JP4875566B2 - 光電変換装置の製造方法 - Google Patents
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Description
図面を参照しつつ、本発明の第1の実施形態について説明する。図2は、本実施形態の薄膜太陽電池(光電変換装置)の製造方法によって製造される、薄膜太陽電池モジュールの構成を示す概略断面図である。この薄膜太陽電池モジュールは、シリコン系太陽電池であり、基板1と、透明電極層2と、光電変換層3と、裏面電極層4と、を備えている。透明電極層2、光電変換層3、及び裏面電極層4は、この順で基板1の裏面(光受光面の反対側の面)上に積層されている。なお、ここで、シリコン系とはシリコン(Si)やシリコンカーバイト(SiC)やシリコンゲルマニウム(SiGe)を含む総称である。また、以下の説明において、太陽電池モジュールにバックシート、端子箱等を取りつけたものを、太陽電池パネルとして記載する。
基板1としてソーダフロートガラス基板(1.4m×1.1m×板厚:4mm)を使用する。基板端面は破損防止にコーナー面取りやR面取り加工されていることが望ましい。
(2)図5A(b):
透明電極層2として酸化錫膜(SnO2)を主成分とする透明電極膜を約500nm〜800nm、熱CVD装置にて約500℃で製膜処理する。この際、透明電極膜の表面は適当な凹凸のあるテクスチャーが形成される。透明電極層2として、透明電極膜に加えて、基板1と透明電極膜との間にアルカリバリア膜(図示されず)を形成しても良い。アルカリバリア膜は、酸化シリコン膜(SiO2)を50nm〜150nm、熱CVD装置にて約500℃で製膜処理する。
(3)図5A(c):
その後、基板1をX−Yテーブルに設置して、YAGレーザーの第1高調波(1064nm)を、図の矢印に示すように、透明電極膜の膜面側から入射する。加工速度に適切となるようにレーザーパワーを調整して、透明電極膜を太陽電池セル9の直列接続方向に対して垂直な方向へ、基板1とレーザー光を相対移動して、溝5を形成するように幅約6mm〜15mmの短冊状にレーザーエッチングする。
(4)図5A(d):
プラズマCVD装置により、減圧雰囲気:30〜1000Pa、基板温度:約200℃にて光電変換層3としてのアモルファスシリコン薄膜からなるp層膜/i層膜/n層膜を順次製膜する。光電変換層3は、SiH4ガスとH2ガスとを主原料に、透明導電層2の上に製膜される。太陽光の入射する側からp層、i層、n層がこの順で積層される。光電変換層3は本実施形態では、p層:BドープしたアモルファスSiCを主とし膜厚10nm〜30nm、i層:アモルファスSiを主とし膜厚200nm〜350nm、n層:Pドープした微結晶Siを主とし膜厚30nm〜50nmである。またp層膜とi層膜の間には界面特性の向上のためにバッファー層を設けても良い。既述のように、n層は、第1n層と、第2n層とで製膜条件を変更して、製膜される。
基板1をX−Yテーブルに設置して、レーザーダイオード励起YAGレーザーの第2高調波(532nm)を、図の矢印に示すように、光電変換層3の膜面側から入射する。パルス発振:10〜20kHzとして加工速度に適切となるようにレーザーパワーを調整して、透明電極層のレーザーエッチングラインの約100〜150μmの横側を、溝6を形成するようにレーザーエッチングする。レーザーエッチングラインの位置は前工程でのエッチングラインと交差しないように位置決め交差を考慮して選定する。
裏面電極層4としてAg膜/Ti膜をスパッタリング装置により減圧雰囲気、約150℃にて順次製膜する。裏面電極層4は本実施形態では、Ag膜:200〜500nm、これを保護するものとして防食効果の高いTi膜:10〜20nmをこの順に積層する。n層と裏面電極層4との接触抵抗低減と光反射向上を目的に、光電変換層3と裏面電極層4との間にGZO(GaドープZnO)膜を膜厚:50〜100nm、スパッタリング装置により製膜して設けても良い。
(7)図5B(b):
基板1をX−Yテーブルに設置して、レーザーダイオード励起YAGレーザーの第2高調波(532nm)を、図の矢印に示すように、基板1側から入射する。レーザー光が光電変換層3で吸収され、このとき発生する高いガス蒸気圧を利用して裏面電極層4が爆裂して除去される。パルス発振:1〜10kHzとして加工速度に適切となるようにレーザーパワーを調整して、透明電極層2のレーザーエッチングラインの約250〜400μmの横側を、溝7を形成するようにレーザーエッチングする。
(8)図5B(c)と図5C(a):
発電領域を区分して、基板端周辺の膜端部においてレーザーエッチングによる直列接続部分が短絡し易い影響を除去する。基板1をX−Yテーブルに設置して、レーザーダイオード励起YAGレーザーの第2高調波(532nm)を、基板1側から入射する。レーザー光が透明電極層2と光電変換層3で吸収され、このとき発生する高いガス蒸気圧を利用して裏面電極層4が爆裂して、裏面電極層4/光電変換層3/透明電極層2が除去される。パルス発振:1〜10kHzとして加工速度に適切となるようにレーザーパワーを調整して、基板1の端部から5〜20mmの位置を、図5C(a)に示すように、X方向絶縁溝8を形成するようにレーザーエッチングする。このとき、Y方向絶縁溝は後工程で基板1周囲領域の膜面研磨除去処理を行うので、設ける必要がない。
絶縁溝8は基板1の端より5〜10mmの位置にてエッチングを終了させることにより、太陽電池パネル端部からの太陽電池モジュール内部への外部湿分浸入の抑制に、有効な効果を呈するので好ましい。
尚、以上までの工程におけるレーザー光はYAGレーザーとしているが、YVO4レーザーやファイバーレーザーなどが同様に使用できるものがある。
後工程のEVA等を介したバックシート11との健在な接着・シール面を確保するために、基板1周辺(周囲領域10)の積層膜は、段差があるとともに剥離し易いため、この膜を除去する。基板1の端から5〜20mmで基板1の全周囲にわたり膜を除去するにあたり、X方向は前述の図5C(a)工程で設けた絶縁溝8よりも基板端側において、Y方向は基板端側部付近の溝5よりも基板端側において、裏面電極層4/光電変換層3/透明電極層2を、砥石研磨やブラスト研磨などを用いて除去を行う。
研磨屑や砥粒は基板1を洗浄処理して除去した。
(10)図5D(a、b):
端子箱取付け部分はバックシート11に開口貫通窓を設けて集電板12を取出す。この開口貫通窓部分には絶縁材を複数層を設置して外部からの湿分などの浸入を抑制する。
直列に並んだ一方端の太陽電池発電セル9と、他方端部の太陽電池発電セル9とから銅箔12を用いて集電して太陽電池パネル裏側の端子箱13部分から電力が取出せるように処理する。銅箔は各部との短絡を防止するために銅箔幅より広い絶縁シートを配置する。
集電用銅箔などが所定位置に配置された後に、太陽電池モジュールの全体を覆い、基板1からはみ出さないようにEVA(エチレン酢酸ビニル共重合体)等による接着充填材シートを配置する。
EVAの上に、防水効果の高いバックシート11を設置する。バックシート11は本実施形態では防水防湿効果が高いようにPETシート/AL箔/PETシートの3層構造よりなる。
バックシート11までを所定位置に配置したものを、ラミネータにより減圧雰囲気で内部の脱気を行い約150〜160℃でプレスしながら、EVAを架橋させて密着させる。
太陽電池モジュールの裏側に端子箱13を接着剤で取付ける。
銅箔と端子箱13の出力ケーブルとをハンダ等で接続し、端子箱内部を封止剤(ポッティング剤)で充填して密閉する。これで太陽電池パネル20が完成する。
(12)図5D(c):
図5D(b)までの工程で形成された太陽電池パネル20について発電検査ならびに、所定の性能試験を行う。発電検査は、AM1.5、全天日射基準太陽光(1000W/m2)のソーラシミュレータを用いて行う。
(13)図5D(d):
発電検査(図5D(c))に前後して、外観検査をはじめ所定の性能検査を行う。
続いて、第2の実施形態について説明する。本実施形態では、第1の実施形態と比較して、n層を形成する工程(ステップS23)における製膜条件が更に工夫されている。これ以外の点については、第1の実施形態と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
続いて、第3の実施形態について説明する。本実施形態では、既述の実施形態と比較して、n層を形成する工程(ステップS23)における製膜条件が更に工夫されている。これ以外の点については、第1の実施形態と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
続いて、第4の実施形態について説明する。本実施形態では、既述の実施形態と比較して、n層を形成する工程(ステップS23)における製膜条件が更に工夫されている。これ以外の点については、第1の実施形態と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
続いて、第5の実施形態について説明する。本実施形態では、既述の実施形態と比較して、n層を形成する工程(ステップS23)における製膜条件が更に工夫されている。これ以外の点については、第1の実施形態と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
続いて、第6の実施形態について説明する。本実施形態では、既述の実施形態と比較して、n層を形成する工程(ステップS23)における製膜条件が更に工夫されている。これ以外の点については、第1の実施形態と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
続いて、第7の実施形態について説明する。本実施形態では、既述の実施形態と比較して、n層を形成する工程(ステップS23)における製膜条件が更に工夫されている。これ以外の点については、第1の実施形態と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
以上の第1〜7の実施形態は必要に応じて組み合わせて用いることも可能である。例えば、以下に述べるような製膜条件で、第1n層及び第2n層を製膜することもできる。
製膜室内に導入されるSiH4(シラン含有ガス)流量を、500(sccm)とする。
製膜室内に導入されるH2(希釈ガス)流量を、37.5×103(sccm)とする。
製膜室内に導入されるPH3(不純物元素含有ガス)流量を、6(sccm)とする。
製膜室内の圧力を175(Pa)とする。
製膜時に印加される高周波電力のパワーを2(kW)とする。
尚、このとき、ドーピング率は、PH3/SiH4=6/500=1.2%である。
また、希釈率は、H2/SiH4=37.5×103/500=75倍である。
製膜室内に導入されるSiH4(シラン含有ガス)流量を、400(sccm)とする。
製膜室内に導入されるH2(希釈ガス)流量を、20×103(sccm)とする。
製膜室内に導入されるPH3(不純物元素含有ガス)流量を、4(sccm)とする。
製膜室内の圧力を125(Pa)とする。
製膜時に印加される高周波電力のパワーを3(kW)とする。
尚、このとき、ドーピング率は、PH3/SiH4=4/400=1.0%である。
また、希釈率は、H2/SiH4=20×103/400=50倍である。
2 透明電極層
3 光電変換層
4 裏面電極層
5 溝
6 溝
7 溝
8 絶縁溝
9 太陽電池セル
10 周囲領域
11 バックシート
12 導電箔
13 端子箱
20 太陽電池パネル
Claims (8)
- p型アモルファスシリコン層を製膜するp層形成工程と、
前記p型アモルファスシリコン層上に、i型アモルファスシリコン層を製膜するi層形成工程と、
前記i型アモルファスシリコン層上に、n型アモルファスシリコン層を製膜するn層形成工程と、を備え、
前記n層形成工程は、
前記i型アモルファスシリコン層上に、第1n層を製膜する第1n層形成工程と、
前記第1n層上に、第2n層を製膜する第2n層形成工程と、を備え、
前記第1n層形成工程の製膜条件は、前記第2n層形成工程における製膜条件よりも、同じ下地基板上に製膜した場合に結晶化率が高くなるような条件である
光電変換装置の製造方法。 - 請求項1に記載された光電変換装置の製造方法であって、
前記第1n層形成工程の製膜速度は、前記第2n層形成工程の製膜速度よりも遅い
光電変換装置の製造方法。 - 請求項1又は2に記載された光電変換装置の製造方法であって、
前記n層形成工程において、前記材料ガスは、シラン含有ガス及び不純物元素含有ガスを含む原料ガスを含んでおり、
前記第2n層形成工程において、前記シラン含有ガスに対する前記不純物元素含有ガスの含有率を示すドーピング率は、前記第1n層形成工程における前記不純物元素含有ガスのドーピング率よりも、少ない
光電変換装置の製造方法。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載された光電変換装置の製造方法であって、
前記n層形成工程において、前記材料ガスは、更に、前記原料ガスを希釈するための水素ガスを含んでおり、
前記第2n層形成工程における前記水素ガスによる希釈率は、前記第1n層形成工程における希釈率よりも、少ない
光電変換装置の製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載された光電変換装置の製造方法であって、
前記第2n層形成工程において、前記第1n層形成工程よりも低い圧力下で、製膜を行う
光電変換装置の製造方法。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載された光電変換装置の製造方法であって、
前記第2n層形成工程において、前記材料ガスを分解する高周波電力は、前記第1n層形成工程よりも高い高周波電力でプラズマを発生させ、製膜を行う
光電変換装置の製造方法。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載された光電変換装置の製造方法であって、
前記第2n層形成工程において製膜される膜の厚みは、前記第1n層形成工程において製膜される膜の厚みよりも、厚い
光電変換装置の製造方法。 - 請求項1乃至7のいずれかに記載された光電変換装置の製造方法であって、
前記n層形成工程は、更に、前記第1n層形成工程の前に実施され、前記i型アモルファスシリコン層の表面を、プラズマを発生させずに、前記材料ガスに曝すガス曝露工程、を備える
光電変換装置の製造方法。
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