JP2005091599A - 組成物、化合物、これを用いた光学補償シート及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 光学補償機能に優れた光学補償シートを提供する。
【解決手段】 液晶性化合物と、下記一般式（Ｉ）[式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々、水素原子、置換基又は（−Ｌ−Ｗ）基を表すが、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³の少なくとも一つは（−Ｌ−Ｗ）基を表す。Ｌは単結合又は二価の連結基を、Ｗは親水性基を表す]で表される化合物の少なくとも一種とを含有する組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートである。
【化１】

【選択図】 なし

Description

本発明は、光学異方性層の形成に有用な組成物及び化合物、並びにそれを用いて作製された光学補償シートに関し、偏光板及び液晶表示装置に利用され得る光学補償シートに関する。

透明支持体との距離に伴って傾斜角が変化するように液晶性分子を配向（ハイブリッド配向）させた光学異方性層を有する光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードやＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置の視野角拡大に有用である。例えば、５〜５０度の傾斜角で配向させたトリフェニレン液晶からなる光学異方性層を有する光学補償シートが提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。また、トリフェニレン液晶の傾斜角を大きくする方法として、フッ素置換アルキル基と親水基（スルホン酸基が連結基を介してベンゼン環に結合した）を有する化合物を光学異方性層に添加する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。しかし、本発明者がこれらの光学補償シートを実際に使用してみたところ、偏光板の斜め方向からの光漏れが認められ、視野角が充分に拡大しないものもあることが判明した。光学補償機能が不十分になる理由の一つとしてトリフェニレン液晶の傾斜角が充分に確保できないことがある。
米国特許第５，５８３，６７９号明細書 米国特許第５，６４６，７０３号明細書 特開２００１−３３０７２５号公報

本発明は、上下界面における液晶性分子の傾斜角の差を増大させ、安定的に液晶性分子をハイブリッド配向させることにより、所望の光学特性を有する光学異方性層を安定的に作製可能な組成物を提供することを課題とする。また、本発明は、光学補償機能に優れた、ハイブリッド配向した液晶性分子からなる光学異方性層を有する光学補償シートを提供することを課題とする。また、本発明は、ＴＮモード又はＯＣＢモード等の液晶表示装置の視野角改善に寄与する、ハイブリッド配向した液晶性分子からなる光学異方性層を有する光学補償シートを提供することを課題とする。

上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 液晶性化合物と、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する組成物。

[式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々、水素原子、置換基又は（−Ｌ−Ｗ）基を表すが、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³の少なくとも一つは（−Ｌ−Ｗ）基を表す。Ｌは単結合又は二価の連結基を表し、Ｗは親水性基を表す。]
［２］ 透明支持体上に配向膜と光学異方性層とを有する光学補償シートであり、該光学異方性層が、液晶性化合物と、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する光学補償シート。
［３］ 前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である［２］に記載の光学補償シート。
［４］ 前記ディスコティック液晶性化合物が、トリフェニレン液晶である［３］に記載の光学補償シート。
［５］ 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（Ｉａ）で表される［２］〜［４］のいずれかに記載の光学補償シート。

[式（Ｉａ）中、Ｒｆ¹及びＲｆ²は、炭素数１〜２０のアルキル基、末端にＣＦ₃基を有する炭素数１〜２０のアルキル基、又は末端にＣＦ₂Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、複数のＲｆ¹及びＲｆ²は同一であっても異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘ¹は、（ｍ＋１）価の連結基を表し、Ｘ²は、（ｎ＋１）価の連結基を表し、Ｌ¹は単結合又は二価の連結基を表し、Ｗ¹はスルホン酸基又はカルボン酸基を表し、ｍ及びｎは各々独立に１〜５の整数を表す。]
［６］ 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、前記一般式（Ｉａ）で表される［１］に記載の組成物。
［７］ 下記一般式（Ｉｂ）で表される化合物。

[式（Ｉｂ）中、Ｒｆ¹¹及びＲｆ²²は、炭素数１〜２０のアルキル基、末端にＣＦ₃基を有する炭素数１〜２０のアルキル基、又は末端にＣＦ₂Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、複数のＲｆ¹¹及びＲｆ²²は同一であっても異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘ¹¹及びＸ²²は、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの群より選ばれる連結基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基を表し、Ｍはプロトン、金属カチオン、又は有機カチオンを表し、ｐ１及びｐ２は各々独立に１〜５の整数を表し、ｘは１〜８の整数を表す。]

［８］ ［２］〜［５］のいずれかに記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。
［９］ 前記一般式（Ｉ）で表される化合物の存在下で液晶性化合物の分子をハイブリッド配向させて光学異方性層を形成する方法。
［１０］ 前記一般式（Ｉ）で表される化合物の存在下で前記液晶性化合物の分子をＴ₁℃で水平配向させた後、Ｔ₂（Ｔ₂＞Ｔ₁）℃でハイブリッド配向状態にする［９］に記載の方法。
［１１］ さらに、液晶性化合物の分子をハイブリッド配向状態に固定する工程を含む［９］または［１０］に記載の方法。
［１２］ 前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である［９］〜［１１］のいずれかに記載の方法。
［１３］ 前記ディスコティック液晶性化合物がトリフェニレン液晶である［１２］に記載の方法。
［１４］ 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、前記一般式（Ｉａ）で表される［９］〜［１３］のいずれかに記載の方法。
［１５］ 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（Ｉｂ）で表される［９］〜［１４］のいずれかに記載の方法。

［１６］ 偏光子と、［２］〜［５］のいずれかに記載の光学補償シートを有する楕円偏光板。
［１７］ 一対の偏光子と、該一対の偏光子に挟持される液晶セルと、前記偏光子と前記液晶セルとの間に、少なくとも一つの［２］〜［５］のいずれかに記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。
［１８］ ［１６］に記載の楕円偏光板と、液晶セルとを有する液晶表示装置。

なお、本発明において、「ハイブリッド配向」とは、液晶分子の長軸方向（例えば、ディスコティック液晶分子の場合はコアの円盤面）と光学異方性層の水平面（本発明では、光学異方性層が配向膜を介して支持体上に形成されているので、支持体の表面）とのなす角度（以下、「傾斜角」という）が、支持体からの距離にともない、すなわち光学異方性層の厚さ方向に変化する配向をいい、光学異方性層／配向膜界面と、光学補償シートの最外面でもある光学異方性層／空気界面とで、傾斜角が異なる液晶性分子によって実現される。本明細書では、傾斜角の変化の態様には、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化などいずれも含まれるものとする。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。本発明における「ハイブリッド配向」は、傾斜角が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していることが好ましい。さらに、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。

本発明によれば、液晶性化合物と前記一般式（Ｉ）で表される化合物とを併用することによって、液晶性化合物の傾斜角を増加させることができるとともに、配向膜との組み合わせや、他の配向制御剤との組み合わせによって、液晶性化合物の傾斜角を任意に調整することが可能になる。ＴＮモードの液晶セルを正確に光学的に補償するためには、従来の光学補償シートよりも、液晶、特にディスコティック液晶の傾斜角を増加させることが好ましいが、本発明では、ディスコティック液晶の傾斜角を増加させることができるため、ＴＮモードの液晶セルに正確に対応した光学補償シートが得られる。このような光学補償シートを用いることで、偏光板の斜め方向からの光漏れが防止され、液晶表示装置の視野角を十分に(従来以上に)拡大することができる。さらに、本発明によれば、液晶表示装置の視野角拡大に寄与しうる楕円偏光板、及び視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。

発明の実施の形態

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の組成物は、液晶性化合物と下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する。本発明の組成物は、光学異方性層を作製するのに有用である。下記一般式（Ｉ）で表される化合物は、液晶性分子の配向の傾斜角を増大させるのに寄与する。例えば、本発明の組成物を配向膜の表面に塗布すると、液晶性分子は配向膜界面では配向膜の規制力によって、長軸（例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合、コアの円盤面）を層平面に対して略平行にして配向する。一方、配向膜界面から離れ空気界面に近づくに従って、配向膜の規制力は弱くなり、液晶性分子は長軸を層平面に対して傾斜させて配向するようになる。本発明の組成物では、液晶性分子を下記一般式（Ｉ）で表される化合物の存在下で配向させることにより、液晶性分子の傾斜角、特に空気界面における傾斜角を増大させて、上下界面における傾斜角の差が大きいハイブリッド配向を達成している。その結果、本発明の組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートは、優れた光学補償能を有し、特に、偏光板の斜め方向からの光漏れが防止され、液晶表示装置の視野角を十分に(従来以上に)拡大することができる。また、下記一般式（Ｉ）で表される化合物は、組成物（特に塗布液の態様）の濡れ性を向上させるので、塗布時にハジキが発生するのを軽減することができ、安定的に光学異方性層を作製することができる。

式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々、水素原子、置換基又は（−Ｌ−Ｗ）基を表すが、少なくとも一つは（−Ｌ−Ｗ）基を表す。Ｌは単結合又は二価の連結基を表し、Ｗは親水性基を表す。

一般式（Ｉ）の化合物について詳細に説明する。
Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³で表される置換基としては以下の基を挙げることができる。
アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、

アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、

アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³で表される置換基としては、好ましくは末端がＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基であるアルキルを少なくとも一つ有する置換基である。

Ｌで表される二価の連結基はアルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環基、−ＣＯ−、−ＮＲ^a−（Ｒ^aは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、二価の芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ^a−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、可能であれば前述のＲ¹、Ｒ²及びＲ³で表される置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）によって置換されていてもよい。

Ｗは、アニオン性、カチオン性又はノニオン性の親水性基を表す。Ｗで表されるアニオン性基としては、マイナスの電荷をとり得るものであればいずれでもよいが、好ましくはリン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、硫酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基又はカルボン酸基であり、より好ましくはリン酸基、ホスホン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基であり、さらに好ましくは硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基である。これらのアニオン性基は解離体、非解離体のいずれであってもよい。Ｗで表されるカチオン性基としてはプラスの電荷をとりうるものであればいずれでもよいが、好ましくは、有機のカチオン性置換基であり、より好ましくは窒素又はリンのカチオン性基である。さらに好ましくは、ピリジニウムカチオン又はアンモニウムカチオンであり、より好ましくはトリアルキルアンモニウムカチオンである。Ｗで表されるノニオン性基としては、メルカプト基、ヒドロキシル基、置換又は無置換のアミノ基、多価アルコール（例えば、グリセリン、グルコース、ソルビトール、ショ糖など）、アミノアルコール（例えば、−Ｎ（Ｃ₂Ｈ₄ＯＨ）₂など）、ポリエチレングリコール（例えば、−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_nＨなど）などをあげることができる。

Ｗとして好ましくはアニオン性親水性基である。

前記一般式（Ｉ）で表される化合物の中でも、下記一般式（Ｉａ）で表される化合物が好ましいい。

式（Ｉａ）中、Ｒｆ¹及びＲｆ²は、炭素数１〜２０のアルキル基、末端にＣＦ₃基を有する炭素数１〜２０のアルキル基、又は末端にＣＦ₂Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、複数のＲｆ¹及びＲｆ²は同一であっても異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘ¹は、（ｍ＋１）価の連結基を表し、Ｘ²は、（ｎ＋１）価の連結基を表し、Ｌ¹は単結合又は二価の連結基を表し、Ｗ¹はスルホン酸基又はカルボン酸基を表し、ｍ及びｎは各々独立に１〜５の整数を表す。

式（Ｉａ）中、Ｒｆ¹及びＲｆ²で表される炭素数１〜２０のアルキル基は置換もしくは無置換のアルキル基であり、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは４〜１６のアルキル基であり、特に好ましくは６〜１６のアルキル基である。Ｒｆ¹及びＲｆ²で表される末端にＣＦ₃基を有する炭素数１〜２０のアルキル基は、好ましくは炭素数４〜１６であり、特に好ましくは６〜１６である。前記末端にＣＦ₃基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上が置換されているのが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに前述のＲ¹、Ｒ²及びＲ³として例示された置換基によって置換されていてもよい。Ｒｆ¹及びＲｆ²で表される末端にＣＦ₂Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基は、好ましくは炭素数４〜１６であり、特に好ましくは６〜１６である。前記末端にＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上が置換されているのが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに前述のＲ¹、Ｒ²及びＲ³として例示された置換基によって置換されていてもよい。Ｒｆ¹及びＲｆ²で表される末端にＣＦ₃基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。

Ｒｆ１：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−
Ｒｆ２：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−
Ｒｆ３：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−
Ｒｆ４：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−（ＣＨ₂）₂−
Ｒｆ５：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−（ＣＨ₂）₂−
Ｒｆ６：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−（ＣＨ₂）₂−
Ｒｆ７：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−
Ｒｆ８：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−
Ｒｆ９：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−
Ｒｆ１０：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−（ＣＨ₂）−
Ｒｆ１１：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−（ＣＨ₂）−
Ｒｆ１２：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−（ＣＨ₂）−

Ｘ¹で表される（ｍ＋１）価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、芳香族基、ヘテロ環残基、−ＣＯ−、−ＮＲ^a−（Ｒ^aは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる（ｍ＋１）価の連結基であることが好ましい。（ｍ＋１）価の連結基は、アルキレン基、芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ^a−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−及びそれらの群より選ばれる連結基を少なくとも二つ組み合わせた（ｍ＋１）価の連結基であることが特に好ましく、アルキレン基、フェニル基、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの群より選ばれる連結基を少なくとも二つ組み合わせた（ｍ＋１）価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、可能であれば前述のＲ¹、Ｒ²及びＲ³で表される置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）によって置換されていてもよい。

Ｘ²で表される（ｎ＋１）価の連結基は、Ｘ¹で表される（ｍ＋１）価の連結基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。

Ｌ¹で表される二価の連結基は、前記一般式（Ｉ）におけるＬと同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｌ¹は、アルキレン基、フェニル基、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが特に好ましい。

前記一般式（Ｉａ）で表される化合物の中でも、下記一般式（Ｉｂ）で表される化合物が特に好ましい。

式（Ｉｂ）中、Ｒｆ¹¹及びＲｆ²²は、炭素数１〜２０のアルキル基、末端にＣＦ₃基を有する炭素数１〜２０のアルキル基、又は末端にＣＦ₂Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、複数のＲｆ¹¹及びＲｆ²²は同一であっても異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘ¹¹及びＸ²²は、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの群より選ばれる連結基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基を表し、Ｍはプロトン、金属カチオン又は有機カチオンを表し、ｐ１及びｐ２は各々独立に１〜５の整数を表し、ｘは１〜８の整数を表す。

Ｒｆ¹¹及びＲｆ²²は、前記一般式（Ｉａ）におけるＲｆ¹及びＲｆ²と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｘ¹¹及びＸ²²は、好ましくはエチレン基、プロピレン基、−Ｏ−、−Ｓ−を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であり、特に好ましくはエチレン基と−Ｏ−を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基である。Ｍは、好ましくはプロトン（Ｈ⁺）、アルカリ金属イオン（例えばナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン）、アルカリ土類金属イオン（例えばカルシウムイオン）、アンモニウムイオン（例えば、アンモニウムイオン、トリアルキルアンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニムイオン、ピリジニウムイオン）であり、プロトンおよびアンモニウムイオンがさらに好ましい。ｐ１及びｐ２は、好ましくは１〜３の整数であり、特に好ましくは１又は２である。ｘは、好ましくは１〜４の整数であり、特に好ましくは２である。

なお、式（Ｉｂ）中、置換基Ｒｆ¹¹−Ｘ¹¹−及びＲｆ²²−Ｘ²²−のベンゼン環上の結合位置については特に限定されないが、−ＮＨ−に対してｐ位にそれぞれ結合しているのが好ましい。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。

前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、塩化シアヌルの求核置換反応に、公知の種々の反応を組み合わせて容易に合成することができる。

本発明の光学補償シートは、液晶性化合物、前記一般式（Ｉ）で表される化合物、及びその他必要に応じて添加する各種化合物を含有する本発明の組成物を、配向膜上に塗布し、液晶性分子を配向させることにより光学異方性層を形成して作製することができる。透明支持体上に形成された配向膜表面に前記光学異方性層を形成すれば、そのまま光学補償シートとして用いることができるし、仮支持体上に形成された配向膜表面に前記光学異方性層を形成した場合は、前記光学異方性層のみを透明支持体上に転写して、光学補償シートとしてもよい。

本発明の組成物を光学異方性層の作製に用いる場合、組成物中の前記一般式（Ｉ）で表される化合物の添加量は、液晶性化合物の質量に対して、０．０１〜２０質量％であるのが好ましく、０．０５〜１０質量％であるのがより好ましく、０．１〜５質量％であるのが最も好ましい。なお、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。

以下に、本発明の組成物を光学補償シートの作製に用いる場合に、組成物中に添加される一般式（Ｉ）で表される化合物以外の材料、及び光学補償シートの作製方法について詳細に説明する。
［液晶性化合物］
本発明において、光学異方性層に用いる液晶性化合物は、棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物のいずれでもよく、また、高分子液晶及び低分子液晶のいずれでもよい。好ましくはディスコティック液晶であり、より好ましくはトリフェニレン液晶である。また、光学異方性層が最終的に形成された際に、液晶性化合物はもはや液晶性化合物である必要はない。なお、本発明で用いられる液晶性化合物は、単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。

［棒状液晶化合物］
好ましい棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体の液晶性化合物も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。棒状液晶性化合物についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号５０頁７行〜５７頁末行に記載されている。

［ディスコティック液晶性化合物］
本発明に好ましく用いられるディスコティック液晶性化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。さらに、ディスコティック液晶性化合物としては、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造のものも含まれ、これらもすべて液晶性を示す。

上記した様に、ディスコティック液晶性化合物は、光学異方性層を形成した後は、もはや液晶性を示す必要はない。例えば、低分子のディスコティック液晶性化合物が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化して、液晶性を失ってもよい。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載があり、本発明にも適用することができる。

ディスコティック液晶性化合物を重合により固定する方法の一例として、ディスコティック液晶性化合物として、ディスコティックコアに置換基として重合性基を有する液晶性化合物を用い、ハイブリッド配向させた後、前記液晶性化合物を重合させて固定する方法がある。但し、ディスコティックコアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる傾向にある。そこで、ディスコティックコアと重合性基との間に、連結基を導入することが好ましい。重合性基を有する好ましいディスコティック液晶性化合物としては、下記式（II）で表わされる化合物が挙げられる。

一般式（II）
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）_n
式中、Ｄはディスコティックコアを表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｐは重合性基を表し、ｎは２〜１２のいずれかの整数を表す。前記ディスコティック液晶性化合物の具体例としては、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の５８頁６行〜６５頁８行に記載されている。

本発明では、二種類以上のディスコティック液晶性分子を併用してもよい。また、例えば、上記の重合性ディスコティック液晶性分子と非重合性ディスコティック液晶性分子とを併用することも可能である。非重合性ディスコティック液晶性分子は、前述した重合性ディスコティック液晶性分子の重合性基（Ｐ）を、水素原子またはアルキル基に変更した化合物であることが好ましい。すなわち、非重合性ディスコティック液晶性分子は、下記式（III）で表わされる化合物であることが好ましい。

一般式（III）
Ｄ（−Ｌ−Ｒ）_n
式中、Ｄは円盤状コアを、Ｌは二価の連結基を、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、ｎは２〜１２の整数である。

［光学異方性層の添加剤］
本発明の組成物には、前記ディスコティック液晶性化合物や前記一般式（Ｉ）で表される化合物の他に、任意の添加剤を添加してもよい。添加剤の例としては、水平配向剤、ハジキ防止剤、配向膜のチルト角（光学異方性層／配向膜界面での液晶性分子の傾斜角）を制御するための添加剤、重合開始剤、配向温度を低下させる添加剤（可塑剤）、重合性モノマー等である。

［水平配向剤］
本発明の組成物には、液晶性分子の水平配向を誘起する化合物（以下、「水平配向剤」と略記する）を含有することも好ましい。水平配向剤としては液晶性分子の水平配向を誘起する化合物であれば特に制限はないが、前記一般式（Ｉ）と併用することにより液晶性分子の水平配向を誘起する化合物が好ましい。特に好ましくは、温度Ｔ₁℃で液晶性分子を水平配向させた後、温度Ｔ₂℃（但し、Ｔ₁＜Ｔ₂）でハイブリッド配向へ転移させ得る水平配向剤である。液晶性分子を一旦水平配向させた後、ハイブリッド配向へ転移させることによって、シュリーレン欠陥などの欠陥の少ないハイブリッド配向の光学異方性層を迅速に製造することができ生産性を向上できる。前記水平配向剤は、液晶性化合物の量に対して、０．０１〜２０質量％であるのが好ましく、０．０５〜１０質量％であるのがより好ましく、０．１〜５質量％であるのが更に好ましい。

本発明における水平配向剤としては、下記一般式（IV）で表される含トリアジン環化合物が好適に用いられる。

式中、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²、及びＲ³として例示した置換基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は、特に好ましくは置換又は無置換のアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基であり、最も好ましくは炭素数６〜２０の無置換のアルキル基、炭素数１〜２０の無置換のアルコキシ基又は炭素数１〜２０の無置換又はフッ素原子が置換したアルコキシ基によって置換されたフェニル基である。また、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は可能な場合には連結して二量体又は三量体を形成していてもよい。Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴は、アルキレン基、芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ−（Ｒは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、好ましくは、アルキレン基、芳香族基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴は、特に好ましくはアルキレン基、フェニル基、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であり、最も好ましくはエチレン基、プロピレン基、−ＮＨ−、−Ｏ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。

なお、前記水平配向剤は液晶性分子の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有していてもよい。

本発明に使用可能な水平配向剤の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる水平配向剤はこれらに限定されるものではない。

［ハジキ防止剤］
ハジキ防止剤とは、塗布時のハジキを防止するための材料であり、一般的には、高分子化合物を好適に用いることができる。使用するポリマーとしては、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルノ例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。液晶性分子の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に０．１〜１０質量％であり、０．１〜８質量％であるのがより好ましく、０．１〜５質量％であるのがさらに好ましい。

［配向膜チルト角制御剤］
本発明の組成物中には、配向膜のチルト角を制御する添加剤として、分子内に極性基と非極性基の両方を有する化合物を添加してもよい。極性基としては、Ｒ−ＯＨ、Ｒ−ＣＯＯＨ、Ｒ−Ｏ−Ｒ、Ｒ−ＮＨ₂、Ｒ−ＮＨ−Ｒ、Ｒ−ＳＨ、Ｒ−Ｓ−Ｒ、Ｒ−ＣＯ−Ｒ、Ｒ−ＣＯＯ−Ｒ、Ｒ−ＣＯＮＨ−Ｒ、Ｒ−ＣＯＮＨＣＯ−Ｒ、Ｒ−ＳＯ₃Ｈ、Ｒ−ＳＯ₃−Ｒ、Ｒ−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ、Ｒ−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂−Ｒ、Ｒ−Ｃ＝Ｎ−Ｒ、ＨＯ−Ｐ（−ＯＲ）₂、（ＨＯ−）₂Ｐ−ＯＲ、Ｐ（−ＯＲ）₃、ＨＯ−ＰＯ（−ＯＲ）₂、（ＨＯ−）₂ＰＯ−ＯＲ、ＰＯ（−ＯＲ）₃、Ｒ−ＮＯ₂、Ｒ−ＣＮ、等が例として挙げられる。また、有機塩（例えば、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩）でもかまわない。中でも、Ｒ−ＯＨ、Ｒ−ＣＯＯＨ、Ｒ−Ｏ−Ｒ、Ｒ−ＮＨ₂、Ｒ−ＳＯ₃Ｈ、ＨＯ−ＰＯ（−ＯＲ）₂、（ＨＯ−）₂ＰＯ−ＯＲ、ＰＯ（−ＯＲ）₃または有機塩が好ましい。ここで、上記各Ｒとしては下記の非極性基が挙げられる。

非極性基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数１から３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数１から３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基）が例として挙げられる。この非極性基はさらに置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が例として挙げられる。

配向膜チルト角制御剤を加えると、配向膜のチルト角は変えることができるが、その時の変化量はラビング密度に関係がある。ラビング密度が高い配向膜とラビング密度の低い配向膜を比較すれば、ラビング密度の低い配向膜の方が、同じ添加量であっても、チルト角は変わりやすい。従って、配向膜チルト制御剤の添加量は、配向膜のラビング密度及び所望のチルト角の大きさ等によって変わるが、液晶性分子に対して、０．０００１質量％〜３０質量％が好ましく、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、更に０．００５質量％〜１０質量％が最も好ましい。配向膜チルト角制御剤の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。

［重合開始剤］
本発明の組成物から光学異方性層を形成する場合、光学異方性層中において、液晶性分子はハイブリッド配向の状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのがより好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が挙げられる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００ｍＪ〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。

［重合性モノマー］
本発明の組成物中には、液晶性化合物とともに重合性モノマーを用いてもよい。前記重合性モノマーは、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。

［塗布溶剤］
本発明の組成物を塗布液として調製する場合、調製のために用いる溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

［塗布方式］
上記溶媒を用いて調製した本発明の組成物からなる塗布液を、配向膜上に塗布し、液晶性分子を配向処理することで光学異方性層を形成することができる。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。また、塗布液における液晶性化合物の含有量は１〜５０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましく、２０〜４０質量％がさらに好ましい。

［光学異方性層の特性］
光学的異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。

本発明の組成物を配向膜上に塗布すると、液晶性分子は配向膜との界面では配向膜のチルト角で配向し、空気との界面では空気界面のチルト角で配向することとなる。したがって、塗布後、液晶性分子の均一配向（モノドメイン配向）させることで、空気界面から配向膜界面に向けて、つまり光学異方性層の深さ方向に液晶性分子の長軸の傾斜角（ディスコティック液晶性分子では、円盤面の法線と透明支持体の配向膜を設ける面の法線とがなす角）が連続的に変化するハイブリッド配向を実現することができる。液晶性分子をハイブリッド配向させてなる光学異方性層を有する光学補償シートは、表示装置の視野角を拡大させ、並びに視角変化に対するコントラスト低下、階調または黒白反転、及び色相変化等を防止するのに寄与する。

光学補償シートとして好ましい性能を発揮できる状態のハイブリッド配向を実現するためには、ディスコティック液晶性分子の場合、光学異方性層の空気界面のチルト角は５０°以上であるのが好ましく、配向膜のチルト角は３°〜３０°とするのが好ましい。配向膜のチルト角は前記した方法（配向膜のラビング密度、配向膜チルト制御剤等）により制御することができ、本発明の光学補償シートを適用する液晶表示装置の表示モードに応じて、好ましいハイブリッド配向状態を実現することができる。

［チルト角］
チルト角とは、液晶性分子の長軸方向と界面（配向膜界面あるいは空気界面）の法線がなす角度を指し、本発明では、配向膜のチルト角は３°〜３０°であるのが好ましく、空気界面側のチルト角は２０〜８０°であるのが好ましい。チルト角が小さ過ぎると、液晶性分子のモノドメイン配向に要する時間が長くなるため大きい方が好ましいが、チルト角が大きくなり過ぎると、光学補償シートとして好ましい光学性能が得られなくなるため逆に好ましくない。従って、モノドメイン化時間の短縮と光学補償シートとしての好ましい光学性能の両立の観点から、配向膜のチルト角は５°〜３０°であるのがより好ましく、更に好ましくは７°〜２０°、特に好ましくは９°〜２０°である。また、空気界面側のチルト角は３０〜７５°であるのがより好ましく、更に好ましくは３５〜７０°、特に好ましいのは４０〜７０°である。配向膜側のチルト角は、後述する配向膜のラビング密度を変える方法、あるいは前述の配向膜チルト角制御剤の添加などにより、数度〜数十度の範囲で制御可能である。

［配向膜］
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログループを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクローラーイド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜上に設けられる光学異方性層の液晶性分子に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、配向膜のチルト角の制御し易さの点から、特にポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では上記のとおり液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。
配向膜に用いられるポリマーは、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明の光学補償シートを作製するフィルム用の配向膜ではポリビニルアルコール及びその誘導体が好ましく用いられる。特に好ましくは、疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向膜についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。

［配向膜のラビング密度］
配向膜のラビング密度を変える方法としては、液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ） Ｌ＝Ｎｌ｛１＋（２πｒｎ／６０ｖ）｝
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。ラビング密度と配向膜のチルト角との間には、ラビング密度を高くするとチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとチルト角は大きくなる関係がある。

［透明支持体］
本発明の光学補償シートは、透明支持体を有しているのが好ましい。透明支持体として、主に光学的等方性のポリマーフィルムが用いられる。本発明では、支持体の光透過率が８０％以上であることが好ましい。材料については特に制限はない。ポリマーの具体例として、セルロースアシレート類（例、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースアシレート類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。脂肪酸の炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであってもＷＯ００／２６７０５号明細書に記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。

ポリマーフィルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度、及びその範囲、並びにセルロースアセテートの化学構造は、特開２００２−１９６１４６号公報の段落番号第００２１欄の記載を適用できる。

透明支持体として用いるセルロースアシレートフィルムのＲｅレターデーション値、及び複屈折率の範囲は、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号第００１８欄〜第００１９欄の記載を適用できる。

透明支持体として用いるポリマーフィルム、特にセルロースアシレートフィルムのレターデーションを調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳香族化合物の好ましい範囲、及び使用量は、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号［００２１］〜［００２３］の記載を適用できる。このようなレターデーション上昇剤についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１、ＷＯ００／２６１９Ａ１、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報、特願２００２−７０００９号明細書等に記載されている。

セルロースアシレートフィルムは、調製されたセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりを製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて、ドープの２層以上流延によるフィルム化もできる。フィルムの形成は、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号第００３８欄〜第００４０欄の記載が本発明に適用できる。

セルロースアシレートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明のセルロースアセテートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。

セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号第００４３欄の態様、及び好ましい範囲が本発明に適用できる。

セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号［００４４］の記載が本発明に適用できる。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。

セルロースアシレートフィルムは、表面処理、及び固体の表面エネルギーについては、特開２００２−１９６１４６号公報の段落番号第００５１欄〜第００５２欄の記述が本発明に適用できる。

セルロースアシレートフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常５〜５００μｍの範囲であり、さらに２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１８０μｍの範囲が最も好ましい。なお、光学用途としては３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。セルロースアシレートフィルムを非塩素系溶媒を用いて製造することについて、発明協会公開技報２００１−１７４５号に詳しく記載されており、そこに記載されたセルロースアシレートフィルムも本発明に好ましく用いることができる。

本発明の光学補償シートは、偏光膜と組合せて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型液晶表示装置に、偏光膜と組合せて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。以下に、本発明の光学補償シートを利用した楕円偏光板及び液晶表示装置について説明する。

［楕円偏光板］
本発明の光学補償シートと偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。本発明の光学補償シートを利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大しうる楕円偏光板を提供することができる。前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。

偏光膜は前記光学補償シートの光学異方性層側に積層する。偏光膜の光学補償シートを積層した側と反対側の面に透明保護膜を形成することが好ましい。透明保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースアシレートフィルム、好ましくはセルローストリアセテートフィルムが用いられる。セルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。

［液晶表示装置］
本発明の光学補償シートを利用することにより、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用光学補償シートは、米国特許５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号公報に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償シートは、特許番号第２８６６３７２号公報に記載がある。

本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用光学補償シートを作製することができる。本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードなど、種々のモードで駆動される液晶セルと組合せて液晶表示装置に適用できる。本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード又はＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置において特に効果がある。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作などは本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。

［化合物Ｎｏ．（Ｉ−３）の合成］
以下に記載するスキームで化合物Ｎｏ．（Ｉ−３）を合成した。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−３ａ）の合成 ： ３−（パーフルオルヘキシル）プロパノール（１１．３ｇ、０．０３０モル）及びトリエチルアミン（４．６ｍＬ、０．０３３モル）を酢酸エチル（４０ｍＬ）に懸濁させた後、０℃で塩化メタンスルフォニル（３．７８ｇ、０．０３３モル）を滴下し、室温で２時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え飽和食塩水で抽出した後、溶媒留去することによって黄色油状物として目的物１３．０ｇを得た。これは理論収量の９５％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ４．３（ｔ，２Ｈ），３．１（ｓ，３Ｈ），２．０−２．４（ｍ，４Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−３ｂ）の合成 ： 化合物Ｎｏ．（Ｉ−３ａ）（５．０ｇ、０．０１１モル）、ｐ−ニトロフェノール（１．４ｇ、０．０１０モル）及び炭酸カリウム（１．７ｇ、０．０１２モル）をジメチルアセトアミド（４０ｍＬ）に懸濁させた後、１１０℃で３時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え飽和食塩水で抽出した後、溶媒留去することによって黄色粉末として目的物４．７ｇを得た。これは理論収量の９５％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ８．２（ｄ，２Ｈ），６．９（ｄ，２Ｈ），４．２（ｔ，２Ｈ），２．０−２．４（ｍ，４Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−３ｃ）の合成 ： 還元鉄（５．６ｇ、０．１モル）及び塩化アンモニウム（０．５４ｇ、０．０１０モル）をイソプロパノール（３０ｍＬ）と水（６ｍＬ）との混合溶媒に懸濁させ３０分間加熱還流した後、化合物Ｎｏ．（Ｉ−３ｂ）（５．０ｇ、０．０１０モル）を分割添加し、さらに５時間還流した。反応液をセライトろ過した後、水（５０ｍＬ）を加えると白色結晶が析出した。得られた結晶を濾取し、ヘキサンで洗浄することによって目的物４．２ｇを得た。これは理論収量の９０％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ６．８（ｄ，２Ｈ），６．７（ｄ，２Ｈ），３．９（ｔ，２Ｈ），２．０−２．４（ｍ，４Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−３ｄ）の合成 ： 化合物Ｎｏ．（Ｉ−３ｃ）（１．４ｇ、３．０ミリモル）及び塩化シアヌル（０．２８ｇ、１．５ミリモル）をメチルエチルケトン（２０ｍＬ）に懸濁させた後、ジイソプロピルエチルアミン（０．５２ｍＬ、３．０ミリモル）を滴下し、６０℃で２時間攪拌した。反応液にヘキサン（４０ｍＬ）及び水（４０ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、ヘキサンで洗浄することによって目的物１．３ｇを得た。これは理論収量の８５％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ７．４（ｄ，４Ｈ），７．０−７．３（ｂｒ，２Ｈ），６．８−７．０（ｂｒ，４Ｈ），４．１（ｔ，４Ｈ），２．３（ｍ，４Ｈ），２．１（ｔｔ，４Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−３）の合成 ： 化合物Ｎｏ．（Ｉ−３ｄ）（０．４２ｇ、０．４０ミリモル）、タウリン（６０ｍｇ、０．４８ミリモル）及び炭酸カリウム（０．２８ｇ、２．０ミリモル）をジメチルアセトアミド（２０ｍＬ）に懸濁させた後、１６０℃で６時間攪拌した。反応液に１規定塩酸（４０ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、水及びヘキサンで洗浄することによって目的物０．３ｇを得た。これは理論収量の６６％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ７．４−７．６（ｂｒ，４Ｈ），６．７−７．０（ｂｒ，６Ｈ），６．１（ｂｒ，１Ｈ），４．１（ｔ，４Ｈ），３．８（ｍ，２Ｈ），３．１（ｔ，２Ｈ），２．２−２．４（ｍ，４Ｈ），２．０−２．２（ｍ，４Ｈ）。

［化合物Ｎｏ．（Ｉ−９）の合成］
化合物Ｎｏ．（Ｉ−９）を以下に記載するスキームで合成した。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−９ｂ）の合成 ： 化合物Ｎｏ．（Ｉ−９ａ）（５．２ｇ、０．０１０モル）、ｐ−ニトロフェノール（１．４ｇ、０．０１０モル）及び炭酸カリウム（２．８ｇ、０．０２０モル）をジメチルアセトアミド（２０ｍＬ）に懸濁させた後、１１０℃で３時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え飽和食塩水で抽出した後、溶媒留去することによって黄色液体として目的物５．５ｇを得た。これは理論収量の９８％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ８．２（ｄ，２Ｈ），６．９（ｄ，２Ｈ），４．２（ｔ，２Ｈ），２．７（ｍ，４Ｈ），２．３−２．５（ｍ，２Ｈ），２．１（ｍ，２Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−９ｃ）の合成 ： 還元鉄（５．０ｇ、０．０９０モル）及び塩化アンモニウム（０．１８ｇ、３．３ミリモル）をイソプロパノール（４０ｍＬ）と水（８ｍＬ）の混合溶媒に懸濁させ３０分間加熱還流した後、化合物Ｎｏ．（Ｉ−９ｂ）（５．６ｇ、０．０１０モル）を分割添加し、さらに５時間還流した。反応液をセライトろ過した後、溶媒留去することによって黄色液体として目的物４．８ｇを得た。これは理論収量の９０％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ６．８（ｄ，２Ｈ），６．７（ｄ，２Ｈ），３．９（ｔ，２Ｈ），３．２−３．５（ｂｒ，２Ｈ），２．７（ｍ，４Ｈ），２．３−２．５（ｍ，２Ｈ），２．０（ｍ，２Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−９ｄ）の合成 ： 化合物Ｎｏ．（Ｉ−９ｃ）（３．２ｇ、６．０ミリモル）及び塩化シアヌル（０．５５ｇ、３．０ミリモル）をメチルエチルケトン（２０ｍＬ）に懸濁させた後、ジイソプロピルエチルアミン（１．０ｍＬ、６．０ミリモル）を滴下し、６０℃で２時間攪拌した。反応液にヘキサン（４０ｍＬ）及び水（４０ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、ヘキサンで洗浄することによって目的物２．９ｇを得た。これは理論収量の８３％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ７．４（ｄ，４Ｈ），７．０−７．３（ｂｒ，２Ｈ），６．８−７．０（ｂｒ，４Ｈ），４．１（ｔ，４Ｈ），２．８（ｔ，８Ｈ），２．３−２．５（ｂｒ，４Ｈ），２．１（ｍ，４Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−９）の合成 ： 化合物Ｎｏ．（Ｉ−９ｄ）（１．２ｇ、１．０ミリモル）、タウリン（０．６３ｇ、５．０ミリモル）及び炭酸カリウム（１．５ｇ、０．０１０モル）をジメチルアセトアミド（２０ｍＬ）に懸濁させた後、１６０℃で２時間攪拌した。反応液に１規定塩酸（４０ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、水及びヘキサンで洗浄することによって目的物１．２ｇを得た。これは理論収量の９５％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ７．４−７．６（ｂｒ，４Ｈ），６．７−７．０（ｂｒ，６Ｈ），６．１（ｂｒ，１Ｈ），４．１（ｔ，４Ｈ），３．８（ｍ，２Ｈ），３．１（ｔ，２Ｈ），２．７（ｔ，８Ｈ），２．２−２．４（ｍ，４Ｈ），２．０−２．２（ｍ，４Ｈ）。

［実施例１］
（光学補償シートの作製）
厚さ１００μｍ、サイズ２７０ｍｍ×１００ｍｍのセルローストリアセテートフィルム（フジタック、富士写真フィルム（株）製）を透明支持体として用いた。透明支持体上にアルキル変性ポリビニルアルコール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）４質量％溶液を０．５μｍの厚さに塗布、乾燥し、その表面をラビング処理して、配向膜を形成した。配向膜の上に以下の組成の塗布液をバーコーターを用いて塗布した。

───────────────────────────────────
光学異方性層塗布液
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一般式（Ｉ）例示化合物Ｎｏ．Ｉ−４ ０．２質量部
下記のディスコティック液晶性化合物（１） １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学(株)製） ９．９質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製） ３．３質量部
増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．１質量部
メチルエチルケトン ３００質量部
───────────────────────────────────

次に、上記塗布層を光学異方性層の膜面温度１２０℃で約１２０秒間加熱熟成したのち、約２０秒間で８０℃まで冷却した。次いで、同温度を保持したまま０．４Ｊの紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。形成した光学異方性層の厚さは１．９μｍであった。以上の如く光学異方性層を形成し光学補償シートを作製した。

（光学補償シートの評価）
光学補償シートの光学異方性層における配向膜近傍の傾斜角及び空気界面近傍の傾斜角は、エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所(株)製）を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、Ｄｅｓｉｇｎｉｎｇ Ｃｏｎｃｅｐｔｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｄｉｓｃｏｔｉｃ Ｎｅｇａｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ Ｆｉｌｍｓ ＳＩＤ９８ ＤＩＧＥＳＴ に記載されている手法で算出した。測定波長は６３２．８ｎｍであり、結果を第１表に示す。

［実施例２〜８、比較例１、２］
実施例１で用いた例示化合物（Ｉ−４）を第１表の如く変更した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、同様に傾斜角を算出した。結果を第１表に示す。

上記第１表における実施例１〜８と比較例１及び２の結果から判るように、前記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する光学異方性層は、液晶性化合物の傾斜角、特に空気界面側の傾斜角が大きいハイブリッド配向を実現している。

次に、液晶表示装置としての応用例を示す。
［実施例９］
（透明支持体の作製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して、セルロースアセテート溶液（ドープ）を調製した。
────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート ６．５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ５．２質量部
下記のレターデーション上昇剤（１） ０．１質量部
下記のレターデーション上昇剤（２） ０．２質量部
ジクロロメタン ３１０．２５質量部
メタノール ５４．７５質量部
１−ブタノール １０．９５質量部
────────────────────────────────────

得られたドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、１２０℃を越える領域で機械方向の延伸率が実質０％、（剥ぎ取り時に機械方向に４％延伸することを考慮して）幅方向の延伸率と機械方向の延伸率との比が０．７５となるように調整して、厚さ１００μｍのセルロースアセテートフィルムを作製した。作製したフィルムのレターデーションを波長６３２．８ｎｍで測定したところ、厚み方向のレターデーションが４０ｎｍ、面内のレターデーションが４ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを透明支持体として用いた。

（第１下塗り層の形成）
透明支持体の上に、下記の組成の塗布液を２８ｍｌ／ｍ²塗布し、乾燥して、第１下塗り層を形成した。
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第１下塗り層塗布液組成
────────────────────────────────────
ゼラチン ５．４２質量部
ホルムアルデヒド １．３６質量部
サリチル酸 １．６０質量部
アセトン ３９１質量部
メタノール １５８質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
水 １２質量部
────────────────────────────────────

（第２下塗り層の形成）
第１下塗り層の上に、下記の組成の塗布液を７ｍｌ／ｍ²塗布し、乾燥して、第２下塗り層を形成した。
────────────────────────────────────
第２下塗り層塗布液組成
────────────────────────────────────
下記のアニオン性ポリマー ０．７９質量部
クエン酸モノエチルエステル １０．１質量部
アセトン ２００質量部
メタノール ８７７質量部
水 ４０．５質量部
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（バック層の形成）
透明支持体の反対側の面に、下記の組成の塗布液を２５ｍｌ／ｍ²塗布し、乾燥して、バック層を形成した。
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バック層塗布液組成
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酢化度５５％のセルロースジアセテート ６．５６質量部
シリカ系マット剤（平均粒径：１μｍ） ０．６５質量部
アセトン ６７９質量部
メタノール １０４質量部
────────────────────────────────────

（配向膜の形成）
第２下塗り層の上に、長鎖アルキル変性ポリビニルアルコールの水溶液を塗布し、６０℃の温風で９０秒間乾燥した後、ラビング処理を行い配向膜を形成した。得られた配向膜層の膜厚は０．５μｍであった。配向膜のラビング方向は、透明支持体の流延方向と平行であった。

（光学異方性層の形成）
配向膜の上に、前記実施例１にて示した光学異方性層塗布液を、＃４のワイヤーバーを用いて塗布した。形成した光学異方性層の厚さは１．７４μｍであった。

上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１３０℃の恒温槽中に入れ、約２０秒間かけて膜面温度１２０℃まで加熱し、そのまま約１２０秒間保持した後、次いで約２０秒間で８０℃まで冷却した。同温度を保持したまま０．４Ｊの紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、光学補償シートを作製した。

（液晶表示装置の作製）
ＩＴＯ透明電極が設けられたガラス基板の上に、ポリイミド配向膜を設け、ラビング処理を行った。５μｍのスペーサーを介して、二枚の基板を配向膜が向き合うように重ねた。二枚の基板は、配向膜のラビング方向が直交するように配置した。基板の間隙に、棒状液晶性分子（ＺＬ４７９２、メルク社製）を注入し、棒状液晶層を形成した。棒状液晶性分子のΔｎは０．０９６９であった。以上のように作製したＴＮ液晶セルの両側に、作製した光学補償シート二枚を光学異方性層が液晶セルの基板と対面するように貼り付けた。さらにそれらの外側に、偏光板二枚を貼り付けて液晶表示装置を作製した。光学補償シートの配向膜のラビング方向と、それに隣接する液晶セルの配向膜のラビング方向とが、反平行になるように配置した。また、偏光板の吸収軸と、液晶セルのラビング方向とが平行になるように配置した。液晶表示装置の液晶セルに電圧を印加し、白表示２Ｖ、黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示との透過率をコントラスト比として、上下左右でコントラスト比１０、かつ階調反転のない領域を視野角として測定した。結果を第２表に示す。

［実施例９〜１２、比較例３］
実施例９で用いた例示化合物（Ｉ−４）を第２表の如く変更した以外は、実施例９と同様にして液晶表示装置を作製した。結果を第２表に示す。

上記第２表に示した実施例９〜１２と比較例３の結果から判るように、本発明に係る前記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する光学異方性層を有する光学補償シートは、液晶表示装置の視野角の拡大に大きく寄与する。これは、実施例の光学補償シートでは、光学異方性層において、液晶性化合物の傾斜角が増加しているためと考えられる。

Claims (8)

1. 液晶性化合物と、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物。
   

   

   [式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³は各々独立に水素原子、置換基、又は（−Ｌ−Ｗ）基を表す。ここで、Ｌは単結合又は二価の連結基を表し、Ｗは親水性基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³の少なくとも一つは（−Ｌ−Ｗ）基を表す。]
2. 透明支持体上に配向膜と光学異方性層とを有する光学補償シートであり、該光学異方性層が、液晶性化合物と、請求項１中の一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する光学補償シート。
3. 前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である請求項２に記載の光学補償シート。
4. 前記ディスコティック液晶性化合物が、トリフェニレン液晶である請求項３に記載の光学補償シート。
5. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（Ｉａ）で表される請求項２〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
   

   

   [式（Ｉａ）中、Ｒｆ¹及びＲｆ²は、炭素数１〜２０のアルキル基、末端にＣＦ₃基を有する炭素数１〜２０のアルキル基、又は末端にＣＦ₂Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、複数のＲｆ¹及びＲｆ²は同一であっても異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘ¹は、（ｍ＋１）価の連結基を表し、Ｘ²は、（ｎ＋１）価の連結基を表し、Ｌ¹は単結合又は二価の連結基を表し、Ｗ¹はスルホン酸基又はカルボン酸基を表し、ｍ及びｎは各々独立に１〜５の整数を表す。]
6. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、請求項５中の一般式（Ｉａ）で表される請求項１に記載の組成物。
7. 下記一般式（Ｉｂ）で表される化合物。
   

   

   [式（Ｉｂ）中、Ｒｆ¹¹及びＲｆ²²は、炭素数１〜２０のアルキル基、末端にＣＦ₃基を有する炭素数１〜２０のアルキル基、又は末端にＣＦ₂Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、複数のＲｆ¹¹及びＲｆ²²は同一であっても異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘ¹¹及びＸ²²は、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの群より選ばれる連結基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基を表し、Ｍはプロトン、金属カチオン、又は有機カチオンを表し、ｐ１及びｐ２は各々独立に１〜５の整数を表し、ｘは１〜８の整数を表す。]
8. 請求項２〜５のいずれか１項に記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。