JP2005085659A - 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子装置およびその製造方法ならびに半導体電極およびその製造方法ならびに環融合型ポルフィリン錯体ならびに複合光電変換装置 - Google Patents

光電変換素子およびその製造方法ならびに電子装置およびその製造方法ならびに半導体電極およびその製造方法ならびに環融合型ポルフィリン錯体ならびに複合光電変換装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2005085659A
JP2005085659A JP2003317954A JP2003317954A JP2005085659A JP 2005085659 A JP2005085659 A JP 2005085659A JP 2003317954 A JP2003317954 A JP 2003317954A JP 2003317954 A JP2003317954 A JP 2003317954A JP 2005085659 A JP2005085659 A JP 2005085659A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoelectric conversion
conversion element
semiconductor
semiconductor electrode
polar group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003317954A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4561069B2 (ja
Inventor
Masatsugu Ueno
雅嗣 上野
Tadashi Enomoto
正 榎本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2003317954A priority Critical patent/JP4561069B2/ja
Publication of JP2005085659A publication Critical patent/JP2005085659A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4561069B2 publication Critical patent/JP4561069B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/542Dye sensitized solar cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Hybrid Cells (AREA)

Abstract

【課題】 紫外領域から少なくとも近赤外領域に感度を有し、太陽光の利用効率が極めて高い光電変換素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化チタンのような酸化物半導体その他の無機半導体を用いた半導体電極12を有する色素増感型湿式太陽電池などの光電変換素子において、半導体電極12に増感色素として、少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体を、この極性基を介して結合させる。環融合型ポルフィリン錯体としては例えば2量体のものを用いる。
【選択図】 図5

Description

この発明は光電変換素子およびその製造方法ならびに電子装置およびその製造方法ならびに半導体電極およびその製造方法ならびに環融合型ポルフィリン錯体ならびに複合光電変換装置に関し、例えば、無機半導体を用いた半導体電極を有する太陽電池に適用して好適なものである。
バンドギャップの大きな半導体を色素によって増感する色素増感型太陽電池は、シリコンまたは化合物半導体を用いた従来の太陽電池に取って代わる安価な太陽電池として有望であり、現在盛んに研究されている(非特許文献1)。
Nature,353(1991)737
一方、大須賀らによって合成された環融合型ポルフィリン錯体は、近赤外から赤外領域に非常に強い吸収帯を有することが近年明らかにされている(非特許文献2、3)。
Science,293(2001)79 J.Am.Chem.Soc.123(2001)10304
しかしながら、色素増感型太陽電池において増感色素として従来用いられているルテニウム(Ru)系色素では、せいぜい波長700nm程度までの光吸収しかなく、幅広いスペクトル分布を持つ太陽光を有効に活用することができなかった。このため、これまで様々な方法により増感色素の光吸収の長波長化が図られてきたが、大幅な改善に成功した例は報告されていない。
したがって、この発明が解決しようとする課題は、紫外領域から少なくとも近赤外領域に感度を有し、太陽光の利用効率が極めて高い光電変換素子およびその製造方法を提供することにある。
この発明が解決しようとする課題は、より一般的には、紫外領域から少なくとも近赤外領域まで感度を有し、太陽光の利用効率が極めて高い電子装置およびその製造方法を提供することにある。
この発明が解決しようとする他の課題は、紫外領域から少なくとも近赤外領域まで感度を有し、太陽光の利用効率が極めて高い半導体電極およびその製造方法を提供することにある。
この発明が解決しようとするさらに他の課題は、紫外領域から少なくとも近赤外領域まで感度を有し、太陽光の利用効率が極めて高い半導体電極の製造に適用して好適な環融合型ポルフィリン錯体を提供することにある。
この発明が解決しようとするさらに他の課題は、紫外領域から少なくとも近赤外領域まで感度を有し、太陽光の利用効率が極めて高い複合光電変換装置を提供することにある。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行った。その概要について説明すると次のとおりである。
本発明者は、上記の環融合型ポルフィリン錯体を半導体電極の増感色素に適用することを考えた。すなわち、環融合型ポルフィリン錯体は紫外領域から可視領域に加えて、少なくとも近赤外領域にも非常に強い吸収帯を有するため、この環融合型ポルフィリン錯体を酸化物半導体(二酸化チタン(TiO2 )など)のような無機半導体を用いた半導体電極に増感色素として用いれば、紫外領域から少なくとも近赤外領域まで感度を有する太陽電池などの光電変換素子を実現することが可能である。ところが、環融合型ポルフィリン錯体はそのままでは、酸化物半導体のような無機半導体の表面に吸着させることができないため、太陽電池などの光電変換素子用の増感色素として利用することはできなかった。
そこで、本発明者らは、環融合型ポルフィリン錯体に極性基を導入し、この極性基を介して酸化物半導体のような無機半導体の表面に環融合型ポルフィリン錯体を吸着させるようにすれば、環融合型ポルフィリン錯体を色素増感型太陽電池のような光電変換素子用の増感色素として利用することができることに着目し、実際に極性基を有する新規な環融合型ポルフィリン錯体の合成を試み、その合成に成功した。そして、得られた環融合型ポルフィリン錯体を増感色素として用いて酸化物半導体に吸着させて半導体電極を作製し、太陽電池を組み立てて評価したところ、近赤外領域まで感度を持つことを確認することができた。この太陽電池は、可視領域に感度を有する従来の太陽電池と組み合わせることにより、従来の太陽電池では利用することができなかった長波長側の光を活用することができるようになり、太陽電池の高効率化が可能になる。
この発明は、本発明者による上記の検討に基づいて案出されたものである。
すなわち、上記課題を解決するために、
この発明の第1の発明は、
無機半導体を用いた半導体電極を有する光電変換素子において、
半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体がこの極性基を介して結合している
ことを特徴とするものである。
この発明の第2の発明は、
無機半導体を用いた半導体電極を有する光電変換素子の製造方法において、
半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体をこの極性基を介して結合させる工程を有する
ことを特徴とするものである。
第1および第2の発明において、環融合型ポルフィリン錯体が有する少なくとも一つの極性基としては、酸化物半導体などの無機半導体の表面に吸着などにより結合することが可能である限り、基本的にはどのようなものを用いてもよいが、典型的には、カルボキシル基(−CO2 H)、スルホ基(−SO3 H)、アミノ基(−NH2 )、ピリジル基(−C5 4 N)などである。また、環融合型ポルフィリン錯体は2量体のほか、3量体、4量体などであってもよく、重合度が増すにつれて、より長波長側に感度を有するようになる。この少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体の例(2量体の例)を挙げると、
一般式
Figure 2005085659
(ただし、RはCO2 HまたはHで少なくとも一つのRはCO2 H、Mは金属)
で表されるものである。ポルフィリン錯体の中心金属であるMは、具体的には、例えばZn、Mg、Cuなどである。
この環融合型ポルフィリン錯体の具体例を挙げると、

Figure 2005085659
で表されるものである。
半導体電極を構成する無機半導体としては、Siに代表される元素半導体のほかに、酸化物半導体に代表される各種の化合物半導体やペロブスカイト構造を有する化合物などを使用することができる。酸化物半導体は、具体的にはTiO2 、ZnO、WO3 、Nb2 5 、TiSrO3 、SnO2 などであり、そのうちTiO2 、特にアナターゼ型結晶のTiO2 が光触媒活性の点から特に好ましい。このアナターゼ型TiO2 は市販の粉末、ゾル、スラリーでもよいし、あるいは酸化チタンアルコキシドを加水分解するなどの公知の方法によって所定の粒径のものを作ってもよい。無機半導体の種類はこれらに限定されるものではなく、これらの無機半導体を二種類以上混合して用いることもできる。
半導体電極を構成する無機半導体は、典型的には、微粒子状の形態を有する。この半導体微粒子の粒径に特に制限はないが、一次粒子の平均粒径で1〜200nmが好ましく、特に好ましくは5〜100nmである。また、この平均粒径の半導体微粒子にこの平均粒径より大きい平均粒径の半導体微粒子を混合し、平均粒径の大きい半導体微粒子により入射光を散乱させ、量子収率を向上させることも可能である。この場合、別途混合する半導体微粒子の平均粒径は20〜500nmであることが好ましい。
半導体微粒子からなる半導体電極の形成方法は、特に制限はないが、物性、利便性、製造コストなどを考慮した場合には湿式製膜法が好ましく、半導体微粒子の粉末あるいはゾルを水などの溶媒に均一分散し、基板上、一般的には透明導電性基板上に塗布する方法が好ましい。塗布方法は特に制限はなく、公知の各種の方法を用いることができ、例えば、スピンコート法、ローラーコート法、ディップ法、スプレー法、ワイヤーバー法、ブレードコート法、グラビアコート法、また、湿式印刷方法としては、例えば、凸版、オフセット、グラビア、凹版、ゴム版、スクリーン印刷などの各種の方法を用いることができる。半導体微粒子として市販の粉末を使用する際には粒子の二次凝集を解消することが好ましく、塗布液調製時に乳鉢やボールミルなどを使用して粒子の粉砕を行うことが好ましい。このとき、二次凝集が解かれた粒子が再度凝集するのを防ぐため、アセチルアセトン、塩酸、硝酸、界面活性剤、キレート剤などを添加するのが好ましい。また、増粘の目的でポリエチレンオキシドやポリビニルアルコールなどの高分子、セルロース系の増粘剤などの各種増粘剤を添加することもできる。
この光電変換素子の一般的な構造は、透明導電性基板上に形成した半導体電極と対極とを組み合わせ、両極間に電解液を充填したものである。
ここで、この透明導電性基板は、全体が透明で導電性を有するものであっても、導電性または非導電性の透明支持基板上に透明で導電性を有する膜が形成されたものであってもよい。この透明支持基板の材質は特に制限されず、透明であれば種々の基材を用いることができるが、光電変換素子外部から侵入する水分やガスの遮断性、耐溶剤性、耐候性などに優れているものが好ましい。この透明支持基板としては、具体的には石英、ガラスなどの透明無機基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフッ化ビニリデン、テトラアセチルセルロース、ブロム化フェノキシ、アラミド類、ポリイミド類、ポリスチレン類、ポリアリレート類、ポリスルフォン類、ポリオレフィン類などの透明プラスチック基板が挙げられるが、これらに限定されるものではない。この透明支持基板としては、加工性、軽量性、フレキシビリティーなどを考慮すると、特に、ポリエチレンテレフタレートなどに代表される透明プラスチック基板を用いるのが好ましい。この透明支持基板の厚さは特に制限されず、光の透過率、光電変換素子の内部と外部との遮断性などによって自由に選択することができる。
対極の材料としては、導電性物質であれば任意のものを用いることができるが、絶縁性の物質でも、半導体電極に面している側に導電層が設置されていれば、これも使用可能である。ただし、電気化学的に安定である材料を対極材料として用いることが好ましく、具体的には、白金、金、導電性高分子、カーボンなどを用いることが望ましい。また、酸化還元の触媒効果を向上させる目的で、対極の半導体電極に面している側は微細構造で表面積が増大していることが好ましく、例えば、白金であれば白金黒状態に、カーボンであれば多孔質状態になっていることが望まれる。白金黒状態は、白金の陽極酸化法、塩化白金酸処理などによって、また、多孔質状態のカーボンは、カーボン微粒子の焼結や有機ポリマーの焼成などの方法により形成することができる。
電解質は、ヨウ素(I2 )と金属ヨウ化物もしくは有機ヨウ化物との組み合わせ、臭素(Br2 )と金属臭化物あるいは有機臭化物との組み合わせのほか、フェロシアン酸塩/フェリシアン酸塩やフェロセン/フェリシニウムイオンなどの金属錯体、ポリ硫化ナトリウム、アルキルチオール/アルキルジスルフィドなどのイオウ化合物、ビオロゲン色素、ヒドロキノン/キノンなどを用いることができる。上記金属化合物のカチオンとしては、Li、Na、K、Mg、Ca、Csなど、上記有機化合物のカチオンとしては、テトラアルキルアンモニウム類、ピリジニウム類、イミダゾリウム類などの4級アンモニウム化合物が好ましいが、これらに限定されるものではなく、これらを2種類以上混合して用いることもできる。この中でも、I2 と、LiI、NaIやイミダゾリウムヨーダイドなどの4級アンモニウム化合物とを組み合わせた電解質が好適である。電解質塩の濃度は溶媒に対して0.05〜5Mが好ましく、さらに好ましくは0.2〜1Mである。I2 やBr2 の濃度は0.0005〜1Mが好ましく、さらに好ましくは0.0001〜0.1Mである。また、開放電圧、短絡電流を向上させる目的で、4−tert−ブチルピリジンやカルボン酸などの各種添加剤を加えることもできる。
上記電解質組成物を構成する溶媒として水、アルコール類、エーテル類、エステル類、炭酸エステル類、ラクトン類、カルボン酸エステル類、リン酸トリエステル類、複素環化合物類、ニトリル類、ケトン類、アミド類、ニトロメタン、ハロゲン化炭化水素、ジメチルスルホキシド、スルフォラン、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、3−メチルオキサゾリジノン、炭化水素などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、単独もしくは2種類以上混合して用いることができる。また、溶媒としてテトラアルキル系、ピリジニウム系、イミダゾリウム系4級アンモニウム塩の室温イオン性液体を用いることも可能である。
光電変換素子の漏液、電解質の揮発を低減する目的で、上記電解質組成物へゲル化剤、ポリマー、架橋モノマーなどを溶解させ、ゲル状電解質として使用することも可能である。ゲルマトリクスと電解質組成物との比率は、電解質組成物が多ければイオン導電率は高くなるが、機械的強度は低下する。また、逆に電解質組成物が少な過ぎると機械的強度は大きいがイオン導電率は低下するため、電解質組成物はゲル状電解質の50〜99wt%が望ましく、80〜97wt%がより好ましい。また、上記電解質と可塑剤とを用いてポリマーに溶解させ、可塑剤を揮発除去することで全固体型の光電変換素子を実現することも可能である。
光電変換素子の製造方法は特に限定されないが、例えば電解質組成物が液状、もしくは光電変換素子内部でゲル化させることが可能であり、導入前は液状の電解質組成物の場合、増感色素を担持させた半導体電極と対極とを向かい合わせ、これらの電極が互いに接しないように半導体電極が形成されていない基板部分を封止する。このとき、半導体電極と対極との隙間に特に制限はないが、通常1〜100μmであり、より好ましくは1〜50μmである。この電極間の距離が長すぎると、導電率の低下から光電流が減少してしまう。封止方法は特に制限されないが、対光性、絶縁性、防湿性を備えた材料が好ましく、種々の溶接法、エポキシ樹脂、紫外線硬化樹脂、アクリル系接着剤、EVA(エチレンビニルアセテート) 、アイオノマー樹脂、セラミック、熱融着フィルムなどを用いることができる。また、電解質組成物の溶液を注液する注入口が必要であるが、増感色素を担持した半導体電極およびそれに対向する部分の対極上でなければ、注入口の場所は特に限定されない。注液方法に特に制限はないが、予め封止され、溶液の注入口を開けられた上記セルの内部に注液を行う方法が好ましい。この場合、注入口に溶液を数滴垂らし、毛細管現象により注液する方法が簡便である。また、必要に応じて減圧もしくは加熱下で注液の操作を行うこともできる。完全に溶液が注入された後、注入口に残った溶液を除去し、注入口を封止する。この封止方法にも特に制限はないが、必要であればガラス板やプラスチック基板などを封止剤で貼り付けて封止することもできる。また、ポリマーなどを用いたゲル状電解質、全固体型の電解質の場合、色素を担持した半導体電極上で電解質組成物と可塑剤とを含むポリマー溶液をキャスト法により揮発除去させる。可塑剤を完全に除去した後、上記方法と同様に封止を行う。この封止は真空シーラーなどを用いて、不活性ガス雰囲気下、もしくは減圧中で行うことが好ましい。封止を行った後、電解質を半導体電極へ十分に含侵させるため、必要に応じて加熱、加圧の操作を行うことも可能である。
光電変換素子はその用途に応じて様々な形状で作製することが可能であり、その形状は特に限定されない。
光電変換素子は、最も典型的には、色素増感型湿式光電変換素子(特に、色素増感型湿式太陽電池)であるが、そのほかに各種の光センサーも含まれる。
半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体をこの極性基を介して結合させる上記の構造および方法は、光電変換素子のみならず、無機半導体を用いた半導体電極を有する電子装置全般に適用することができるものである。
そこで、この発明の第3の発明は、
無機半導体を用いた半導体電極を有する電子装置において、
半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体がこの極性基を介して結合している
ことを特徴とするものである。
この発明の第4の発明は、
無機半導体を用いた半導体電極を有する電子装置の製造方法において、
半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体をこの極性基を介して結合させる工程を有する
ことを特徴とするものである。
この発明の第5の発明は、
無機半導体を用いた半導体電極において、
少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体がこの極性基を介して結合している
ことを特徴とするものである。
この発明の第6の発明は、
無機半導体を用いた半導体電極の製造方法において、
半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体をこの極性基を介して結合させる工程を有する
ことを特徴とするものである。
この発明の第7の発明は、
一般式
Figure 2005085659
(ただし、RはCO2 HまたはHで少なくとも一つのRはCO2 H、Mは金属)
で表されることを特徴とする環融合型ポルフィリン錯体である。
この発明の第8の発明は、

Figure 2005085659
で表されることを特徴とする環融合型ポルフィリン錯体である。
この発明の第9の発明は、
可視領域に感度を有する第1の光電変換素子と、
無機半導体を用いた半導体電極であって、少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体がこの極性基を介して結合しているものを有し、近赤外領域に感度を有する第2の光電変換素子とを有する
ことを特徴とする複合光電変換装置である。
ここで、第1の光電変換素子は、可視領域に感度を有する限り、無機半導体を用いた半導体電極を有する光電変換素子(例えば、従来のRu系色素を用いた光電変換素子など)のほか、各種の光電変換素子を用いることができる。
第1および第2の発明に関連して述べた上記のことは、その性質に反しない限り、第3〜第9の発明においても同様に成立する。
上述のように構成されたこの発明によれば、環融合型ポルフィリン錯体に少なくとも一つの極性基を導入していることにより、この極性基を介して環融合型ポルフィリン錯体を半導体電極に結合させることができる。
この発明によれば、近赤外から赤外領域に非常に強い吸収帯を有する環融合型ポルフィリン錯体を半導体電極に結合させることができることにより、紫外領域から少なくとも近赤外領域に感度を有し、太陽光の利用効率が極めて高い光電変換素子、電子装置、半導体電極を実現することができる。
以下、この発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、実施形態の全図において、同一または対応する部分には同一の符号を付す。
図1〜図4はこの発明の一実施形態による色素増感型湿式太陽電池の製造方法を示す。
この一実施形態においては、まず、図1に示すように、ITOなどからなる透明導電性基板11を用意する。
次に、図2に示すように、この透明導電性基板11上に、増感色素として少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体がこの極性基を介して表面に結合して担持された半導体微粒子層12を半導体電極として形成する。この半導体微粒子層12は例えば次のようにして形成することができる。すなわち、まず、半導体微粒子が分散されたコロイド溶液を透明導電性基板11上にスピンコートした後、この透明導電性基板11を例えば120℃程度の温度に加熱することにより溶媒を蒸発させる。次に、透明導電性基板11の耐熱温度以下の温度、例えば450℃程度の温度で加熱することにより半導体微粒子の焼成を行って半導体微粒子層12を形成する。この後、この半導体微粒子層12を、少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体を含む溶液に浸漬することにより、この少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体を担持させる。
一方、図3に示すように、ITOなどからなる透明導電性基板13を用意する。次に、図4に示すように、この透明導電性基板13上に対極として白金膜14を形成する。
次に、図5に示すように、半導体微粒子層12を形成した透明導電性基板11と白金膜14を形成した透明導電性基板13とを、半導体微粒子層12と白金膜14とが所定の間隔を持って互いに対向するように配置するとともに、所定の封止部材を用いて電解質層が封入される空間を形成し、この空間に、予め形成された注液口から電解質層15を注入する。その後、この注液口を塞ぐ。これによって、目的とする色素増感型湿式太陽電池が製造される。
次に、この色素増感型湿式太陽電池の動作について説明する。
図6に示すように、透明導電性基板11側からこの透明導電性基板11を透過して入射した光は、半導体微粒子層12の表面に担持された増感色素(環融合型ポルフィリン錯体)を励起して電子を発生する。この電子は速やかに増感色素から半導体微粒子層12の半導体微粒子に渡される。一方、電子を失った増感色素は、電解質層15のイオンから電子を受け取り、電子を渡した分子は、再び対極の白金膜14で電子を受け取る。この一連の過程により、半導体微粒子層12と電気的に接続された透明導電性電極11と白金膜14との間に起電力が発生する。このようにして光電変換が行われる。
以上のように、この一実施形態によれば、環融合型ポルフィリン錯体に少なくとも一つの極性基を導入し、この極性基を介して環融合型ポルフィリン錯体を半導体電極としての半導体微粒子層12に結合させているので、従来利用することができなかった環融合型ポルフィリン錯体を色素増感型湿式太陽電池の増感色素として利用することができる。このため、紫外領域から近赤外領域の幅広い波長範囲に感度を有し、太陽光のスペクトル分布により合致した吸収スペクトルを持ち、太陽光の利用効率が極めて高い色素増感型湿式太陽電池を実現することができる。
また、この色素増感型湿式太陽電池を例えば、可視領域に高い感度を有する従来のRu系色素を用いた色素増感型湿式太陽電池と組み合わせて複合太陽電池を構成することにより、紫外領域から近赤外領域の幅広い波長範囲に十分に高い感度を有し、太陽光の利用効率がより一層高い色素増感型湿式太陽電池を実現することができる。
以下のようにして環融合型ポルフィリン錯体の合成を行った。
図7〜図9に環融合型ポルフィリン錯体の合成の反応スキームを示す。
まず、モノマーユニットに当たる5,10,15−トリ(4’−カルボキシメチルフェニル)ポルフィリン(H2 )は、4−カルボキシメチルベンズアルデヒド(3当量)に対し、ピロール(2当量)、ジピリルメタン(1当量)を酸触媒(BF3 OEt2 )存在下で縮合させ、所定時間後ジクロロジシアノ−p−ベンゾキノン(DDQ)で酸化することにより合成した(図7)。次に、このモノマーをクロロホルム(CHCl3 )/メタノール(MeOH)混合溶媒中でZn(OAc)2 と反応させることによりポルフィリンの中心に中心金属としてZnを結合させてポルフィリン錯体を形成する。
次に、このモノマーをクロロホルム(CHCl3 )中、5倍当量のAgPF6 と反応させることにより、meso位でカップリングしたポルフィリン2量体(以下「化合物A」という)を得た。このポルフィリン2量体をさらにそれぞれ5当量のSc(OTf)3 およびDDQとトルエン(toluene)中で加熱還流することにより、目的とする、β−β、meso−meso、β−βの3点で架橋した環融合型ポルフィリン錯体(以下「化合物B」という)を得た(図8)。
さらに、トルエン・エタノール(toluene/EtOH)混合溶媒中で6当量のKOHと反応させることでエステルをアルカリ分解した。反応溶液をロータリーエバポレータで濃縮し、酢酸(AcOH)中に滴下することにより、遊離カルボン酸を持った環融合型ポルフィリン錯体(以下「化合物C」という)を黒色沈殿として得た。
次に、色素増感型湿式太陽電池の半導体電極、すなわち半導体微粒子層12を以下のようにして作製した。すなわち、上述のようにして合成された環融合型ポルフィリン錯体を乾燥エタノール中に溶解することで飽和溶液を得た。透明導電性基板11としてITOガラス基板を用い、その上に半導体微粒子層12として厚さ10μmの酸化チタン微粒子薄膜を焼成により形成する。その後、80℃まで冷却したこの酸化チタン微粒子薄膜付きITOガラス基板を上記の飽和溶液中に浸漬し、一晩静置した。その後、飽和溶液中から酸化チタン微粒子薄膜付きITOガラス基板を取り出し、乾燥エタノールでリンスして余分な溶液を洗い落とした後、窒素気流下で乾燥した。
一方、透明導電性基板13としてITOガラス基板を用い、その上に対極として白金膜14をスパッタリングにより形成した。
この後、次の手順で太陽電池の組み立てを行った。まず、白金膜14が形成された透明導電性基板13と酸化チタン微粒子からなる半導体微粒子層12が形成された透明導電性基板11とを、白金膜14と半導体微粒子層12とが幅5mmのコの字型のポリテトラフルオロエチレン製スペーサー(厚さ0.3mm)を挟んで互いに対向するように保持し、その外周を厚さ30μmのEVAフィルムとエポキシ樹脂とにより封止することで、電解質層を注入する空間を形成する。次に、この空間に予め形成された注液口から電解質層15を注入する。電解質層15としては、I2 (50mM)、KI(0.5M)、4−tert−ブチルピリジン(0.5M)のエチレンカーボネート:プロピレンカーボネート(1:1)の溶液を用いた。その後、注液口を塞ぐ。以上のようにして色素増感型湿式太陽電池を得た。
この色素増感型湿式太陽電池のIPCE(Induced Photon to Charge Efficiency)測定を行ったところ、Ru系色素では感度のない近赤外領域の900nmの波長においても光電流が観測され、光吸収の大幅な長波長化を達成することができたことが分かった。
次に、化合物A、B、Cの同定(characterization)の結果について説明する。
図10および図11にそれぞれ、化合物Aの吸収スペクトル(UV−vis spectrum)(CHCl3 ,nm)および2次元NMRスペクトル(H,H cosy NMR spectrum)(CDCl3 ,400MHz,20℃)の測定結果を示す。図10において、316nm、425nm、462nm、568nm、608nmの各波長に化合物Aの吸収ピークが観測される。MALDI−TOF−MS(9−nitroanthracene)は1542.220([M+ ]calcd,1542.244)であった。図11において、化学シフトδは、8.97(d,4H,pyr−β),8.92(d,4H,pyr−β),8.58(d,4H,pyr−β),8.47(d,4H,ArH),8.37(d,4H,ArH),8.25(d,4H,ArH),8.20(d,4H,ArH),8.11(d,4H,pyr−β),4.11(s,6H,OCH3 ),3.87(s,12H,OCH3 )である。
図12および図13にそれぞれ、化合物Bの同様な吸収スペクトル(DMF(N,N−ジメチルホルムアミド),nm)および2次元NMRスペクトル(CDCl3 ,400MHz,20℃)の測定結果を示す。図12において、426nm、470nm、566nm、970nm、1110nmの各波長に化合物Bの吸収ピークが観測される。図13において、δは、8.25(d,4H,ArH),8.21(d,8H,ArH),7.98(d,4H,ArH),7.97(d,4H,ArH),7.59(d,4H,pyr−β),7.57(d,4H,pyr−β),4.04(s,12H,OCH3 ),4.02(s,6H,OCH3 )である。
図14に、化合物Cの同様な吸収スペクトル(DMF,nm)の測定結果を示す。図14において、424nm、470nm、562nm、968nm、1112nmの各波長に化合物Cの吸収ピークが観測される。
以上、この発明の一実施形態および一実施例について具体的に説明したが、この発明は上述の実施形態および実施例に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
例えば、上述の一実施形態および一実施例において挙げた数値、構造、材料、プロセスなどはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれらと異なる数値、構造、材料、プロセスなどを用いてもよい。
この発明の一実施形態による色素増感型湿式太陽電池の製造方法を説明するための断面図である。 この発明の一実施形態による色素増感型湿式太陽電池の製造方法を説明するための断面図である。 この発明の一実施形態による色素増感型湿式太陽電池の製造方法を説明するための断面図である。 この発明の一実施形態による色素増感型湿式太陽電池の製造方法を説明するための断面図である。 この発明の一実施形態による色素増感型湿式太陽電池の製造方法を説明するための断面図である。 この発明の一実施形態による色素増感型湿式太陽電池の動作を説明するための断面図である。 この発明の一実施形態における環融合型ポルフィリン錯体の合成方法を説明するための略線図である。 この発明の一実施形態における環融合型ポルフィリン錯体の合成方法を説明するための略線図である。 この発明の一実施形態における環融合型ポルフィリン錯体の合成方法を説明するための略線図である。 図8に示す化合物Aの吸収スペクトルを示す略線図である。 図8に示す化合物Aの2次元NMRスペクトルを示す略線図である。 図8に示す化合物Bの吸収スペクトルを示す略線図である。 図8に示す化合物Bの2次元NMRスペクトルを示す略線図である。 図9に示す化合物Cの吸収スペクトルを示す略線図である。
符号の説明
11、13…透明導電性基板、12…半導体微粒子層、14…白金膜、15…電解質層

Claims (16)

  1. 無機半導体を用いた半導体電極を有する光電変換素子において、
    上記半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体がこの極性基を介して結合している
    ことを特徴とする光電変換素子。
  2. 上記極性基はカルボキシ基であることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子。
  3. 上記環融合型ポルフィリン錯体は一般式
    Figure 2005085659
    (ただし、RはCO2 HまたはHで少なくとも一つのRはCO2 H、Mは金属)
    で表されるものであることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子。
  4. 上記環融合型ポルフィリン錯体は
    Figure 2005085659
    で表されるものであることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子。
  5. 上記半導体電極は酸化物半導体からなることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子。
  6. 上記半導体電極は半導体微粒子からなることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子。
  7. 上記光電変換素子は太陽電池であることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子。
  8. 上記光電変換素子は光センサーであることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子。
  9. 無機半導体を用いた半導体電極を有する光電変換素子の製造方法において、
    上記半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体をこの極性基を介して結合させる工程を有する
    ことを特徴とする光電変換素子の製造方法。
  10. 無機半導体を用いた半導体電極を有する電子装置において、
    上記半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体がこの極性基を介して結合している
    ことを特徴とする電子装置。
  11. 無機半導体を用いた半導体電極を有する電子装置の製造方法において、
    上記半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体をこの極性基を介して結合させる工程を有する
    ことを特徴とする電子装置の製造方法。
  12. 無機半導体を用いた半導体電極において、
    少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体がこの極性基を介して結合している
    ことを特徴とする半導体電極。
  13. 無機半導体を用いた半導体電極の製造方法において、
    上記半導体電極に少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体をこの極性基を介して結合させる工程を有する
    ことを特徴とする半導体電極の製造方法。
  14. 一般式
    Figure 2005085659
    (ただし、RはCO2 HまたはHで少なくとも一つのRはCO2 H、Mは金属)
    で表されることを特徴とする環融合型ポルフィリン錯体。

  15. Figure 2005085659
    で表されることを特徴とする環融合型ポルフィリン錯体。
  16. 可視領域に感度を有する第1の光電変換素子と、
    無機半導体を用いた半導体電極であって、少なくとも一つの極性基を有する環融合型ポルフィリン錯体がこの極性基を介して結合しているものを有し、近赤外領域に感度を有する第2の光電変換素子とを有する
    ことを特徴とする複合光電変換装置。
JP2003317954A 2003-09-10 2003-09-10 光電変換素子の製造方法および電子装置の製造方法 Expired - Fee Related JP4561069B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003317954A JP4561069B2 (ja) 2003-09-10 2003-09-10 光電変換素子の製造方法および電子装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003317954A JP4561069B2 (ja) 2003-09-10 2003-09-10 光電変換素子の製造方法および電子装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005085659A true JP2005085659A (ja) 2005-03-31
JP4561069B2 JP4561069B2 (ja) 2010-10-13

Family

ID=34417367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003317954A Expired - Fee Related JP4561069B2 (ja) 2003-09-10 2003-09-10 光電変換素子の製造方法および電子装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4561069B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006100047A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Kyocera Corp 光電変換装置およびそれを用いた光発電装置
WO2008004580A1 (fr) 2006-07-05 2008-01-10 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Cellule solaire sensible à la coloration
JP2008248134A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Kyoto Univ 色素及びこの色素を用いた色素増感太陽電池
JP2009132657A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Sharp Corp ポルフィリン化合物、ポルフィリン系錯体および光電変換素子
WO2010029961A1 (ja) * 2008-09-10 2010-03-18 京セラ株式会社 光電変換装置
JP2014007053A (ja) * 2012-06-25 2014-01-16 Ricoh Co Ltd 機能性デバイスおよびその製造方法
CN105859729A (zh) * 2016-04-28 2016-08-17 华南理工大学 一种卟啉有机小分子阴极界面材料及其制备方法
CN111825684A (zh) * 2020-03-12 2020-10-27 同济大学 可修饰型超共轭三重熔融卟啉二聚体强双光子吸收材料及其制备

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5681716B2 (ja) * 2010-08-03 2015-03-11 富士フイルム株式会社 金属錯体色素、光電変換素子及び光電気化学電池

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000090989A (ja) * 1998-09-16 2000-03-31 Toshiba Corp 色素増感型光化学電池
JP2000353553A (ja) * 1999-06-10 2000-12-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光電変換素子および光電池
JP2002042909A (ja) * 2000-07-21 2002-02-08 Fuji Photo Film Co Ltd 光電変換素子および光電池
JP2002334728A (ja) * 2000-08-15 2002-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光電変換素子の作成方法及び光電変換素子
JP2004006380A (ja) * 2003-06-25 2004-01-08 Alps Electric Co Ltd プッシュスイッチ付回転型電気部品

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000090989A (ja) * 1998-09-16 2000-03-31 Toshiba Corp 色素増感型光化学電池
JP2000353553A (ja) * 1999-06-10 2000-12-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光電変換素子および光電池
JP2002042909A (ja) * 2000-07-21 2002-02-08 Fuji Photo Film Co Ltd 光電変換素子および光電池
JP2002334728A (ja) * 2000-08-15 2002-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光電変換素子の作成方法及び光電変換素子
JP2004006380A (ja) * 2003-06-25 2004-01-08 Alps Electric Co Ltd プッシュスイッチ付回転型電気部品

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006100047A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Kyocera Corp 光電変換装置およびそれを用いた光発電装置
WO2008004580A1 (fr) 2006-07-05 2008-01-10 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Cellule solaire sensible à la coloration
JP2008248134A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Kyoto Univ 色素及びこの色素を用いた色素増感太陽電池
JP2009132657A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Sharp Corp ポルフィリン化合物、ポルフィリン系錯体および光電変換素子
WO2010029961A1 (ja) * 2008-09-10 2010-03-18 京セラ株式会社 光電変換装置
JP2014007053A (ja) * 2012-06-25 2014-01-16 Ricoh Co Ltd 機能性デバイスおよびその製造方法
CN105859729A (zh) * 2016-04-28 2016-08-17 华南理工大学 一种卟啉有机小分子阴极界面材料及其制备方法
CN111825684A (zh) * 2020-03-12 2020-10-27 同济大学 可修饰型超共轭三重熔融卟啉二聚体强双光子吸收材料及其制备

Also Published As

Publication number Publication date
JP4561069B2 (ja) 2010-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5023866B2 (ja) 色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
Li et al. An improved perylene sensitizer for solar cell applications
JP4470370B2 (ja) 光電変換素子の製造方法
KR101245006B1 (ko) 색소증감 광전변환 소자 및 그 제조 방법 및 전자장치 및그 제조 방법 및 전자기기
JP4635473B2 (ja) 光電変換素子の製造方法及び半導体電極の製造方法
WO2011002073A1 (ja) 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
KR20080094021A (ko) 색소 증감형 광전 변환장치
JP4380779B2 (ja) 色素増感型光電変換装置
WO2010143548A1 (ja) 色素増感光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP4644818B2 (ja) 色素増感太陽電池用色素及びこの色素を用いた光電変換素子並びに色素増感太陽電池
TWI555215B (zh) 色素增感太陽能電池
JP2011204662A (ja) 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
JP5267846B2 (ja) 光電変換素子
KR20110134470A (ko) 색소 증감 태양전지, 광전 변환 소자 및 그것에 사용되는 색소
JP2012004010A (ja) 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子機器
WO2004068627A1 (ja) 光電変換素子およびその製造方法ならびに電子装置およびその製造方法ならびに半導体層およびその製造方法
JP4561069B2 (ja) 光電変換素子の製造方法および電子装置の製造方法
JP5396867B2 (ja) 光電変換素子
JP2004319130A (ja) 光電変換素子の製造方法、光電変換素子、電子装置の製造方法、電子装置、半導体微粒子層の形成方法および積層構造体
JP2004319131A (ja) 光電変換素子の製造方法、光電変換素子、電子装置の製造方法、電子装置、金属膜の製膜方法および積層構造体
JP2015115110A (ja) 色素増感太陽電池の製造方法および色素増感太陽電池
JP2007200714A (ja) 色素増感型太陽電池及びその製造方法
JP4565158B2 (ja) 酸化チタン粒子を酸化物半導体として用いた色素増感型光電変換素子及び太陽電池
JP2009081074A (ja) 色素増感光電変換素子、電解質組成物、電解質用添加剤および電子機器
JP2017045759A (ja) 色素増感太陽電池、色素増感太陽電池用電極、および、色素増感太陽電池用電極の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20041224

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060531

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100119

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20100518

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100614

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100706

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100719

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130806

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130806

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees