JP2005101422A - 光起電力装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 この発明は、絶縁層2を有する基板1上に、裏面金属電極3と、一導電型微結晶シリコン層、実質的に真性な発電に寄与する微結晶シリコン層、他導電型微結晶シリコン層からなる光電変換層4と、透明電極5をこの順に積層してなる光起電力装置において、少なくとも裏面金属電極3に直接接触する一導電型微結晶シリコン層を含む光電変換層4の基板面と平行方向に結晶化率が周囲の部分より低い領域が混在し、かつその領域が、集積型構造を構成するために裏面金属電極が除去された部分と重畳するように配置されている。
【選択図】 図2
Description
2 絶縁層(ポリイミド)
3 裏面金属電極
4 光電変換層
5 透明電極
2a 凹凸化させた部分
Claims (4)
- 絶縁表面を有する基板上に、第1の電極、一導電型微結晶半導体層、実質的に真性な発電に寄与する微結晶半導体層、他導電型半導体層、第2の電極をこの順に積層してなる光起電力装置において、少なくとも第1の電極に直接接触する一導電型微結晶半導体層を含む微結晶半導体層の基板面と平行方向に結晶化率が周囲の部分より低い領域が混在し、かつその領域が、集積型構造を構成するために第1の電極が除去された部分と重畳するように配置されていることを特徴とする光起電力装置。
- 基板の絶縁層表面にその他の領域と比較して凹凸が深い或いは凹凸のピッチが狭い凹凸面領域が実質的に直線状に配置され、かつその領域が集積型構造を構成するために第1の電極が除去された部分と重畳するように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の光起電力装置。
- 前記凹凸面領域は支持基板と第1の電極との間に配置される絶縁層に形成された凹凸部により形成されていることを特徴とする請求項2に記載の光起電力装置。
- 集積型構造を構成するために第1の電極が除去された部分と重畳するように配置されている結晶化率の低い領域は、他の領域と比較して含まれる結晶粒界の割合が高いことを特徴とする請求項1に記載の光起電力装置。
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