JP2005060182A - 水素の製造方法及びそれに用いる水素製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】触媒の存在下に沸点範囲が35℃〜320℃の範囲にある原料油と水素とを供給して水素化分解を行うことにより、炭素鎖を切断すると同時に水素化して低級飽和炭化水素の含有量の多い水素化分解ガスを生成させた後に、得られた水素化分解ガスの水蒸気改質を行うことを特徴とする。灯油やガソリン等の僻地での入手が容易な比較的長い炭素鎖を有する炭化水素類を原料油として用いても、炭素を析出させることなく、安定に水素ガスを製造することができる。
【選択図】 図1
Description
G.Ertl, H.Knozinger, J.Weitkamp(Eds.)編、「Handbook of Heterogeneous Catalysis Vol.4」、VCH-Wiley(Germay)出版, 1997年、p.1819-1826 J. R. Anderson and M. Boudert(Eds.)編、「Catalysis-science and Technology Vol.5」、Springer-Verlag Berlin Heidelbereg New York Tokyo, 1984年、p.73-93 B. E.Leach(Ed.)編、「Aplied Industrial Catalysis Vol.3」、Academic社出版, 1984年、p.337-392 G.Ertl, H.Knozinger, J.Weitkamp(Eds.)編、「Handbook of Heterogeneous Catalysis Vol.4」、VCH-Wiley(Germay)出版, 1997年、p.2017-2038
CH3−CH=CH2 → 3/2CH4 + 3/2C
このように、炭素鎖の長い飽和炭化水素を単に切断して、最終的にCH4(メタン)を得ようとすれば、同時に炭素の析出が起こると予想される。
(参考例1:水蒸気改質の温度依存性)
灯油を構成する代表としてのn−ドデカンの水蒸気改質を、500℃から800℃の間で種々変更させて触媒層に析出する炭素の析出速度に及ぼす温度の影響について求めた。
反応に先立ち、触媒を600℃に保持して水素ガスを供給して水素還元を行った。その後、触媒層を500℃〜800℃の間の所定温度に維持しつつ、SV1,800h-1で、S/C1(水蒸気/原料油中の炭素モル比)が2.5となるようにして供給した。
(参考例2:水蒸気改質の変化率)
参考例1と同様の内径8mmの石英反応管に触媒として塩基性担体ニッケル系触媒(ズードケミー触媒株式会社製 商品名:C11−NK触媒)の2cm3を充填し、600℃に保持して水素ガスを供給して水素還元を行った。
(参考例3)
内径8mmの石英反応管に、触媒として塩基性担体ニッケル系触媒(ズードケミー触媒株式会社製 商品名:C11−NK触媒)の2cm3を充填した。
(実施例1)
参考例3で得られた水素化分解ガスを分離せずにそのまま用いて次の条件で水蒸気改質を行った。
反応温度を750℃とした以外は参考例3と同一反応装置及び同一触媒を用いて同一条件にて水素化分解を行ったところ、炭素析出により反応管が閉鎖したのでの、実験を中止した。
(参考例5)
内径8mmの石英反応管に触媒としてルテニウム系触媒(ズードケミー社製 商品名:RUA触媒)の2cm3を充填し、750℃に維持しつつ、SV1,800h-1で、n−ドデカン:水(3.0:97)混合物の水蒸気改質を行った。
(実施例2)
内径8mmの石英反応管に触媒として白金0.5質量%/アルミナ触媒(アルドリッチ社製)の0.2cm3を充填し、SV18,000h-1で、n−ドデカン:水素(4.35:95.65)混合物の水蒸化分解を600〜750℃の温度で行った。
(実施例3)
内径8mmの石英反応管に触媒としてルテニウム系触媒(ズードケミー社製 商品名RUA触媒)の2cm3を充填し、SV3,600h-1で、n−ドデカン:水素(4.35:95.65)混合物の水蒸化分解を600〜750℃の温度で行った。
2:水素化分解反応部
2a:水素化分解触媒層
21:原料油供給口
22:水素ガス供給口
3:水蒸気改質反応部
3a:水蒸気改質触媒層
31:水蒸気供給口
32水蒸気改質ガス排出口
4:水素化分解及び水蒸気改質反応部
4a:水素化分解及び水蒸気改質触媒層
41,42,43:原料供給口
Claims (13)
- 触媒の存在下に沸点範囲が35℃〜320℃の範囲にある原料油と水素とを供給して水素化分解を行うことにより、炭素鎖を切断すると同時に水素化して低級飽和炭化水素の含有量の多い水素化分解ガスを生成させた後に、得られた水素化分解ガスの水蒸気改質を行うことを特徴とする水素の製造方法。
- 触媒の存在下に沸点範囲が35℃〜320℃の範囲にある原料油と水素と水蒸気とを同時に供給して水素化分解を行うことにより炭素鎖を切断すると同時に水素化して低級飽和炭化水素の含有量の多い水素化分解ガスを生成させつつ、得られた水素化分解ガスを含む原料油の水蒸気改質を行うことを特徴とする水素の製造方法。
- 前記水素化分解に供される触媒は、Ni,Pt、Pd,Ruから選択される貴金属をアルミナ又はアルカリ土類金属に担持した水素化分解触媒であることを特徴とする請求項1記載の水素の製造方法。
- 前記水蒸気改質に供される触媒は、Ni系触媒であることを特徴とする請求項1記載の水素の製造方法。
- 前記原料油は、灯油であることを特徴とする請求項1記載の水素の製造方法。
- 前記原料油は、灯油成分より炭素鎖の短い石油成分を原料油として用いることを特徴とする請求項1記載の水素の製造方法。
- 前記水素化分解ガスは、n−ドデカンを少なくとも40体積%含むことを特徴とする請求項5記載の水素の製造方法。
- 前記触媒は、Ni,Pt、Pd,Ruから選択される貴金属をアルミナ又はアルカリ土類金属で担持した触媒であることを特徴とする請求項2記載の水素の製造方法。
- 前記原料油は、灯油であることを特徴とする請求項2記載の水素の製造方法。
- 前記原料油は、灯油成分より炭素鎖の短い石油成分を原料油として用いることを特徴とする請求項2記載の水素の製造方法。
- 前記水素化分解及び前記水蒸気改質は、550℃から650℃の温度範囲内で行われることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の水素の製造方法。
- 内部に水素化分解触媒が充填された水素化分解反応部と、該水素化分解反応部により生成した水素化反応ガスの水蒸気改質を行う内部に水蒸気改質触媒が充填された水蒸気改質部とを含む水素製造装置であって、
前記水素化分解反応部は原料油の供給部と水素供給部とを備え、前記水蒸気改質反応部は、前記水素化分解反応部により生成した水素化反応ガスを供給する供給部と水蒸気供給部とを備えていることを特徴とする水素製造装置。 - 前記水蒸気改質反応部から排出されたガスの一部を前記水素供給部に循環する通路を備えたことを特徴とする請求項12記載の水素製造装置。
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