JP2005055878A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. コンタクトホールパターンと当該コンタクトホールパターンよりも寸法の小さな補助ホールパターンとが配列されたマスクを光で照明し当該マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に用いられる前記マスクの製造方法であって、
   前記補助ホールパターンの配置を、前記コンタクトホールパターンの周期と前記光の波長と前記投影光学系の開口数とに基づいて、通常の配置とずれた配置とから選択する選択ステップと、
   前記選択ステップで選択された前記補助ホールパターンの配置になるように、前記コンタクトホールパターン及び前記補助ホールパターンを前記マスクに形成する形成ステップと、を有し、
   前記通常の配置は、前記コンタクトホールパターンのうち所定のコンタクトホールから周期方向に対して垂直方向に伸ばした線と、前記補助ホールパターンのうち前記所定のコンタクトホールに最も近い所定の補助ホールと当該所定のコンタクトホールとを結ぶ線と、のなす角度が０度になる配置であり、
   前記ずれた配置は、前記角度が０度より大きくかつ４５度より小さくなる配置であることを特徴とする製造方法。
2. 前記選択ステップでは、前記コンタクトホールパターンの半周期を以下の式で表されるｋ１で換算した場合に、当該ｋ１換算値に基づいて、
   前記補助ホールパターンの配置を、前記通常の配置と前記ずれた配置とから選択することを特徴とする請求項１記載の製造方法。
   ｋ１＝ＨＰ（ＮＡ／λ）
   但し、ＨＰ：前記コンタクトホールパターンの半周期 λ：前記光の波長 ＮＡ：前記投影光学系の開口数
3. 前記選択ステップでは、前記ｋ１換算値が０．２５乃至０．３２の場合に、前記通常の配置を選択することを特徴とする請求項２記載の製造方法。
4. 前記選択ステップでは、前記ｋ１換算値が０．３５乃至０．３８の場合に、前記ずれた配置を選択することを特徴とする請求項２記載の製造方法。
5. コンタクトホールパターンと当該コンタクトホールパターンよりも寸法の小さな補助ホールパターンとが配列されたマスクを光で照明し当該マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に用いられる前記マスクの設計方法であって、
   前記補助ホールパターンの配置を、前記コンタクトホールパターンの周期と前記光の波長と前記投影光学系の開口数とに基づいて、通常の配置とずれた配置とから選択する選択ステップを有し、
   前記通常の配置は、前記コンタクトホールパターンのうち所定のコンタクトホールから周期方向に対して垂直方向に伸ばした線と、前記補助ホールパターンのうち前記所定のコンタクトホールに最も近い所定の補助ホールと当該所定のコンタクトホールとを結ぶ線と、のなす角度が０度になる配置であり、
   前記ずれた配置は、前記角度が０度より大きくかつ４５度より小さくなる配置であることを特徴とする設計方法。
6. 請求項５記載の設計方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
7. コンタクトホールパターンが解像され、且つ、補助ホールパターンの解像が抑制されるように請求項１乃至４のいずれか一項に記載の製造方法で製造したマスクを照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影することによって、前記被露光体を露光することを特徴とする露光方法。