JP2005093726A - 半導体レーザ素子、半導体レーザ素子の製造方法 - Google Patents

半導体レーザ素子、半導体レーザ素子の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】レーザ光をへき開端面から出射する半導体レーザ素子およびその製造方法において、従来に増して高光出力化すること。
【解決手段】n型クラッド層、活性層、およびp型クラッド層を有するダブルヘテロ接合構造と、ダブルヘテロ接合構造上に形成され、第1のドーパントを含みリッジ形状を有する第2のp型クラッド層と、第2のp型クラッド層上に形成され、第1のドーパントより拡散速度の遅い第2のドーパントを含むp型コンタクト層と、第2のp型クラッド層の側面、p型コンタクト層の側面、およびダブルヘテロ接合構造上で第2のp型クラッド層が形成されていない面上を覆う誘電体膜と、p型コンタクト層上に形成されたp側電極とを具備する。または、同様のダブルヘテロ接合構造、第2のp型クラッド層、p型コンタクト層と、p側電極を具備し、ダブルへテロ接合構造のへき開端面が、無秩序化された層構造である。
【選択図】図1

Description

本発明は、レーザ光をへき開端面から出射する半導体レーザ素子およびその製造方法に係り、特に、リッジ導波構造を有して高光出力の半導体レーザ素子およびその製造方法に関する。
近年、InGaAlP系の材料により発光波長650nm帯の赤色半導体レーザが実用化され、これを用いるDVD(digital versatile disk)規格の光ディスクシステムが急激に普及し始めている。当初は読み込み専用のDVD−ROM(read only memory)ドライブが主流であったが、最近ではVTR(video tape recorder)に代わる画像記録装置やCD−R(compact disc - recordable)に代わる大容量のデータストレージ装置が人気を集めている。これらの書き込み用DVDには、より高出力の赤色半導体レーザを必要とする。また、高速書き込みにはさらなる高出力化が不可欠で、現在では例えば200mW以上の出力を有する半導体レーザの開発に注力がされている。
上記波長の半導体レーザには、通常、GaAs基板上にInGaAlP系材料で構成されたダブルヘテロ接合構造を有するものが用いられる。さらには、ダブルヘテロ接合構造の上部クラッド層をリッジ形状に加工しその両脇に出射光を吸収しない(反射する)材料で電流阻止層を形成していわゆる実屈折率導波構造としたものが用いられることが多い。
このような構造自体は、発光波長および材料系は異なるが、例えば特開平10−135567号公報にも開示されている。同文献の開示内容では、電流阻止層にはその接するクラッド層と導電型が異なる半導体材料が用いられている。
特開平10−135567号公報
高光出力対応の半導体レーザでは、いわゆる端面破壊を防止する構造がほぼ必要になるが、上記文献ではこの点についての言及はない。本発明は、レーザ光をへき開端面から出射する半導体レーザ素子およびその製造方法において、従来に増して高光出力が実現できる半導体レーザ素子およびその製造方法を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため、本発明の一態様に係る半導体レーザ素子は、n型クラッド層、前記n型クラッド層上に形成された活性層、および前記活性層上に形成されたp型クラッド層を有するダブルヘテロ接合構造と、前記ダブルヘテロ接合構造上に形成され、第1のドーパントを含みリッジ形状を有する第2のp型クラッド層と、前記第2のp型クラッド層上に形成され、前記第1のドーパントより拡散速度の遅い第2のドーパントを含むp型コンタクト層と、前記第2のp型クラッド層の側面、前記p型コンタクト層の側面、および前記ダブルヘテロ接合構造上で前記第2のp型クラッド層が形成されていない面上を覆う誘電体膜と、前記p型コンタクト層上に形成されたp側電極とを具備することを特徴とする。
また、本発明の別の態様に係る半導体レーザ素子は、n型クラッド層、前記n型クラッド層上に形成された活性層、および前記活性層上に形成されたp型クラッド層を有するダブルヘテロ接合構造と、前記ダブルヘテロ接合構造上に形成され、第1のドーパントを含みリッジ形状を有する第2のp型クラッド層と、前記第2のp型クラッド層上に形成され、前記第1のドーパントより拡散速度の遅い第2のドーパントを含むp型コンタクト層と、前記p型コンタクト層上に形成されたp側電極とを具備し、前記ダブルへテロ接合構造のへき開端面が、無秩序化された層構造であることを特徴とする。
また、本発明の一態様に係る半導体レーザ素子の製造方法は、n型クラッド層、前記n型クラッド層上に位置する活性層、および前記活性層上に位置するp型クラッド層を有するダブルヘテロ接合構造を形成する工程と、前記形成されたダブルヘテロ接合構造上に第2のp型クラッド層を形成する工程と、前記形成された第2のp型クラッド層上に、ドーパントとして炭素を含むp型コンタクト層を形成する工程と、前記第2のp型クラッド層およびp型コンタクト層をリッジ形状に加工する工程と、前記リッジ形状に加工された第2のp型クラッド層およびp型コンタクト層の側面上と、前記ダブルへテロ接合構造上で前記第2のp型クラッド層が形成されていない面上とに誘電体膜を堆積する工程と、前記p型コンタクト層の上面に接するようにp側電極を形成する工程とを具備することを特徴とする。
本発明によれば、電流阻止層が誘電体で形成されるので使用温度特性を改善でき、かつコンタクト層のドーパントをp型クラッド層のドーパントより拡散速度の遅い材料としたので、誘電体層の形成時に活性層などへのコンタクト層ドーパントの拡散が抑制され、特性劣化要因を排して高出力の半導体レーザ素子およびその製造方法を提供できる。または、本発明によれば、コンタクト層のドーパントをp型クラッド層のドーパントより拡散速度の遅い材料としたので、電流阻止層の形成時に活性層などへのコンタクト層ドーパントの拡散を抑制でき、かつダブルへテロ接合構造のへき開端面を無秩序化された層構造としたので、高出力時のダメージを軽減し、特性劣化要因を排して高出力の半導体レーザ素子を提供できる。
本発明の一態様に係る半導体レーザ素子では、第2のp型クラッド層の側面上と、ダブルヘテロ接合構造上で第2のp型クラッド層が形成されていない面上に形成される電流阻止層として温度特性の安定している誘電体膜を使用する。これにより、リーク電流の増加を防止する。また、第2のp型クラッド層上に形成されるp型コンタクト層において、高濃度に必要なそのドーパントに第2のp型クラッド層のドーパントより拡散速度の遅い材料を用いる。これにより、電流阻止層としての誘電体膜の形成時における高温プロセス下でも、p型コンタクト層のドーパントの例えば活性層などへの拡散が抑制され活性層およびp型コンタクト層ともに劣化を防止できる。したがって、特性劣化要因を除去することが可能であり、高出力の半導体レーザが得られる。
本発明の一態様に係る半導体レーザ素子の製造方法では、上記半導体レーザを製造するための工程が提供される。したがって、特性劣化要因を除去することが可能な高出力の半導体レーザを製造することができる。
また、本発明の別の態様に係る半導体レーザ素子では、第2のp型クラッド層上に形成されるp型コンタクト層において、高濃度に必要なそのドーパントに第2のp型クラッド層のドーパントより拡散速度の遅い材料を用いる。これにより、電流阻止層の形成時における高温プロセス下でも、p型コンタクト層のドーパントの例えば活性層などへの拡散が抑制され活性層およびp型コンタクト層ともに劣化を防止できる。また、ダブルへテロ接合構造のへき開端面を無秩序化された層構造としたので、高出力時のダメージを軽減する。したがって、特性劣化要因を除去することが可能であり、高出力の半導体レーザが得られる。
本発明の実施態様として、前記第1のドーパント/前記第2のドーパントは、亜鉛/炭素、亜鉛/マグネシウム、またはマグネシウム/炭素とすることがきる。第1のドーパントとこれより拡散速度の遅い第2のドーパントとの組み合わせの例示である。
また、本発明(上記一態様)の実施態様として、前記ダブルへテロ接合構造のへき開端面は、無秩序化された層構造であるようにしてもよい(いわゆるウィンドウ構造)。これによれば、へき開端面近傍での光吸収が抑制されいわゆる端面破壊(光学損傷)の発生を効果的に抑制することができる。これは、製造方法としての実施態様として、第2のp型クラッド層を形成する前記工程の後でp型コンタクト層を形成する前記工程の前に前記ダブルへテロ接合構造の一部範囲に層構造の無秩序化を行なう工程をさらに具備するようにして形成できる。
また、本発明の実施態様として、前記活性層は、単一量子井戸構造または多重量子井戸構造とすることができる。この構造では、ダブルへテロ接合構造のへき開端面が無秩序化された層構造を有する場合に、光学損傷の回避効果が高い。
また、本発明(上記一態様)の実施態様として、前記誘電体膜は、酸化シリコンを本質的な成分とする膜である。誘電体膜として最も容易に使用できるひとつの例である。ほかに、窒化シリコンや酸化ジルコニウムなどによる膜も採用し得る。
また、実施態様として、前記n型クラッド層、前記p型クラッド層、および前記第2のp型クラッド層は、InGaAlPの組成を有し、前記活性層は、InGaPの組成を有する。本発明を実施するための材料系として好ましい例である。
また、実施態様として、前記p型コンタクト層は、GaAsの組成を有し、前記p型コンタクト層のキャリア濃度は、1×1019cm−3ないし5×1019cm−3である。このようなp型コンタクト層によれば、p側電極とのオーミック接合も比較的容易であり低しきい電圧での動作や高効率発光に寄与することができる。
また、実施態様として、出射されるレーザ光の波長は、ほぼ650nmである。これにより、書き込み対応のDVDシステムに使用することができる。
また、本発明(上記一態様)の実施態様として、前記誘電体膜は、前記p型コンタクト層の端面近傍の上面上一部を覆っているようにしてもよい。これによれば、電流の阻止効果が端面に対しても発揮されるので、例えばウィンドウ構造が形成されている場合の発光に寄与しない電流を抑制し、またそのジュール発熱を抑制する。よって、より高効率な発光に寄与できる。
また、実施態様として、出射されるレーザ光の出力は、200mW以上である。実用的にこの出力を確保することで、例えば書き込み対応のDVDシステム向けに使用してより高倍速(例えば16倍速)の書き込みが実現する。
以上を踏まえ、以下では本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。まず、比較参照例としての態様を2例述べる(図8、図9)。
図8は、比較参照例としての半導体レーザ素子(より詳しくはリッジ導波路型半導体レーザ素子)の構造を模式的に示す斜視図である。この半導体レーザ素子の構造を製造過程に沿って説明すると、まず、例えばMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法を用い、n−GaAs基板110上にn−GaAsバッファ層111、n−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層112、In0.5(Ga0.5Al0.50.5P光ガイド層113、InGaP/InGaAlP−MQW(Multiple Quantum Well;多重量子井戸)活性層114、In0.5(Ga0.5Al0.50.5P光ガイド層115、p−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層116、p−In0.5Ga0.5Pエッチングストップ層117、p−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層118、p−In0.5Ga0.5P中間層119を順次成長させる。
次に、半導体レーザ素子としてのへき開端面にあたる部分A(図8における前後両端面)に亜鉛を拡散させて層構造の無秩序化を行いいわゆるウィンドウ構造を形成する。続いて、PEP(photo engraving process)を用いフォトレジスト(上面に塗布)にストライプ形状(図8における前後方向のストライプ)のパターニングを行った後、これをマスクに、ウエットエッチング、またはドライエッチング、またはその両者を組み合わせた方法などを用い、p−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層118までをストライプ状のリッジ型に形成する。
次に、この形成されたリッジの両側および露出したp−In0.5Ga0.5Pエッチングストップ層117上にn−In0.5Al0.5P電流阻止層120を結晶成長する。続いて、以上の形成層上全面に亜鉛をドーピングしたp−GaAsコンタクト層121を成長させる。さらに、成長させたp−GaAsコンタクト層121上にはp側電極123を、n−GaAs基板110の下面上にはn側電極122をそれぞれ形成する。以上により、図8に示す構造が得られる。
このような半導体レーザ素子では、p−In0.5Ga0.5P中間層119上を除いて電流阻止層120を形成するために必要なマスク上に電流阻止層120の材料n−In0.5Al0.5Pが堆積し、この堆積分とマスクとを除去する処理が難しくなるという不都合がある。また、前記処理で発生する残渣等により、特にストライプリッジ部近傍におけるp−GaAsコンタクト層121の結晶性が悪くなり、半導体レーザ素子としての発光性を劣化させる可能性がある。
図9は、別の比較参照例としての半導体レーザ素子(リッジ導波路型半導体レーザ素子)の構造を模式的に示す斜視図である。この半導体レーザ素子では電流阻止層に誘電体膜を用いる点が上記の比較参照例と異なる。図9において、図8と同様の機能部位については同じ符合を付している。必要な場合を除いてその部分の説明は省略する。
この半導体レーザ素子の構造を製造過程に沿って説明すると、まず、例えばMOCVD法を用い、n−GaAs基板110上にn−GaAsバッファ層111からp−In0.5Ga0.5P中間層119を順次成長させる。そして、半導体レーザ素子としてのへき開端面にあたる部分A(図9における前後両端面)に亜鉛を拡散させて層構造の無秩序化を行いいわゆるウィンドウ構造を形成する。続いて、中間層119上全面に、亜鉛を高濃度にドーピングされたp−GaAsコンタクト層130を形成する。
次に、PEPを用いフォトレジスト(上面に塗布)にストライプ形状(図9における前後方向のストライプ)のパターニングを行った後、これをマスクに、ウエットエッチング、またはドライエッチング、またはその両者を組み合わせた方法などを用い、p−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層118までをストライプ状のリッジ型に形成する。そして、この形成されたリッジの両側および露出したp−In0.5Ga0.5Pエッチングストップ層117上に誘電体(酸化シリコン)の電流阻止層131を形成する。さらに、コンタクト層130上面に接触するように、以上の形成層上全面にはp側電極123を、GaAs基板110の下面上にはn側電極122をそれぞれ形成する。以上により、図9に示す構造が得られる。
このような半導体レーザ素子では、誘電体の電流阻止層131の形成が、より高濃度に亜鉛がドーピングされたp−GaAsコンタクト層130の形成後に行われるため、熱履歴によりこの亜鉛が活性層114側に拡散し、半導体レーザ素子としての発光性を劣化させる可能性がある。また、亜鉛の拡散によるp−GaAsコンタクト層130のキャリア濃度不足で、p側電極123においてノンアロイでのオーミック電極形成が難しくなる可能性もある。したがって、図8に示した例よりは高出力化に向いているものの、やはり一定の特性劣化要因があり高出力化に限界がある。
なお、図9に示す例で、亜鉛の拡散を回避するため、誘電体の電流阻止層131の堆積を行った後にp−GaAsコンタクト層130を結晶成長させる製造方法も一応考えられる。しかしながら、そのエピタキシャル成長させる領域がリッジ形状上のごくわずかな幅の領域に限定されるため、不純物濃度や形成すべき膜厚の制御が非常に困難になり現実的とは言えない。
次に、本発明の一実施形態に係る半導体レーザ装置について図1ないし図5を参照して説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る半導体レーザ装置の構造を模式的に示す斜視図である。図2ないし図5は、本発明の一実施形態に係る半導体レーザ装置を製造する過程を示す模式的な斜視図である。
図1に示すように、この半導体レーザ装置は、図9に示した、電流阻止層に誘電体膜を用いたタイプのものと同様なリッジ導波型半導体レーザ素子であり、その基本的な層構造自体もその一部の組成を除き第9図と同様になっている。すなわち、n−GaAs基板10上に、n−GaAsバッファ層11、キャリア濃度が例えば3×1017cm−3のn−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層12、In0.5(Ga0.5Al0.50.5P光ガイド層13、InGaP/InGaAlP−MQW活性層14、In0.5(Ga0.5Al0.50.5P光ガイド層15、キャリア濃度が例えば1×1018cm−3のp−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層16、キャリア濃度が例えば1×1018cm−3のp−In0.5Ga0.5Pエッチングストップ層17が、積層状にそれぞれ全面的に形成されている。
さらに、エッチングストップ層17上には、ストライプ形状にエッチング加工されたキャリア濃度が例えば1×1018cm−3のp−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層18(ドーパントは亜鉛)、キャリア濃度が例えば1×1018cm−3のp−In0.5Ga0.5P中間層19、およびp−GaAsコンタクト層30が形成されている。コンタクト層30にはドーパントとして炭素が用いられており、そのキャリア濃度は例えば3×1019cm−3とされている。
また、さらに、これらストライプ形状に加工された各層の側面および露出したp−In0.5Ga0.5Pエッチングストップ層17の表面を覆うように誘電体(ここでは酸化シリコン:SiO)の電流阻止層31が形成されている。そして、コンタクト層30上面に接触するように、以上説明の形成層上全面にはp側電極23が、GaAs基板110の下面上にはn側電極22が形成されている。ここで、p側電極23には例えばチタン系の金属薄膜を含む積層膜を用いることにより、p−GaAsコンタクト層30とオーミック接合を実現できる。
なお、InGaP/InGaAlP−MQW活性層14は、組成がInGaPの量子井戸層(層ごとの厚さは例えば2から10nm)の層数が例えば2ないし3で、これらの量子井戸層を隔てるように組成がInGaAlPの層(層ごとの厚さは例えば2から10nm)が形成され全体として積層構造になっている。ちなみに、MQW活性層14に代えて、単一量子井戸構造の活性層またはバルク活性層とすることも考えられる。一般には、MQW活性層や単一量子井戸構造の活性層の方が、へき開端面が無秩序化された層構造を有する場合により効果的な光学損傷の回避が可能である。図1に示す半導体レーザ素子全体としての大きさは、幅が例えば200から300μm、奥行きが例えば1000から1500μm、高さが例えば100から110μmである。
この半導体レーザ装置の製造過程を図2ないし図5を参照して説明する。図2ないし図5において、図1と同一相当の部位には同一番号を付してある。この製造は半導体ウエハとしてなされるものなので、個々の半導体レーザ装置の製造として示すこれらの図では、仮想的な断面を表わす部分にハッチングが付される。すなわち、現実にはウエハとしての製造過程である。
まず、図2(a)に示すように、n−GaAs基板10上にn−GaAsバッファ層11からp−In0.5Ga0.5P中間層19を例えば減圧MOCVD法により成長させる。これらの層のうち上記でキャリア濃度が指定されているものは、上記説明のようにその濃度を設定・形成する。n型、p型にするためのドーパントには、材料系との組み合わせを考慮して公知のものを用いることができる。それぞれの層厚(または形成厚)は、高光出力対応であることを考慮して、例えば、基板10が数百μm、バッファ層11が0.5μm、クラッド層12が1.5から3μm、光ガイド層13が5から50nm、活性層14が6から50nm、光ガイド層15が5から50nm、クラッド層16が0.2から0.5μm、エッチングストップ層17が5から30nm、クラッド層18が1から3μm、中間層19が20から100nmである。
次に、公知のフォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用い、図2(b)に示すように、半導体レーザ素子として単体にチップ化したときにへき開端面となる領域の近傍のみが開口されその他の部分を覆うSiOのパターンを形成する。さらに、図3(a)に示すように、上記パターンの開口部のみに亜鉛拡散源(亜鉛が高濃度に添加されたGaAs結晶)250を選択的に成長させる。そして、熱処理を行い亜鉛拡散源250から亜鉛を深さ方向に拡散させ(「A」の部分)いわゆるウィンドウ構造を形成する。このウィンドウ構造によれば、へき開端面近傍の活性層14付近が無秩序化された層構造になり、発生するレーザ光に対する吸収領域となるのが防止される。これにより端面破壊の発生しにくい構造を得る。
次に、図3(b)に示すように、拡散源250とSiOのマスクを除去し、p−In0.5Ga0.5P中間層19全面を露出させる。そして、図4(a)に示すように、p−In0.5Ga0.5P中間層19上に、ドーパントに炭素を用いてp−GaAsコンタクト層30を例えばMOCVD法により形成する。ここで、炭素のドーピングには、四臭化炭素をドーパント原料として用いることができる。または、コンタクト層30成長時の原料であるトリメチルガリウムとアルシンのモル供給比を通常のGaAs成長条件よりもガリウムリッチとなるように設定することにより自動的に原料中の炭素がドーピングされる効果を用いることもできる。
なお、形成されるコンタクト層30の厚さは例えば300nmである。キャリア濃度は、一応1×1019cm−3ないし5×1019cm−3内に収めるのが好ましい。下限はp側電極23との容易なオーミック接合を考慮したものである。上限は本来的には特にないが製造の容易さを考慮したものである。
次に、図4(b)に示すように、p−GaAsコンタクト層30表面にSiOによりストライプ状マスク40を形成し、これをマスクに当初はドライエッチングをその後ウエットエッチングを行いp−GaAsコンタクト層30からp−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層18までの層をリッジストライプ形状に加工する。ここで、リッジストライプの幅は、例えば2から3μmである。続いて、図4(b)に示す状態に対してSiOの電流阻止層31を全面に堆積させ、次に、図5に示すように、例えばフォトリソグラフィー技術を用いリッジストライプ部のみを開口させる。電流阻止層31の厚さは、エッチングストップ層17上で、およびクラッド層18、中間層19、コンタクト層30の側面上で、ともに例えば0.3から0.4μmである。
続く工程は図示しないが、コンタクト層30上面に接触するように、以上説明の形成層上全面にp側電極23を形成する。また、基板10裏面を研磨して半導体レーザ素子全体としての高さが100から110μm程度になるようにした後、その裏面全面にn側電極22を形成する。p側電極23、n側電極22は、ともに例えば所定の金属薄膜を含む積層膜とすることができ、その総厚は例えば1μm弱である。形成方法には例えば蒸着を用いることができる。
その後、ウエハをストライプに垂直な方向に亜鉛拡散領域を二分するようなラインでバー状にへき開する。そして、へき開面に端面保護膜を施した上で、ストライプと隣接のストライプと間の位置でストライプと平行に切断してチップ状態に分割する。これにより、第1図に示した半導体レーザ素子を得ることができる。
この半導体レーザ素子では、電流阻止層31として誘電体膜を用い半導体材料を用いない。このため、リーク電流が増大して光出力効率が劣化することがなく高出力用として向いている。さらに、誘電体の電流阻止層31の形成が高濃度に炭素がドーピングされたp−GaAsコンタクト層30の形成後に行われるものの、炭素の拡散性が相当に小さいことからこの炭素が活性層14側に拡散して半導体レーザ素子としての発光性を劣化させることが解消される。また、p−GaAsコンタクト層30のキャリア濃度不足が原因でp側電極23においてノンアロイでのオーミック電極形成が難しくなることもなくなる。また、コンタクト層30自体も低抵抗を保ちコンタクト層としての特性が電流阻止層31形成時の熱履歴を経ても保たれる。以上より、低しきい値の動作で高出力の光を出射することが可能になる。
なお、上記の実施形態で、誘電体の電流阻止層31の材料に酸化シリコン以外の誘電体を用いてもよい。例えば、窒化シリコンや酸化ジルコニウムである。または、誘電体の電流阻止層31に代えて、例えばn−InAlP(下層)とn−GaAs(上層)の積層された半導体材料の電流阻止層を用いることも必要な仕様によっては考えられる。この場合、例えば、n−InAlP層は、0.2から1μm程度の厚さでドーパント濃度が1×1018cm−3から5×1018cm−3のもの、n−GaAs層は、5から500nm程度の厚さでドーパント濃度が同程度のものとすることができる。リーク電流については誘電体のものほどには有利ではないが、仕様によって許容できる。
また、上記の実施形態(上段落の変形例の場合を含む)では、いずれの場合もp−GaAsコンタクト層30の形成前に上記説明のウィンドウ構造(「A」の部分)を形成するようにしているので、高出力に対応する半導体レーザ素子を得るのに向いている。
また、上記実施形態では、その材料系から発光波長は約650nmである。その光出力として200mW以上を発光するものに対応できる。材料系を変えて発光波長を変える場合(例えばCD用に780nmとする場合)にも適用できる。また、p−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層18のドーパントとp−GaAsコンタクト層30のドーパントの組み合わせとしては、上記実施形態で説明の亜鉛/炭素の他に、亜鉛/マグネシウム、またはマグネシウム/炭素とすることも考えられる。いずれの場合も拡散速度が「/」の後にあるものの方が遅いので同様な効果を見込める。
また、上記の製造方法としての実施形態の変形例として、図2(a)の段階でp−GaAsコンタクト層30まで成長・形成する方法も考えられる。ただし、この場合、図3(a)に示す段階において、亜鉛拡散源250の形成がコンタクト層30上になる。したがって、炭素を高濃度に含むGaAsのコンタクト層30が固相拡散の亜鉛のトラップ源となるので、ウィンドウ構造を形成するための亜鉛拡散が円滑には進行しなくなる。この不利さを許容できるとすればこのような方法によってもよい。なお、円滑に進めるために、亜鉛の固相拡散以外の方法を用いることも考えられる。例えばイオン注入を用いることや、亜鉛に代えてコンタクト層30にトラップされにくい元素を用いるなどである。
次に、本発明の別の実施形態について図6、図7を参照して説明する。図6は、本発明の別の実施形態に係る半導体レーザ装置の構造を模式的に示す斜視図である。図7は、図6に示す構造においてp側電極23、n側電極22を形成する前の構造を模式的に示す斜視図である。図6、図7においてすでに説明したものと同一相当の部位には同一符合を付してある。可能な限りその部分の説明は省略する。
図6、図7に示すように、この実施形態の上記実施形態との違いは、電流阻止層31の形成が、コンタクト層30の端面近傍の上面上をも覆うようにされていることである。これによれば、電流の阻止効果が端面に対しても発揮されるので、ウィンドウ構造が形成されている場合の発光に寄与しない電流を抑制し、またそのジュール発熱を抑制する。よって高効率な発光にさらに寄与できる。ここで、電流阻止層31のコンタクト層30の上面上での幅は、例えば20から30μmである。これは、ウィンドウ構造を形成するための亜鉛拡散源250(図3(a)を参照)の幅よりやや大である。
なお、上記で述べた各実施形態では、赤色の半導体レーザ素子を例に挙げて説明したが、赤以外の発光のレーザ素子、例えばGaN系材料を用いた青紫発光のレーザ素子、InGaAsP系材料やAlGaAs系材料を用いた赤外発光のレーザ素子についても本発明を適用することができる。
本発明の一実施形態に係る半導体レーザ装置の構造を模式的に示す斜視図。 本発明の一実施形態に係る半導体レーザ装置を製造する過程を示す模式的な斜視図。 図2の続図であって、本発明の一実施形態に係る半導体レーザ装置を製造する過程を示す模式的な斜視図。 図3の続図であって、本発明の一実施形態に係る半導体レーザ装置を製造する過程を示す模式的な斜視図。 図4の続図であって、本発明の一実施形態に係る半導体レーザ装置を製造する過程を示す模式的な斜視図。 本発明の別の実施形態に係る半導体レーザ装置の構造を模式的に示す斜視図。 図6に示す構造においてp側電極23、n側電極22を形成する前の構造を模式的に示す斜視図。 比較参照例としての半導体レーザ素子の構造を模式的に示す斜視図。 別の比較参照例としての半導体レーザ素子の構造を模式的に示す斜視図。
符号の説明
10…n−GaAs基板、11…n−GaAsバッファ層、12…n−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層、13…In0.5(Ga0.5Al0.50.5P光ガイド層、14…InGaP/InGaAlP−MQW活性層、15…In0.5(Ga0.5Al0.50.5P光ガイド層、16…p−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層、17…p−In0.5Ga0.5Pエッチングストップ層、18…p−In0.5(Ga0.3Al0.70.5Pクラッド層、19…p−In0.5Ga0.5P中間層、22…n側電極、23…p側電極、30…p−GaAsコンタクト層、31…電流阻止層(誘電体膜)、40…SiOマスク、250…亜鉛拡散源。

Claims (13)

  1. n型クラッド層、前記n型クラッド層上に形成された活性層、および前記活性層上に形成されたp型クラッド層を有するダブルヘテロ接合構造と、
    前記ダブルヘテロ接合構造上に形成され、第1のドーパントを含みリッジ形状を有する第2のp型クラッド層と、
    前記第2のp型クラッド層上に形成され、前記第1のドーパントより拡散速度の遅い第2のドーパントを含むp型コンタクト層と、
    前記第2のp型クラッド層の側面、前記p型コンタクト層の側面、および前記ダブルヘテロ接合構造上で前記第2のp型クラッド層が形成されていない面上を覆う誘電体膜と、
    前記p型コンタクト層上に形成されたp側電極と
    を具備することを特徴とする半導体レーザ素子。
  2. n型クラッド層、前記n型クラッド層上に形成された活性層、および前記活性層上に形成されたp型クラッド層を有するダブルヘテロ接合構造と、
    前記ダブルヘテロ接合構造上に形成され、第1のドーパントを含みリッジ形状を有する第2のp型クラッド層と、
    前記第2のp型クラッド層上に形成され、前記第1のドーパントより拡散速度の遅い第2のドーパントを含むp型コンタクト層と、
    前記p型コンタクト層上に形成されたp側電極とを具備し、
    前記ダブルへテロ接合構造のへき開端面が、無秩序化された層構造であること
    を特徴とする半導体レーザ素子。
  3. 前記第1のドーパント/前記第2のドーパントが、亜鉛/炭素、亜鉛/マグネシウム、またはマグネシウム/炭素であることを特徴とする請求項1または2記載の半導体レーザ素子。
  4. 前記活性層が、単一量子井戸構造または多重量子井戸構造であることを特徴とする請求項1または2記載の半導体レーザ素子。
  5. 前記ダブルへテロ接合構造のへき開端面が、無秩序化された層構造であることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ素子。
  6. 前記誘電体膜が、酸化シリコンを本質的な成分とする膜であることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ素子。
  7. 前記n型クラッド層、前記p型クラッド層、および前記第2のp型クラッド層が、InGaAlPの組成を有し、前記活性層が、InGaPの組成を有することを特徴とする請求項1または2記載の半導体レーザ素子。
  8. 前記p型コンタクト層が、GaAsの組成を有し、前記p型コンタクト層のキャリア濃度が、1×1019cm−3ないし5×1019cm−3であることを特徴とする請求項1または2記載の半導体レーザ素子。
  9. 出射されるレーザ光の波長が、ほぼ650nmであることを特徴とする請求項1または2記載の半導体レーザ素子。
  10. 前記誘電体膜が、前記p型コンタクト層の端面近傍の上面上一部をも覆っていることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ素子。
  11. 出射されるレーザ光の出力が、200mW以上になり得ることを特徴とする請求項1または2記載の半導体レーザ素子。
  12. n型クラッド層、前記n型クラッド層上に位置する活性層、および前記活性層上に位置するp型クラッド層を有するダブルヘテロ接合構造を形成する工程と、
    前記形成されたダブルヘテロ接合構造上に第2のp型クラッド層を形成する工程と、
    前記形成された第2のp型クラッド層上に、ドーパントとして炭素を含むp型コンタクト層を形成する工程と、
    前記第2のp型クラッド層およびp型コンタクト層をリッジ形状に加工する工程と、
    前記リッジ形状に加工された第2のp型クラッド層およびp型コンタクト層の側面上と、前記ダブルへテロ接合構造上で前記第2のp型クラッド層が形成されていない面上とに誘電体膜を堆積する工程と、
    前記p型コンタクト層の上面に接するようにp側電極を形成する工程と
    を具備することを特徴とする半導体レーザ素子の製造方法。
  13. 第2のp型クラッド層を形成する前記工程の後でp型コンタクト層を形成する前記工程の前に前記ダブルへテロ接合構造の一部範囲に層構造の無秩序化を行なう工程をさらに具備することを特徴とする請求項12記載の半導体レーザ素子の製造方法。
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