 2007-01-24 | 日立化成工業株式会社 | 非複屈折性ピックアップレンズ用樹脂組成物及びこれを用いたピックアップレンズ |
JP4340128B2 (ja) | 2003-11-13 | 2009-10-07 | 株式会社日本触媒 | ラクトン環含有重合体の製造方法 |
JP4825988B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2011-11-30 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学補償フィルムの製造方法 |
JP4788404B2 (ja) | 2006-03-06 | 2011-10-05 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、及びその製造方法 |
-
2009
- 2009-08-10 US US13/060,235 patent/US9493620B2/en active Active
- 2009-08-10 KR KR1020117004250A patent/KR101581488B1/ko active IP Right Grant
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05119217A (ja) * | 1991-10-23 | 1993-05-18 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 偏光膜保護用フイルム |
JP2001083327A (ja) * | 1999-07-08 | 2001-03-30 | Konica Corp | 光学フィルム及びその製造方法 |
JP2002356658A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Nippon Carbide Ind Co Inc | アクリル系オーバーレイフィルム |
JP2005070744A (ja) * | 2003-08-05 | 2005-03-17 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 |
JP2005338550A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 |
JP2008088417A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-04-17 | Japan Advanced Institute Of Science & Technology Hokuriku | 樹脂組成物及び成形体 |
JP2008120011A (ja) * | 2006-11-14 | 2008-05-29 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコートフィルム |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102535711B1 (ko) | 2018-12-21 | 2023-05-23 | 주식회사 엘지화학 | 액정 조성물, 액정 필름 및 액정 필름의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9493620B2 (en) | 2016-11-15 |
JPWO2010024115A1 (ja) | 2012-01-26 |
KR101581488B1 (ko) | 2015-12-30 |
WO2010024115A1 (ja) | 2010-03-04 |
US20110151146A1 (en) | 2011-06-23 |
KR20110052656A (ko) | 2011-05-18 |
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