JP2004012932A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法であって、
   焦点深度が許容範囲内となるように、前記被露光体を光軸方向に移動させながら複数回露光するステップを有することを特徴とする方法。
2. 前記マスクは、前記補助パターンの中で前記所望のパターンに隣接するパターンの寸法が他の補助パターンの寸法よりも小さいことを特徴とする請求項１記載の方法。
3. 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適した前記マスクの製造方法であって、
   前記所望のパターンの寸法を、第１の方向において当該第１の方向と直交する第２の方向の寸法よりも長く設定するステップと、
   前記補助パターンの寸法を、前記第１の方向において当該第１の方向と直交する第２の方向の寸法よりも長く設定するステップとを有することを特徴とする方法。
4. 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適した前記マスクの製造方法であって、
   複数種類の形状が異なる所望のパターンが存在する場合に２種類以上の形状の異なる前記補助パターンを配置することを特徴とする方法。
5. 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適した前記マスクの製造方法であって、
   挿入される２つの補助パターンの重なった場合又は隣接した場合は、前記２つの補助パターンを設ける代わりに、前記２つの補助パターンの重心を重心とする補助パターンを配置することを特徴とする方法。
6. 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適したマスクの製造方法であって、
   解像度をＲ、露光光の波長をλ、投影光学系の開口数をＮＡ、ｋ１＝Ｒ／（λ／ＮＡ）とし、挿入される２つのダミーパターンの最小頂点間隔がｋ１換算で０．２０以下になった場合に、前記２つの補助パターンを設ける代わりに、前記２つの補助パターンの重心を重心とする一の補助パターンを配置することを特徴とする方法。
7. 所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法の小さな補助パターンとが配列されたマスクを、前記所望のパターンが解像され、かつ、前記補助パターンの解像が抑制されるように、複数種類の光で照明して前記マスクを経た光を被露光体に投影光学系を介して投影する露光方法に適したマスクの製造方法であって、
   前記所望のパターンを、直交２方向のいずれかの方向で整列する少なくとも２つのコンタクトホールを有する周期パターンと、前記直交２方向のいずれの方向においても整列する他のコンタクトホールを有しない孤立パターンとに分類するステップと、
   前記周期パターンに対しては、前記少なくとも２つのコンタクトホールの間隔としての周期に基づいて前記補助パターンを前記整列している方向に配置するステップと、
   前記孤立パターンに対しては任意の周期に基づいて前記補助パターンを配置する第２のステップとを有することを特徴とする方法。
8. 前記孤立パターンに対して前記補助パターンを配置するステップは、
   前記孤立パターンから所定の距離の範囲内に周期性パターンが存在するかどうかを判断するステップと、
   前記判断ステップが存在すると判断した場合に前記周期性パターンの周期に合わせて前記補助パターンを配置することを特徴とするステップと、
   前記判断ステップが存在しないと判断した場合に前記孤立パターンの寸法をハーフピッチにして前記補助パターンを配置するステップとを有することを特徴とする請求項７記載の方法。
9. 前記周期パターンは、第１の方向に周期性を有する第１の周期パターンと、前記第１の方向に平行な第２の方向に周期性を有する第２のパターンを含み、前記第１及び第２の周期パターンを構成するコンタクトホールはいずれも前記第１及び第２の方向に垂直な方向に他のコンタクトホールが存在しない場合に、
   前記第１及び第２の周期パターンの間に、前記第１及び第２の方向に垂直な方向に関する前記第１及び第２の周期パターン間隔を周期として、前記補助パターンを配置するステップを更に有することを特徴とする請求項７記載の方法。
10. 前記周期パターンを構成するコンタクトホールはいずれも前記周期パターンが周期性を有する第１の方向に垂直な第２の方向に他のコンタクトホールが存在しない場合に、
    前記周期パターンと前記孤立パターンの間に、前記第２の方向に関する前記第１の方向と当該第１の方向と平行で前記孤立パターンを通る第３の方向との間隔を周期として利用して、前記補助パターンを配置するステップを更に有することを特徴とする請求項７記載の方法。
11. 請求項３乃至１０のいずれか一項記載の方法を実行するためのプログラム。
12. 第１の所望のパターンと、
    前記第１の所望のパターンの近くに配置され、前記第１の所望のパターンよりも寸法が小さく、前記第１のパターンと略相似な形状を有する第１の補助パターンと、
    前記第１の所望のパターンと形状が異なる第２の所望のパターンと、前記第２の所望のパターンの近くに配置され、前記第２の所望のパターンよりも寸法の小さく、前記第２のパターンと略相似な形状を有する第２の補助パターンと、を有し、
    前記第１の補助パターンは、前記第１の所望のパターンの周辺に第１の周期で複数配列されており、前記第２の補助パターンは、前記第２の所望のパターンの周辺に第２の周期で複数配列されていることを特徴とするマスク。
13. 請求項１２記載のマスクを用いて前記被露光体を露光するステップと、
    前記露光された被露光体に所定のプロセスを行うステップとを有するデバイス製造方法。